JPS59227363A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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Publication number
JPS59227363A
JPS59227363A JP58100911A JP10091183A JPS59227363A JP S59227363 A JPS59227363 A JP S59227363A JP 58100911 A JP58100911 A JP 58100911A JP 10091183 A JP10091183 A JP 10091183A JP S59227363 A JPS59227363 A JP S59227363A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
onto
rotary table
radial direction
roller
swung
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58100911A
Other languages
English (en)
Inventor
Takaharu Saito
斉藤 敬治
Shigeru Fujita
滋 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP58100911A priority Critical patent/JPS59227363A/ja
Publication of JPS59227363A publication Critical patent/JPS59227363A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明はワークを精密に研曙する研磨装置に関するもの
である。
(従来技術) 従来顕微鏡観察用試料のような精密(tl)磨を行う装
置は、研磨紙を取り付けた回転テーブルにワークを手動
により押圧するか、或いは機械で押圧していたが、加圧
が一定でなく、又回転テーブルに固着したゴム板とワー
クの間の液中に溶かした砥粒により研磨しているので砥
粒が場所により多くなったり少くなったりするので厚み
の均一化、表面粗さの均一化ができないという欠点があ
った。
(目的) 本発明はワークに対して一定の加圧を与え、ラッピング
フィルムを用いて砥粒ムラをなくし厚みの均一化、表面
粗さの均−fヒを計ることを目的としている。
(構成) 本発明の構成について、以下一実施例に基づいて説明す
る。
添付図面に示した一実施例について本発明の詳細な説明
する。lは上面にゴム板2を固着した回転テーブルで、
支台3のモーター4により、プーリー5.6、ベルト7
を介して駆動されるようになっている。8は回転テーブ
ル1外周に配設した水受、9は冷却水ノズルである。1
0はラッピングユニットで下方に研いロー ラ11が、
−ヒ方左右に巻き取り軸12、送り軸18が、中間にガ
イドローラ14.15が取り付けられている。研磨ロー
ラ11の軸受J6は昇降紐17に固定され、ハンドル1
8の回転によりウオーム19、ウオームホイールzOを
介して螺子棒21が回動し、昇降紐17をガイドレール
22に沿って上下に摺動する。ラッピングユニット10
はモーター23に駆動される送りねじ24によりガイド
レール25に沿って水平に半径方向に揺動し得るように
なっている。26は送り軸18に巻回されたラッピング
フィルムで研磨ローラ11の下半分に巻回して巻き取り
軸]−2に巻かれ、ガイドローラ14.15が移動して
ラッピングフィルム26に張力を与えている。27は巻
き取り軸21及び研磨ローラ11の1駆動モーターであ
る。
次に作用について説明する。回転テーブル]のゴム板2
に円盤状ワークを載置し、モーター4をオンして回転テ
ーブル1を所定速度で回転する。次いでモーター27を
回転して巻き取り軸12及び研e−−ラ11を駆動し、
ラッピングフィルム26を巻き取っている。次にハンド
ル18を回転して昇降片17を下降し、研磨ローラJ1
によってラッピングフィルム26を所定の圧力で回転し
ている円盤状ワークに圧接している。次いでモーター2
3をオンしてラッピングユニット10を半径方向に揺動
して円盤状ワークを研磨する。この揺動速度は適宜つ寸
みにより調整し得るようになっている。
(効果) 本発明によるとラッピングフィルムを移動させ乍ら研磨
ローラで回転している円盤「ワークに戟械力で押圧し、
半径方向に揺動するようになっているので円盤ワークの
厚みを均一に、表面粗さを均一に精密研磨することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例平面図、第2図は第1図の左
側面図である。 1・・・回転テーブル、4・・・モーター、10・・・
ラッピングユニット、11、・・・研n o −ラ、1
2・・・巻き取り軸、13・・・送り軸、17・・・昇
降b、21・・・螺子棒、22・・・ガイドレール、2
3・・・モーター、25・・・ガイドレール、26・・
・ラッピングフィルム、27・・・モーター。 特許出願人  株式会社 リ コ −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ワークを上面に取り付ける如くなした回転テーブル上方
    に研鳴ローラを配設し、送り軸に巻回したラッピングフ
    ィルムを研磨ローラの下半部に巻回して巻き取り軸に巻
    き取る如くなし、研磨ローラを上、下動し得る如くなす
    と共に研磨ローラと巻き送り軸と、巻き取り軸を取り付
    けだラッピングユニットを回転テーブル半径方向に揺動
    し得る如くなしだ研磨装置。
JP58100911A 1983-06-08 1983-06-08 研磨装置 Pending JPS59227363A (ja)

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JP58100911A JPS59227363A (ja) 1983-06-08 1983-06-08 研磨装置

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JP58100911A JPS59227363A (ja) 1983-06-08 1983-06-08 研磨装置

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JPS59227363A true JPS59227363A (ja) 1984-12-20

Family

ID=14286519

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09155723A (ja) * 1995-12-06 1997-06-17 Nec Corp 半導体基板研磨装置
JP2017013222A (ja) * 2015-06-29 2017-01-19 パナソニック株式会社 加工装置及び加工方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09155723A (ja) * 1995-12-06 1997-06-17 Nec Corp 半導体基板研磨装置
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