JPS6393892A - 電気メツキライン通電ロ−ルの研摩装置 - Google Patents
電気メツキライン通電ロ−ルの研摩装置Info
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- JPS6393892A JPS6393892A JP23915086A JP23915086A JPS6393892A JP S6393892 A JPS6393892 A JP S6393892A JP 23915086 A JP23915086 A JP 23915086A JP 23915086 A JP23915086 A JP 23915086A JP S6393892 A JPS6393892 A JP S6393892A
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- JP
- Japan
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- roll
- conductive roll
- plating liquid
- steel strip
- electrode
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- Pending
Links
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電気メツキライン通電ロールの研摩装置に関
するものである。
するものである。
〔従来技術及び発明の解決しようとする問題点〕電気メ
ッキにおいては、通電ロールの鋼帯通過位置の摩耗が著
しく、銅帯の巾サイズを中挟から巾広のものへ変更する
と通電ロールの摩耗部と非摩耗部での段差が鋼帯に転写
され、鋼帯長手方向に線状の疵が発生し、品質を著しく
損うことになる。その解決策として通電ロールの鋼板通
過部以外の部分を電解研摩することが開示されている（
特開昭６ｌ−５９７）。しかし、この電解研摩による効
果を最大限に発揮する為には迅速かつ確実に電解除去す
る装置が要求される０本発明は、この様な要求を有利に
満足する為になされたものである。
ッキにおいては、通電ロールの鋼帯通過位置の摩耗が著
しく、銅帯の巾サイズを中挟から巾広のものへ変更する
と通電ロールの摩耗部と非摩耗部での段差が鋼帯に転写
され、鋼帯長手方向に線状の疵が発生し、品質を著しく
損うことになる。その解決策として通電ロールの鋼板通
過部以外の部分を電解研摩することが開示されている（
特開昭６ｌ−５９７）。しかし、この電解研摩による効
果を最大限に発揮する為には迅速かつ確実に電解除去す
る装置が要求される０本発明は、この様な要求を有利に
満足する為になされたものである。
本発明は、通電ロール巾方向に電解研摩器を移動可能に
設け、該研摩器内に電極を付設し、かつ該研摩器内にメ
ッキ液導入管を連接した電気メツキライン通電ロールの
研摩装はに関するものである。
設け、該研摩器内に電極を付設し、かつ該研摩器内にメ
ッキ液導入管を連接した電気メツキライン通電ロールの
研摩装はに関するものである。
次に本発明の実施例を第１図、第２図により説明すると
鋼帯１を水平に移動し、通電ロール２゜バックアップロ
ール３を介してメッキ液４と接触し鋼帯１にメッキする
に際し、通電ロール巾方向に繰返し往復移動する装置５
に連接されたメッキ液保持体６内にメッキ液を充満させ
るだけのメッキ液を導管７より流入させ１通電ロール２
を陽極、電極８を陰極と成る採材流器９を配置し、図示
のごとく回路を構成する。しかして、電極８が通電ロー
ルの鋼帯通過位置にある時は電流密度を高く、鋼帯通過
部では、電流密度を低く制御することにより通電ロール
の巾方向に生じる摩耗による段差を防止することができ
る。
鋼帯１を水平に移動し、通電ロール２゜バックアップロ
ール３を介してメッキ液４と接触し鋼帯１にメッキする
に際し、通電ロール巾方向に繰返し往復移動する装置５
に連接されたメッキ液保持体６内にメッキ液を充満させ
るだけのメッキ液を導管７より流入させ１通電ロール２
を陽極、電極８を陰極と成る採材流器９を配置し、図示
のごとく回路を構成する。しかして、電極８が通電ロー
ルの鋼帯通過位置にある時は電流密度を高く、鋼帯通過
部では、電流密度を低く制御することにより通電ロール
の巾方向に生じる摩耗による段差を防止することができ
る。
すなわち、電解研摩器が通電ロールの鋼帯通板部以外に
位置する時は、電解研摩電流密度を高く、鋼帯通過部に
位置する時は電流密度を低く制御することにより、通電
ロール巾方向の摩耗による段差を防止することができる
。電解研摩の為の電流密度はロールの損耗速度に応じて
選定すればよく、また、本装置による研摩では電解液と
して特別なものを使用するのではなく、メッキ液を使用
していること、及び電解により通電ロールより生じる全
屈イオンは、研摩器内の電極に電析することにより、不
純物イオンによるメッキ液の汚染防止からも有効なもの
である。
位置する時は、電解研摩電流密度を高く、鋼帯通過部に
位置する時は電流密度を低く制御することにより、通電
ロール巾方向の摩耗による段差を防止することができる
。電解研摩の為の電流密度はロールの損耗速度に応じて
選定すればよく、また、本装置による研摩では電解液と
して特別なものを使用するのではなく、メッキ液を使用
していること、及び電解により通電ロールより生じる全
屈イオンは、研摩器内の電極に電析することにより、不
純物イオンによるメッキ液の汚染防止からも有効なもの
である。
更に、電解研摩器外周部に通電性のよいパフ等を設け、
通電ロールに接触することにより、機械的研摩作用も加
わりより効果的である。本発明を適用することのできる
電気メツキラインとしては、亜鉛メッキ、鉄−亜鉛合金
メツキライン等があり、横型セル、竪型セル共に有効で
ある。
通電ロールに接触することにより、機械的研摩作用も加
わりより効果的である。本発明を適用することのできる
電気メツキラインとしては、亜鉛メッキ、鉄−亜鉛合金
メツキライン等があり、横型セル、竪型セル共に有効で
ある。
水沫により、メッキを行った鋼板のサイズにより異った
位置に発生する通電ロールの摩耗による段差を防止する
ことができる。従って、巾サイズ変更により生じる線状
の疵による品質の低下防止と同時に煩雑なロール取替及
びそれによる操業中断が軽減され、更に鋼帯の巾サイズ
の変更が自由に行えることによる操業管理の容易化によ
り、長期に渡り安定した製造が可能となる。
位置に発生する通電ロールの摩耗による段差を防止する
ことができる。従って、巾サイズ変更により生じる線状
の疵による品質の低下防止と同時に煩雑なロール取替及
びそれによる操業中断が軽減され、更に鋼帯の巾サイズ
の変更が自由に行えることによる操業管理の容易化によ
り、長期に渡り安定した製造が可能となる。
第１図は本発明を示す側面説明図、第２図は研摩器の拡
大説明図である。 １：鋼帯 ２：通電ロール ３：バックアップロール ４：メッキ液 ５：通電ロール巾方向移動装置 ６：メッキ液保持体 ７：メッキ液導入管 ８：電線 ９：整流器
大説明図である。 １：鋼帯 ２：通電ロール ３：バックアップロール ４：メッキ液 ５：通電ロール巾方向移動装置 ６：メッキ液保持体 ７：メッキ液導入管 ８：電線 ９：整流器
Claims (1)
- 通電ロール巾方向に電解研摩器を移動可能に設け、該研
摩器内に電極を付設し、かつ該研摩器内にメッキ液導入
管を連接した電気メッキライン通電ロールの研摩装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23915086A JPS6393892A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 電気メツキライン通電ロ−ルの研摩装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23915086A JPS6393892A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 電気メツキライン通電ロ−ルの研摩装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6393892A true JPS6393892A (ja) | 1988-04-25 |
Family
ID=17040494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23915086A Pending JPS6393892A (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 電気メツキライン通電ロ−ルの研摩装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6393892A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100441389B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2004-07-22 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 전기도금장치 |
| KR100963046B1 (ko) | 2003-05-09 | 2010-06-14 | 주식회사 포스코 | 수평형 도금조에서의 전기 저항 감소장치 |
| US7942966B2 (en) | 1998-05-15 | 2011-05-17 | Apollo Diamond, Inc. | Method of growing boron doped single crystal diamond in a plasma reactor |
| US8591856B2 (en) | 1998-05-15 | 2013-11-26 | SCIO Diamond Technology Corporation | Single crystal diamond electrochemical electrode |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP23915086A patent/JPS6393892A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7942966B2 (en) | 1998-05-15 | 2011-05-17 | Apollo Diamond, Inc. | Method of growing boron doped single crystal diamond in a plasma reactor |
| US8591856B2 (en) | 1998-05-15 | 2013-11-26 | SCIO Diamond Technology Corporation | Single crystal diamond electrochemical electrode |
| KR100441389B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2004-07-22 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 전기도금장치 |
| KR100963046B1 (ko) | 2003-05-09 | 2010-06-14 | 주식회사 포스코 | 수평형 도금조에서의 전기 저항 감소장치 |
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