JPS59219251A - 液晶物質及び液晶組成物 - Google Patents
液晶物質及び液晶組成物Info
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- JPS59219251A JPS59219251A JP7859483A JP7859483A JPS59219251A JP S59219251 A JPS59219251 A JP S59219251A JP 7859483 A JP7859483 A JP 7859483A JP 7859483 A JP7859483 A JP 7859483A JP S59219251 A JPS59219251 A JP S59219251A
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- liquid crystal
- phase
- formula
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な液晶物質及び該液晶物質を含有する液晶
組成物に関し、更に詳しくは光学活性なアルキルオキシ
基を有するカイ2ル液晶物質及びそれらを含有するカイ
ラル液晶組成物に関する。
組成物に関し、更に詳しくは光学活性なアルキルオキシ
基を有するカイ2ル液晶物質及びそれらを含有するカイ
ラル液晶組成物に関する。
現在、液晶表示素子としてはT N (Twisted
Nematic )型衣示方式が最も広く用いられてい
るが、応答速度の点に於て発光型表示素子(エレクトロ
ルミネッセンス、プラズマディスプレイ等)と比較して
劣っており、この点に於ける改善は遣々試みられている
Kも拘らず、大巾な改善の可能性はあまり残っていない
様である。
Nematic )型衣示方式が最も広く用いられてい
るが、応答速度の点に於て発光型表示素子(エレクトロ
ルミネッセンス、プラズマディスプレイ等)と比較して
劣っており、この点に於ける改善は遣々試みられている
Kも拘らず、大巾な改善の可能性はあまり残っていない
様である。
そのためTN型表示素子に代わる別の原理による液晶衣
示糞予装置が種々試みられているが、その一つに強誘電
性液晶を利用する表示方式がある( N、A、 01a
rkら: Applied Phys、 1ett、
、 36゜899(1980))。この方式は強誘電性
液晶のカイラルスメクチックC相(以下SC*相と略称
する)或はカイラルスメクチックH相(以下8H*相と
略称する)を利用するもので、それが室温付近にあるも
のが望ましい。本発明者らは、この表示方式に利用され
るに適した液晶物質の開発を主たる目的として、光学活
性基を含む液晶物質を徨々探索して本発明に到達した。
示糞予装置が種々試みられているが、その一つに強誘電
性液晶を利用する表示方式がある( N、A、 01a
rkら: Applied Phys、 1ett、
、 36゜899(1980))。この方式は強誘電性
液晶のカイラルスメクチックC相(以下SC*相と略称
する)或はカイラルスメクチックH相(以下8H*相と
略称する)を利用するもので、それが室温付近にあるも
のが望ましい。本発明者らは、この表示方式に利用され
るに適した液晶物質の開発を主たる目的として、光学活
性基を含む液晶物質を徨々探索して本発明に到達した。
即ち本発明は一般式
(但し上式に於て、mはo、1又は2であり、R*は光
学活性アルキル基を示し、−σXは一〇>−(1,4−
フェニレン基)又は−>(1,4−)ランス置換シクロ
ヘキシル基)ヲ示し、又は炭素数1〜1日の直鎖又は分
岐アルキル基又はアルコキシ基ヲ示ス) で表わされる化合物及びそれを含有する液晶組成物であ
る。
学活性アルキル基を示し、−σXは一〇>−(1,4−
フェニレン基)又は−>(1,4−)ランス置換シクロ
ヘキシル基)ヲ示し、又は炭素数1〜1日の直鎖又は分
岐アルキル基又はアルコキシ基ヲ示ス) で表わされる化合物及びそれを含有する液晶組成物であ
る。
この(1)式の化合物にはSB相(スメクチックB相)
のみを示すもの、SC*相(カイラルスメクチック相)
、SA相(スメクチックA相)。
のみを示すもの、SC*相(カイラルスメクチック相)
、SA相(スメクチックA相)。
ah相(コレステリック相)の3相を示すもの。
SC*相とch相を示すもの、SA相とCh相を示すも
のなどがあり、物性的には極めて多彩な液晶相を呈する
一群の化合物である。
のなどがあり、物性的には極めて多彩な液晶相を呈する
一群の化合物である。
(1)式に於けるR*、即ち光学活性アルキル基として
は、現在のところ工業的に容易に入手し得る原料として
光学活性2−メチルブチルアルコール、次いで光学活性
2−オクタツールがある故、2−メチルブチル基及び2
−オクチル基が好適である。
は、現在のところ工業的に容易に入手し得る原料として
光学活性2−メチルブチルアルコール、次いで光学活性
2−オクタツールがある故、2−メチルブチル基及び2
−オクチル基が好適である。
本発明の化合物の中でも特に重要な物質は強誘電性液晶
を用いる表示に適するSC*相を呈するものである。即
ち、(1)式でR*が2−メチルブチル、 −(EΣが
−GΣ9mが1又は2の化合物で、Xが炭素数5〜18
の直鎖のアルキル基又はアルコキシ基のものがそれに該
当するものである。これらの化合物は強誘電性を有する
sa*相の存在する温度より上の温度に於てはSA相を
呈しないでコレステリック相(Ch相)を呈する。この
ことは強誘電性液晶を用いる表示素子に使用する場合に
特に好ましいことである。その理由の1つは表示素子を
製作する際に、コレステリック状態で液晶を配向させ、
次いで冷却して、他の6相を経由することなく直接SC
*相を生成させることができ、従って高い均一性をもっ
た配向液晶相を得ることが容易であるということである
。又もう一つの理由としては、SC*相より高い温度に
SA相がある場合よりもSA相がない場合の方がSC*
相のら旋釉の方向の、温度変化が少く、表示のコントラ
ストの温度変化が無視できる程度に小さくなるというこ
とがあげられる。SC*相の上の温度領域に於てSA相
を呈することなく直接にコレステリック相を呈する物質
としては次の(II)式の化合物が知られている( G
、W、 Grayら: Mob、 0ryet、 Li
q、 0ryst。
を用いる表示に適するSC*相を呈するものである。即
ち、(1)式でR*が2−メチルブチル、 −(EΣが
−GΣ9mが1又は2の化合物で、Xが炭素数5〜18
の直鎖のアルキル基又はアルコキシ基のものがそれに該
当するものである。これらの化合物は強誘電性を有する
sa*相の存在する温度より上の温度に於てはSA相を
呈しないでコレステリック相(Ch相)を呈する。この
ことは強誘電性液晶を用いる表示素子に使用する場合に
特に好ましいことである。その理由の1つは表示素子を
製作する際に、コレステリック状態で液晶を配向させ、
次いで冷却して、他の6相を経由することなく直接SC
*相を生成させることができ、従って高い均一性をもっ
た配向液晶相を得ることが容易であるということである
。又もう一つの理由としては、SC*相より高い温度に
SA相がある場合よりもSA相がない場合の方がSC*
相のら旋釉の方向の、温度変化が少く、表示のコントラ
ストの温度変化が無視できる程度に小さくなるというこ
とがあげられる。SC*相の上の温度領域に於てSA相
を呈することなく直接にコレステリック相を呈する物質
としては次の(II)式の化合物が知られている( G
、W、 Grayら: Mob、 0ryet、 Li
q、 0ryst。
37(1976) 189 )。
しかし、上記の化合物が表示素子用として好適な強誘電
性液液材料であるか否かは示されていない。又本発明者
らが先に出願した(特願昭58−64Q号)次の(切代
の化合物はすべてSC*相の上の温度でSA相を有する
。
性液液材料であるか否かは示されていない。又本発明者
らが先に出願した(特願昭58−64Q号)次の(切代
の化合物はすべてSC*相の上の温度でSA相を有する
。
(但しm=1でXが炭素数4〜18のアルコキシ基、又
はm=2でXが炭素数1〜18のアルコキシ基又はアル
キル基) 次に(1)弐に於てR*が2−メチルブチル、 −<E
)−以下のアルコキシ基である場合はSC*相を呈する
温度領域は低下し、実際・上コレステリック相のみが認
められる様になる。例えばXがブトキシ基又は光学活性
2−メチルブチルオキシ基である化合物は、これらをネ
マチック液晶に添加することによって捩れた構造を誘起
する能力を有する。捩れた構造を有するネマチック液晶
、即ちカイラルネマチック液晶はTN型嚢示素子のいわ
ゆるリバース・ドメイン(reverse domai
nmしま模様)を生成することがないのでリバース・ド
メイン生成の防止剤として使用できる。即ちこれらをネ
マチック液晶に対して0.05〜3重量−程度添加する
ことによって分子に一定方向へのねじり力を与え、リバ
ース・ドメインは解消される。
はm=2でXが炭素数1〜18のアルコキシ基又はアル
キル基) 次に(1)弐に於てR*が2−メチルブチル、 −<E
)−以下のアルコキシ基である場合はSC*相を呈する
温度領域は低下し、実際・上コレステリック相のみが認
められる様になる。例えばXがブトキシ基又は光学活性
2−メチルブチルオキシ基である化合物は、これらをネ
マチック液晶に添加することによって捩れた構造を誘起
する能力を有する。捩れた構造を有するネマチック液晶
、即ちカイラルネマチック液晶はTN型嚢示素子のいわ
ゆるリバース・ドメイン(reverse domai
nmしま模様)を生成することがないのでリバース・ド
メイン生成の防止剤として使用できる。即ちこれらをネ
マチック液晶に対して0.05〜3重量−程度添加する
ことによって分子に一定方向へのねじり力を与え、リバ
ース・ドメインは解消される。
一方、(1)式に於て−0750=の化合物はsa*の
代りKSA相を呈する強い傾向を有する。
代りKSA相を呈する強い傾向を有する。
又、(■)弐に於てmが00化合物はmが1又は2のも
のに比してSC*相を呈する温度が低温域にあり、かつ
狭いという欠点はめるが、融点も低いためsa*液晶組
成物の氷結点を低下させ、sa*液晶温度領域の下限の
拡大に有効である。
のに比してSC*相を呈する温度が低温域にあり、かつ
狭いという欠点はめるが、融点も低いためsa*液晶組
成物の氷結点を低下させ、sa*液晶温度領域の下限の
拡大に有効である。
sa*液晶組成物を構成する場合、(■)式の複数の化
合物のみより構成することも可能であり、又(I)式の
化合物と他のスメクチック液晶と混合してSC*相を呈
する液晶組成物を製造することも可能である。
合物のみより構成することも可能であり、又(I)式の
化合物と他のスメクチック液晶と混合してSC*相を呈
する液晶組成物を製造することも可能である。
SC*相の光スイツチング効果を表示素子として応用す
る場合TN表示方式にくらべて3つのすぐれた特徴があ
る。第1の特徴は非常に高速で応答し、その応答時間は
通常のTl+表示方式の素子と比較す原2、応答速度は
し100以下である。第2の特徴はメモリー効果がある
ことであり、上記の高応答性とあいまって、時分割駆動
が容易である。第3の特徴はTl1表示方式で濃淡の階
調をとるには、印加電圧を調節して行なうが、しきい値
電圧の温度依存性や応答速度の電圧依存性などの難問が
ある。しかしSC*相の光スーイツチング効果を応用す
る場合には極性の反転時間を調節することにより、容易
に階調を得ることができ、グラフィック表示に非常に適
している。
る場合TN表示方式にくらべて3つのすぐれた特徴があ
る。第1の特徴は非常に高速で応答し、その応答時間は
通常のTl+表示方式の素子と比較す原2、応答速度は
し100以下である。第2の特徴はメモリー効果がある
ことであり、上記の高応答性とあいまって、時分割駆動
が容易である。第3の特徴はTl1表示方式で濃淡の階
調をとるには、印加電圧を調節して行なうが、しきい値
電圧の温度依存性や応答速度の電圧依存性などの難問が
ある。しかしSC*相の光スーイツチング効果を応用す
る場合には極性の反転時間を調節することにより、容易
に階調を得ることができ、グラフィック表示に非常に適
している。
表示方法としては、2つの方式が考えられ、1つの方法
は2枚の偏光子を使用する複層折型、他の1つの方法は
二色性色素を使用するゲストホスト型である。SC*相
は自発分極をもつため、印加電圧の極性を反転すること
Kより、らせん軸を回転軸として分子が反転する。SC
*相を有する液晶組成物を液晶分子が電極面に平行にな
らぶように配向処理を施した液晶表示セルに注入し、液
晶分子のダイレクタ−と一方の偏光面を平行になるよう
に配置した2枚の偏光子の間に該液晶セルをはさみ、電
圧を印加して、極性を反転することにより、明視野およ
び暗視野(偏光子の対向角度により決まる)が得られる
。
は2枚の偏光子を使用する複層折型、他の1つの方法は
二色性色素を使用するゲストホスト型である。SC*相
は自発分極をもつため、印加電圧の極性を反転すること
Kより、らせん軸を回転軸として分子が反転する。SC
*相を有する液晶組成物を液晶分子が電極面に平行にな
らぶように配向処理を施した液晶表示セルに注入し、液
晶分子のダイレクタ−と一方の偏光面を平行になるよう
に配置した2枚の偏光子の間に該液晶セルをはさみ、電
圧を印加して、極性を反転することにより、明視野およ
び暗視野(偏光子の対向角度により決まる)が得られる
。
一方ゲスト・ホストaで動作する場合には、印加電圧の
極性を反転することにより明視野及び着色視野(偏光板
の配置により決まる)t−得ることができる。
極性を反転することにより明視野及び着色視野(偏光板
の配置により決まる)t−得ることができる。
一般にスメクチック状態で液晶分子をガラス壁面に平行
に配向させることは基がしく、数十キロガウス以上の磁
場中で等方性液体から非常にゆっくりと(1℃〜2℃/
hr )冷却することにより、液晶分子を配向させて
いるが、コレステリック相を有する液晶物質では磁場の
代わりに50V−100’7の直流電圧を印加しなから
1 ’C/ minの冷却速度で冷却することにより、
容易に均一に配向したモノドメイン状態を得ることがで
きる。
に配向させることは基がしく、数十キロガウス以上の磁
場中で等方性液体から非常にゆっくりと(1℃〜2℃/
hr )冷却することにより、液晶分子を配向させて
いるが、コレステリック相を有する液晶物質では磁場の
代わりに50V−100’7の直流電圧を印加しなから
1 ’C/ minの冷却速度で冷却することにより、
容易に均一に配向したモノドメイン状態を得ることがで
きる。
次に本発明の(1)式の化合物の製造法について述べる
と、ま−j”4.4’−ジヒドロキシビフェニルを、光
学活性アルキル−・ライド又は光学活性アルキルp−ト
ルエンスルフォン酸エステルで通常の方法でモノエーテ
ル化することによって4.4′−ジヒドロキシジフェニ
ルのモノエーテル次に、これをピリジンで代弄される塩
基性溶媒中で、最終目的物に応じて、夫々脂肪酸−・ラ
イド、クロル蟻酸エステル、p−アルキル安息香酸ハラ
イド、p−アルコキノ安息香酸−・ライド、トランス−
4−アルチルシクロヘキサンカルボン酸ハライド、4′
−アルキル−4−ビフェニルカルボン酸ハライド、4′
−アルコキシ−4−ビフェニルカルボン酸ハライドなど
を作用させることにより目的物が製造される。この様に
して得られた(1)式の化合物の相転移温度を第1弐に
示す。尚、同表に於てR*はすべて光学活性2−メチル
ブチル基である。
と、ま−j”4.4’−ジヒドロキシビフェニルを、光
学活性アルキル−・ライド又は光学活性アルキルp−ト
ルエンスルフォン酸エステルで通常の方法でモノエーテ
ル化することによって4.4′−ジヒドロキシジフェニ
ルのモノエーテル次に、これをピリジンで代弄される塩
基性溶媒中で、最終目的物に応じて、夫々脂肪酸−・ラ
イド、クロル蟻酸エステル、p−アルキル安息香酸ハラ
イド、p−アルコキノ安息香酸−・ライド、トランス−
4−アルチルシクロヘキサンカルボン酸ハライド、4′
−アルキル−4−ビフェニルカルボン酸ハライド、4′
−アルコキシ−4−ビフェニルカルボン酸ハライドなど
を作用させることにより目的物が製造される。この様に
して得られた(1)式の化合物の相転移温度を第1弐に
示す。尚、同表に於てR*はすべて光学活性2−メチル
ブチル基である。
第1表
注a)結晶体として得ることかで・きなかったので融点
不明。
不明。
上衣に於て工は等方性液体相(透明相)を示し。
各相の欄の・及びその右側の数字は、その相から右側の
相への相転移温度を示し、−はその相を示さないことを
示す。又()rI′iモノトロピック相転移温度である
ことを示す。
相への相転移温度を示し、−はその相を示さないことを
示す。又()rI′iモノトロピック相転移温度である
ことを示す。
以下実施例により本発明の化合物及びそれを含む液晶組
成物につき更に詳細に説明する。
成物につき更に詳細に説明する。
実施例1(4’−(2−メチルブチルオキシ)−4−n
−ペンタノイルオキシピフエニ# ((I)式に於て
X= n4”9 T m= OrR*=2メチルブチル
基のもの)の製造〕(114’−(2−メチルブチルオ
キシ)−4−ヒドロキシビフェニルのHa 500 ?
(D 4,4’−ジヒドロキンビフェニル、’7.5
1のエタノール及び3021の苛性カリの混合物を還流
下し0辱加熱撹拌し、そこへ(→臭化2−〉チルブチル
((−)2−メチルブタノールより臭化燐により製造)
530tを滴加4時間反応させた。エタノールを留去し
てから21の水を加えて濾過し不溶物を集めた。
−ペンタノイルオキシピフエニ# ((I)式に於て
X= n4”9 T m= OrR*=2メチルブチル
基のもの)の製造〕(114’−(2−メチルブチルオ
キシ)−4−ヒドロキシビフェニルのHa 500 ?
(D 4,4’−ジヒドロキンビフェニル、’7.5
1のエタノール及び3021の苛性カリの混合物を還流
下し0辱加熱撹拌し、そこへ(→臭化2−〉チルブチル
((−)2−メチルブタノールより臭化燐により製造)
530tを滴加4時間反応させた。エタノールを留去し
てから21の水を加えて濾過し不溶物を集めた。
この不溶物をトルエンで処理して可溶物を除去した。こ
の可溶部分の方はエタノールで再結晶すると融点80.
5℃のリン片状結晶となり、ジー(2−メチルブチルオ
キシ)ビフェニルであることが確認された。一方不溶部
分は塩酸と加熱撹拌してのち冷却し、固形物を集めてト
ルエン、次いでエタノールより再結晶することによって
、融点 l 3 ’7.5℃の4’−(2−メチルブチルオキシ
)−4−ヒドロキシビフェニル125fを得た。
の可溶部分の方はエタノールで再結晶すると融点80.
5℃のリン片状結晶となり、ジー(2−メチルブチルオ
キシ)ビフェニルであることが確認された。一方不溶部
分は塩酸と加熱撹拌してのち冷却し、固形物を集めてト
ルエン、次いでエタノールより再結晶することによって
、融点 l 3 ’7.5℃の4’−(2−メチルブチルオキシ
)−4−ヒドロキシビフェニル125fを得た。
(11)標題化合物の製造
(1)で得られた4’ −(2−メチルブチルオキシ)
−4−ヒドロキシビフェニル5.1vをピリジンに溶解
し、水冷したところへ吉草酸クロリド2.51のトルエ
ン溶液を撹拌下に滴加したのち、60℃で1時間反応さ
せる。氷と6N塩酸を加えて酸性としてから分液、水洗
し、更に2N苛性ンーター水による洗浄及び水洗をした
後トルエンを留去した。残留物をエタノールより再結晶
して目的物、即ち4/ (2−メチルブチルオキシ)
−4’−n −ヘンタノイルオキシビフェニル4.22
を得た。融点86℃、又85℃でモノトロピック相転移
でS B@f呈した(第1表A1参照)。化学構造はN
MR及び元素分析により確認した。
−4−ヒドロキシビフェニル5.1vをピリジンに溶解
し、水冷したところへ吉草酸クロリド2.51のトルエ
ン溶液を撹拌下に滴加したのち、60℃で1時間反応さ
せる。氷と6N塩酸を加えて酸性としてから分液、水洗
し、更に2N苛性ンーター水による洗浄及び水洗をした
後トルエンを留去した。残留物をエタノールより再結晶
して目的物、即ち4/ (2−メチルブチルオキシ)
−4’−n −ヘンタノイルオキシビフェニル4.22
を得た。融点86℃、又85℃でモノトロピック相転移
でS B@f呈した(第1表A1参照)。化学構造はN
MR及び元素分析により確認した。
実施例2(:4’−(2−メチルブチルオキシ)=4−
n−オクチルオキシカルボキシビ フェニル((■)式に於てX 、= n−08H□70
。
n−オクチルオキシカルボキシビ フェニル((■)式に於てX 、= n−08H□70
。
m=o、 R*=2−メチルブチルのもの)の製造〕
実施例1(i)で得られた4/(2−メチルブチルオキ
シ)−4−ヒドロキシビフェニル&11をピリジンに溶
解、水冷したところへ、クロル蟻酸n−オクチル(cJ
−coo 08H1□) 5 yのトルエン溶液を撹拌
下に滴下し、のち60℃で1時間反応させた。あとは実
施例1の(11)と同様に処理して目的物である4’−
(2−メチルブチルオキシ) −4−n−オクチルオキ
シカルボキシビフェニル4.0ft得た。化学構造はN
MRで確認した。物性値は第1人(A4)に示した迫り
である。
シ)−4−ヒドロキシビフェニル&11をピリジンに溶
解、水冷したところへ、クロル蟻酸n−オクチル(cJ
−coo 08H1□) 5 yのトルエン溶液を撹拌
下に滴下し、のち60℃で1時間反応させた。あとは実
施例1の(11)と同様に処理して目的物である4’−
(2−メチルブチルオキシ) −4−n−オクチルオキ
シカルボキシビフェニル4.0ft得た。化学構造はN
MRで確認した。物性値は第1人(A4)に示した迫り
である。
同様にして(1)式でXが0H30、C2H3O’ 、
03H50゜C4H90t C3H1101a6a1
3o、 C7H150+ ”1H190のもの(i*=
z−メチルブチル、m=’o)などを製造することが出
来る。
03H50゜C4H90t C3H1101a6a1
3o、 C7H150+ ”1H190のもの(i*=
z−メチルブチル、m=’o)などを製造することが出
来る。
実施例3(4’−(2−メチルブチルオキシ)−4−(
p−オクチルベンゾイルオキシ)−ビフェニル((I)
式に於てX ” n−OBH17m=1−σX=−σ>
、 R*= 2−メチルブチルのもの)の製造〕 実施例1(1)で得られた4/−(2−メチルブチルオ
キシ)−4−ヒドロキシビフェニルa12をピリジンに
溶解、氷冷し、そこへp −n −オクチル安息香酸ク
ロリド5fのトルエン溶液を撹拌下に滴下し、のち90
℃で2時間反応させた。あとは実施例1 (ii)と同
様に処理して、最後にエタノール−酢酸エチル混合溶液
から再結晶して標記の目的物6.82を得た。
p−オクチルベンゾイルオキシ)−ビフェニル((I)
式に於てX ” n−OBH17m=1−σX=−σ>
、 R*= 2−メチルブチルのもの)の製造〕 実施例1(1)で得られた4/−(2−メチルブチルオ
キシ)−4−ヒドロキシビフェニルa12をピリジンに
溶解、氷冷し、そこへp −n −オクチル安息香酸ク
ロリド5fのトルエン溶液を撹拌下に滴下し、のち90
℃で2時間反応させた。あとは実施例1 (ii)と同
様に処理して、最後にエタノール−酢酸エチル混合溶液
から再結晶して標記の目的物6.82を得た。
その化学構造fiNMRにより確認した。物性値は第1
表(A8)に示す。
表(A8)に示す。
同様にして(1)式でXがn−C4H91n’5H1l
ln Os Hlll e n−0y )(□s e
n−09)(19,n−010H21,n−03Ht
o +n−C+、H90,n−C!5H1□O,aza
%a(CH3)cazo、 n−06Hよ、0のもの(
m 、 −G)−、R*は実施例3の化合物と同じ)な
どを製造することが出来る。
ln Os Hlll e n−0y )(□s e
n−09)(19,n−010H21,n−03Ht
o +n−C+、H90,n−C!5H1□O,aza
%a(CH3)cazo、 n−06Hよ、0のもの(
m 、 −G)−、R*は実施例3の化合物と同じ)な
どを製造することが出来る。
実施例4(使用例1)
4−エチル−4′−シアノビフェニル 20部(重
兎以下同じ4−ペンチルー41−シアノビフェニル
40部4−オクチルオキシ−4′−シアノビフェニル
25部4−ペンチル−l−シアノターフェニル 15
部から成る組成物を、PvAを塗布し、表面を2ピング
して平行配向処理を施した透明電極の’rNセル(電極
間隔約10μm)K注入し、偏光顕微鏡下で観察したと
ころリバース・ドメインが見られた。
兎以下同じ4−ペンチルー41−シアノビフェニル
40部4−オクチルオキシ−4′−シアノビフェニル
25部4−ペンチル−l−シアノターフェニル 15
部から成る組成物を、PvAを塗布し、表面を2ピング
して平行配向処理を施した透明電極の’rNセル(電極
間隔約10μm)K注入し、偏光顕微鏡下で観察したと
ころリバース・ドメインが見られた。
こoy成酸物、(1)式に於てX==04H3,m=o
。
。
R*=2−メチルブチルの化合物(実施例1)を1wt
%添加したところ、リバース・ドメインが解消され均一
なネマチック相が観察された。
%添加したところ、リバース・ドメインが解消され均一
なネマチック相が観察された。
この他に1 リバース・ドメインの防止剤として、(1
)式に於いてX = n−04H90,((E>)−−
べ互xノモノ及ヒx−C2H5−♀H(CH3)CI(
20゜)実施例5(使用例2) (1)式に於いて、m=o、R*=2−メチルブチルテ
、x = 06H□30. X=08H,70のもの各
々30部及びm = 1 、−(I) = + T I
=08H170゜x=a9H19o のもの各々20部
よりなる混合物は75℃まで8C*相を示し、それ以♀
の温度でcb相を示し、95℃で等方液体になる。即ち
SA相を示さない混合物である。
)式に於いてX = n−04H90,((E>)−−
べ互xノモノ及ヒx−C2H5−♀H(CH3)CI(
20゜)実施例5(使用例2) (1)式に於いて、m=o、R*=2−メチルブチルテ
、x = 06H□30. X=08H,70のもの各
々30部及びm = 1 、−(I) = + T I
=08H170゜x=a9H19o のもの各々20部
よりなる混合物は75℃まで8C*相を示し、それ以♀
の温度でcb相を示し、95℃で等方液体になる。即ち
SA相を示さない混合物である。
この混合物を、PVAを塗布し、表面’t2ピングして
千行配向処:Bit施した10μmの透明電極に注入し
、ah相領域で直流電圧(50V)を印加しながら、S
O*相に徐冷したところ均一なモノドメインセルが得ら
れた。
千行配向処:Bit施した10μmの透明電極に注入し
、ah相領域で直流電圧(50V)を印加しながら、S
O*相に徐冷したところ均一なモノドメインセルが得ら
れた。
この液晶セル全直交ニコル状態に配置した2枚の偏光子
間にはさみ15Vの低周波数(0,5Hz程度)の交流
を印加したところ、明瞭なスイッチング動作が観察され
、非常にコントラストも良く応答速度も速い(1mee
c以下)液晶表示素子が得られた。
間にはさみ15Vの低周波数(0,5Hz程度)の交流
を印加したところ、明瞭なスイッチング動作が観察され
、非常にコントラストも良く応答速度も速い(1mee
c以下)液晶表示素子が得られた。
実施例6(使用例3)
(1)式に於いてl=Q、R*=2−メチルブチルで。
x=c6H□30. x=a8n□70のもの各々20
部。
部。
m= 1 、−(I)−=−(pとで、x = c7x
、5o 。
、5o 。
X=C8H,70,X=O0%、O,X=016H33
0(7)もの各々10部及び(2)式に於いてm=1で
X=C8H,0のもの10部より成る混合物は70℃ま
でsc*相を示し、それ以上の温度でCh相を示し10
5℃で等方液体になる。即ち、SA相を示さない混合物
である。
0(7)もの各々10部及び(2)式に於いてm=1で
X=C8H,0のもの10部より成る混合物は70℃ま
でsc*相を示し、それ以上の温度でCh相を示し10
5℃で等方液体になる。即ち、SA相を示さない混合物
である。
この混合物にアントラキノン系色素のD−16(BDH
OO,製)を3wtチ添加し、いわゆるゲスト−ホスト
型にしたものを実施例5と同様なセルに注入し、偏光面
が分子軸に垂直になる様、1枚の偏光子を配置して15
Vの低周波数(0,5Hz程度)の交流を印加したとこ
ろ、明瞭なスイッチング動作が観察され、−1+=常に
コントラストも良く、応答速度も速い(l m5ec以
下)液晶表示素子が得られた。
OO,製)を3wtチ添加し、いわゆるゲスト−ホスト
型にしたものを実施例5と同様なセルに注入し、偏光面
が分子軸に垂直になる様、1枚の偏光子を配置して15
Vの低周波数(0,5Hz程度)の交流を印加したとこ
ろ、明瞭なスイッチング動作が観察され、−1+=常に
コントラストも良く、応答速度も速い(l m5ec以
下)液晶表示素子が得られた。
以上
手続補正書
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
1、事件の表示
昭和58年特許願第78,594号
2、発明の名称
液晶物質及び液晶組成物
8、補正をする者
事件との1ヌ1係 q!f軒出、預入
大阪府大阪布北区中之島三丁目G番32号(〒530)
(207)チッソ株式会社 代表者野木貞雄 4、代 戸 人 東京都新宿区新宿2丁目8香1号(〒160)(ほか1
名) 5、補正命令の日付 6、補正によシ増加する発明の数 な し 7、補正の対象 明細、餌の’:’!?許請求の範囲の射、1及び発明の
詳細な説明の(岡 8、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙のとおり訂正する。
(207)チッソ株式会社 代表者野木貞雄 4、代 戸 人 東京都新宿区新宿2丁目8香1号(〒160)(ほか1
名) 5、補正命令の日付 6、補正によシ増加する発明の数 な し 7、補正の対象 明細、餌の’:’!?許請求の範囲の射、1及び発明の
詳細な説明の(岡 8、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙のとおり訂正する。
(2)明細書第4頁下から7行目の「ヘキシル基」を「
ヘキ/し/基」に訂正する。
ヘキ/し/基」に訂正する。
(3)同頁最下行「B相)」の後に[、SC*相又はc
h相(コレステリック相)」を挿入する。
h相(コレステリック相)」を挿入する。
(4)明細舎弟5頁11行目「好適である。」の後に次
の文を挿入する。
の文を挿入する。
[原料の光学活性アルコールとしては、その他にも種々
あるが、中でも2−ブタノールの様な2の位置に水酸基
のある2級アルコール、* 即ち一般弐〇n H2n+1− cH’、 (CI−J
s ) O)Iで表わされるものが好適に利用される
。即ちR*とじては一般弐〇n H2n+1 ’CH(
CHs )−型のものが好咬しく、側方に出る基はメチ
ル基より長いも) のは望ましくない。」 (5)明細書第9頁5行目「、応答速度は」を削除する
。
あるが、中でも2−ブタノールの様な2の位置に水酸基
のある2級アルコール、* 即ち一般弐〇n H2n+1− cH’、 (CI−J
s ) O)Iで表わされるものが好適に利用される
。即ちR*とじては一般弐〇n H2n+1 ’CH(
CHs )−型のものが好咬しく、側方に出る基はメチ
ル基より長いも) のは望ましくない。」 (5)明細書第9頁5行目「、応答速度は」を削除する
。
(6)明細書第11頁最下行から同第12頁1行目すで
の文を次の如く訂正する。
の文を次の如く訂正する。
「表及び第2表に示す。尚、第1表に於てR*はすべて
光学活性2−メチルブチル基であり、第2表に於てはR
*は光学活性2−オクチル基である。」 (7)明細書第12頁第1表を次の如く訂正する。
光学活性2−メチルブチル基であり、第2表に於てはR
*は光学活性2−オクチル基である。」 (7)明細書第12頁第1表を次の如く訂正する。
[第 1 表
注a)結晶体として得ることができなかつたので融点不
明。 」(8)明細書第12頁最下行の後に下記の第
2表を挿入する。
明。 」(8)明細書第12頁最下行の後に下記の第
2表を挿入する。
a)は第1表と同様融点不明 」(9)
明細書簡13頁10行目「n4H,Jを「n−C4H,
Jに訂正する。
明細書簡13頁10行目「n4H,Jを「n−C4H,
Jに訂正する。
aO明明細書第1亘
4′」は改行して次の行の始めに移す。
(口)明細書箱16頁11行目「n=IJO後に「、」
を挿入する。
を挿入する。
αの明細書第11頁最下目と8行目の間に以下の文を挿
入する。
入する。
「実施例4〔光学活性4’−(2−オクチルオキシ−4
−(p−へブチルオキシベン ゾイルオキシ)−ビフェニル((1)式%式% 舎=舎,R*=2−オクチル 基のもの)の製造〕 (1)4’−(2−オクチルオキシ)−4−ヒドロキシ
ビフェニルの製造 光学活性5(−1−)−2−#タノールより常法により
製造されたS(ト)−2−オクチル−p−トルエンスル
ホン酸エステル、!:4,4’ージヒドロキシビフェニ
ルとから実施例1と類似の方法でエーテル化反応を行い
、4′−(2−オクチルオキシ)−4−ヒドロキシビフ
ェニル(融点98.1°C)を得た。又副生物として4
.4’−、ジー(2−オクチルオキシ)−ビフェニル(
8点35.4°C)が得られた。
−(p−へブチルオキシベン ゾイルオキシ)−ビフェニル((1)式%式% 舎=舎,R*=2−オクチル 基のもの)の製造〕 (1)4’−(2−オクチルオキシ)−4−ヒドロキシ
ビフェニルの製造 光学活性5(−1−)−2−#タノールより常法により
製造されたS(ト)−2−オクチル−p−トルエンスル
ホン酸エステル、!:4,4’ージヒドロキシビフェニ
ルとから実施例1と類似の方法でエーテル化反応を行い
、4′−(2−オクチルオキシ)−4−ヒドロキシビフ
ェニル(融点98.1°C)を得た。又副生物として4
.4’−、ジー(2−オクチルオキシ)−ビフェニル(
8点35.4°C)が得られた。
(11)標題化合物の製造
上記(1)で得られた4’−(2−オクチルオキシ)−
4−ヒドロキシビフェニル7.517をピリジンに溶解
し、水冷したところへp−へブチルオキシ安息香酸クロ
ッドロ、5qのトルエン溶液を攪拌下に滴下し、更に9
0°Cで2時間反応させ、以下実施例3と同様に処理し
て目的の標題化合物(第2表の隘20のもの)9.5g
を得た。その相転移点は第2表に示す。又、その比旋光
度は〔α〕20°= +0.7°(クロロホルム中C=
011)であった。本化合物の絶体立体配置は決定でき
ないが上記(1)のエーテル化段階でワルデン反転が起
ったと考えられるのでR系統であると推定される。
」αの明細書第17頁8行目「実施例4」を「
実施例5」とする。
4−ヒドロキシビフェニル7.517をピリジンに溶解
し、水冷したところへp−へブチルオキシ安息香酸クロ
ッドロ、5qのトルエン溶液を攪拌下に滴下し、更に9
0°Cで2時間反応させ、以下実施例3と同様に処理し
て目的の標題化合物(第2表の隘20のもの)9.5g
を得た。その相転移点は第2表に示す。又、その比旋光
度は〔α〕20°= +0.7°(クロロホルム中C=
011)であった。本化合物の絶体立体配置は決定でき
ないが上記(1)のエーテル化段階でワルデン反転が起
ったと考えられるのでR系統であると推定される。
」αの明細書第17頁8行目「実施例4」を「
実施例5」とする。
Oa明明細書第1負
例6」とする。
0均明細書第19頁4行目の「程度」を削除する。
(IQ明明細書41亘
施例7」とする。
0′I)明細書箱20頁3行目の「程度」を削除する。
9、添付書類
別紙(特許請求の範囲の全文) 1通以上
別紙
特許請求の範囲(全文)
(1)一般式
%式%()
(但し、上式に於て、mは0.1又は2であり、R*は
光学活性アルキル基を示し、舎は一@− (1.4−フ
ェニレン基)又け0(1,4.−)ランス置換シクロヘ
キシv 7 基)を示し、Xは炭素数1〜18の直鎖又
は分岐アルキル基、又はアルコキシ基を示す)で表わさ
れる化合物。
光学活性アルキル基を示し、舎は一@− (1.4−フ
ェニレン基)又け0(1,4.−)ランス置換シクロヘ
キシv 7 基)を示し、Xは炭素数1〜18の直鎖又
は分岐アルキル基、又はアルコキシ基を示す)で表わさ
れる化合物。
(2)一般式(I)のR*が光学活性な2−メチルブチ
ル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
ル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
(3)一般式(Dの鹸が光学活性な2−オクチル基であ
る特許請求の範囲第1項記載の化合物。
る特許請求の範囲第1項記載の化合物。
(4)一般式
%式%(1)
(但し、上式に於てmは0.1又は2であり、R*は光
学活性アルキル基を示し、舎は一@− ( 1 、 4
−フェニレン基)又はイ)(1.4−トランス置換シク
ロヘキシL/7基)を示し、Xは炭素数1〜18の直鎖
又は分岐アルキル基、又はアルコキシ基を示す)で表わ
される化合物を少くとも1種含有することを特徴とする
カイラルスメクチック液晶組成物。
学活性アルキル基を示し、舎は一@− ( 1 、 4
−フェニレン基)又はイ)(1.4−トランス置換シク
ロヘキシL/7基)を示し、Xは炭素数1〜18の直鎖
又は分岐アルキル基、又はアルコキシ基を示す)で表わ
される化合物を少くとも1種含有することを特徴とする
カイラルスメクチック液晶組成物。
(5)複数の(1)式の化合物からなる特許請求の範囲
第4項記載の皿仮物。
第4項記載の皿仮物。
(6)一般式
%式%(1)
(但し、上式に於てmは0,1又は2であり、R*は光
学活性アルキル基を示し、(史は一@1−(1.4−]
二ニレし基)又は÷(1.4−トランス置換ンクロヘキ
シト基)を示し、Xは炭素数1〜18の直飴又は分岐ア
ルキル基、又はアルコキシ基を示す)で表わされる化合
物を少くとも1種含有するカイラルスメクチック相を呈
する液晶組成物を使用して構ルyされた光スイツチング
素子。
学活性アルキル基を示し、(史は一@1−(1.4−]
二ニレし基)又は÷(1.4−トランス置換ンクロヘキ
シト基)を示し、Xは炭素数1〜18の直飴又は分岐ア
ルキル基、又はアルコキシ基を示す)で表わされる化合
物を少くとも1種含有するカイラルスメクチック相を呈
する液晶組成物を使用して構ルyされた光スイツチング
素子。
以上
手続補正書
1、事件の表示
昭和58年特許願第78.594号
2、発明の名称
液晶物質及び液晶組成物
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
大阪府大阪市北区中之島三丁目6番32号(〒530)
(207)チッソ株式会社 代表者 野 木 貞 雄 4、代理人 東京都新宿区新宿2丁目8番1号(〒160)6、補正
によシ増加する発明の数 な し 7、補正の対象 昭和59年6月6日付差出の手続補正第9の発明の詳細
な説明の欄を対象とした補正の内容8、補正の内容 (1)手続補正書簡4頁の第1表中、/I61の化合物
の行の「・85」をかっこでくくって1(・85)」と
する。
(207)チッソ株式会社 代表者 野 木 貞 雄 4、代理人 東京都新宿区新宿2丁目8番1号(〒160)6、補正
によシ増加する発明の数 な し 7、補正の対象 昭和59年6月6日付差出の手続補正第9の発明の詳細
な説明の欄を対象とした補正の内容8、補正の内容 (1)手続補正書簡4頁の第1表中、/I61の化合物
の行の「・85」をかっこでくくって1(・85)」と
する。
(2)同じく第1表中、/I64の化合物の行の「・4
7」をかっこでくくって「(・47)」とする。
7」をかっこでくくって「(・47)」とする。
(3)手続補正書簡5頁の第2表中、/1619の化合
物の行のXの欄のr rL−C3i(170刊をl’−
3−C8H17−Jに訂正する。
物の行のXの欄のr rL−C3i(170刊をl’−
3−C8H17−Jに訂正する。
(4)同頁下から3行目の「n=1」をlm=1Jに訂
正する。
正する。
(5)手続補正書箱6頁11行目「オクチル」の後の1
−」を削除する。
−」を削除する。
(6)手続補正書箱7頁4行目「クロリド」を「クロリ
ド」に訂正する。
ド」に訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式 (但し、上式に於て、mは0,1又は2であ→(E←(
1,4−)?ンス置換シクロヘキシル基)を示し、又は
炭素数1〜18の直鎖又は分岐アルキル基、又はアルコ
キシ基を示す)で表わされる化合物。 (2) 一般式(1)のR*が光学活性な2−メチルブ
チル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (3)一般式(1)のR*が光学活性な2−オクチル基
である特許請求の範囲第1項記鴫の化合物。 (4)一般式 %式%() (1) (但し、上式に於てmはO,l又は2であり、R*は光
学活性アルキル基を示し、−(E)−は(1,4−ト9
ンス置換シクロヘキシル&)を示し、又は炭素a1〜1
8の直鎖又は分岐アルキル基、又はアルコキシ基を示す
) で表わされる化合物を少くとも1種含有することを特徴
とするカイラルスメクチック液晶組成物。 (5)複数の(1)式の化合物からなる特許請求の範囲
第4項記載の化合物。 (6)一般式 (但し、上式に於てmは0,1又は2であり、(1,4
−)ランス置換シクロヘキシル基)ヲ示し、又は炭素数
1〜1日の直鎖又は分岐アルキル基、又はアルコキシ基
を示す) で表わされる化合物を少くとも1種含有するカイラルス
メクチック相を呈する液晶組成物を使用して構成された
光スイツチング素子。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58078594A JPH0623135B2 (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | 液晶物質及び液晶組成物 |
DE8383307884T DE3373193D1 (en) | 1983-01-06 | 1983-12-22 | Liquid crystalline compounds and mixtures thereof |
EP83307884A EP0115693B1 (en) | 1983-01-06 | 1983-12-22 | Liquid crystalline compounds and mixtures thereof |
US06/568,060 US4596667A (en) | 1983-01-06 | 1984-01-04 | Liquid crystalline compounds and mixtures thereof |
US07/140,205 US4820444A (en) | 1983-01-06 | 1987-12-31 | 4'optically active alkoxy-4-alkoxy carbonyloxy-bipheneyl and mixtures thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58078594A JPH0623135B2 (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | 液晶物質及び液晶組成物 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29801291A Division JPH0699353B2 (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 光学活性ヒドロキシビフェニル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59219251A true JPS59219251A (ja) | 1984-12-10 |
JPH0623135B2 JPH0623135B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=13666229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58078594A Expired - Lifetime JPH0623135B2 (ja) | 1983-01-06 | 1983-05-04 | 液晶物質及び液晶組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0623135B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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JPS61205918A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-12 | Canon Inc | 液晶素子 |
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Citations (4)
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