JPS59218619A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS59218619A JPS59218619A JP8498884A JP8498884A JPS59218619A JP S59218619 A JPS59218619 A JP S59218619A JP 8498884 A JP8498884 A JP 8498884A JP 8498884 A JP8498884 A JP 8498884A JP S59218619 A JPS59218619 A JP S59218619A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic material
- magnetic head
- holding body
- plasma jet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特に磁気記録再
生装量に用いlうれる1ヘラツク幅の狭い磁気ヘッドの
製造方法に関りる。
生装量に用いlうれる1ヘラツク幅の狭い磁気ヘッドの
製造方法に関りる。
(従来技術)
近年、磁気テープなどの磁気記録媒体に情報信号を狭ト
ラツク幅で、且つ高密度に記録する技術が開発されてお
り、これに伴ない磁気ヘッドどして狭いトラック幅で記
録および再生し得ることが要求されてきている。
ラツク幅で、且つ高密度に記録する技術が開発されてお
り、これに伴ない磁気ヘッドどして狭いトラック幅で記
録および再生し得ることが要求されてきている。
この種、従来の磁気ヘッドは第1図aおよびbで示すよ
うに構成することにより、ヘッドコアの機械的強度を損
うことなく、且つ磁気抵抗を小さく抑えて、トラック幅
の狭止を図っていた。即ら、第1図aに示す磁気ヘッド
では、ギヤツブ部2近傍を凹状に研磨加工しており、こ
の凹状によりトラック幅t1を設定している。そしC1
この磁気ヘッドに耐磨耗性を向−LさUるために、四部
にガラス3をモールドしていた。また、第1図すに示t
m気ヘッド4では、チップ面の片面を段状に研磨加工し
、この段部によりトラック幅1゛2を設定していた。
うに構成することにより、ヘッドコアの機械的強度を損
うことなく、且つ磁気抵抗を小さく抑えて、トラック幅
の狭止を図っていた。即ら、第1図aに示す磁気ヘッド
では、ギヤツブ部2近傍を凹状に研磨加工しており、こ
の凹状によりトラック幅t1を設定している。そしC1
この磁気ヘッドに耐磨耗性を向−LさUるために、四部
にガラス3をモールドしていた。また、第1図すに示t
m気ヘッド4では、チップ面の片面を段状に研磨加工し
、この段部によりトラック幅1゛2を設定していた。
しかし、このような構造の従来の磁気ヘッドは、その製
作方法及び構造により、(すI〜ラック幅刈法を精度よ
く設定できない、■研磨加に時にギャップ部に割れが発
生ずる、■研磨加工歪により磁気特性が劣化する、■磁
気媒体に接触するチップ面の面積が小となり耐磨耗性が
悪くなる、等の欠点があった。特にこれらの欠点は、ト
ラック幅を狭くする程顕著となって現われ、狭トラツク
幅の磁気ヘッドの製造にあっては非常に困難であった。
作方法及び構造により、(すI〜ラック幅刈法を精度よ
く設定できない、■研磨加に時にギャップ部に割れが発
生ずる、■研磨加工歪により磁気特性が劣化する、■磁
気媒体に接触するチップ面の面積が小となり耐磨耗性が
悪くなる、等の欠点があった。特にこれらの欠点は、ト
ラック幅を狭くする程顕著となって現われ、狭トラツク
幅の磁気ヘッドの製造にあっては非常に困難であった。
そこで、これらの欠点を改善する為、第2図に示す構造
の磁気ヘッド5が提案されてぎた。この磁気ヘッド5は
、一対の磁性体6,6′をイ」き合わせ、この付ぎ合わ
せ部分にギャップスペーサ7を介して接合し、これらの
磁性体6.6′の側面、例えば両側面に非磁性保持体8
,8′を接合したものである。一般的に、この磁性体6
.6′と非磁性保持体8.8′との接合は、接着剤ある
いはスパッタリング等の′nyA形成技術を用いること
が考えられた。
の磁気ヘッド5が提案されてぎた。この磁気ヘッド5は
、一対の磁性体6,6′をイ」き合わせ、この付ぎ合わ
せ部分にギャップスペーサ7を介して接合し、これらの
磁性体6.6′の側面、例えば両側面に非磁性保持体8
,8′を接合したものである。一般的に、この磁性体6
.6′と非磁性保持体8.8′との接合は、接着剤ある
いはスパッタリング等の′nyA形成技術を用いること
が考えられた。
しかし、接着剤によって磁性体6.6′ と非磁性保持
体8,8′とを接合しても、接着不良等によって接合強
度に問題があり、又使用中に接着剤層近傍にデツピング
が発生しやすく、ざらには接着剤によるゴミ付着が生じ
て磁気記録再生特性の低下が生じる等の欠点があった。
体8,8′とを接合しても、接着不良等によって接合強
度に問題があり、又使用中に接着剤層近傍にデツピング
が発生しやすく、ざらには接着剤によるゴミ付着が生じ
て磁気記録再生特性の低下が生じる等の欠点があった。
そして、これらの欠点を除去する為、接着剤によらず磁
性体と非磁性体との接合にスパッタリング等の薄膜形成
技術を用いることを考えたのであるが、これでは製造に
際して極めて長時間を必要とするものであり、このため
生産性が低下して実際問題としてはこの3− スパッタリング等の薄膜形成技術は用いられなかつIこ
。
性体と非磁性体との接合にスパッタリング等の薄膜形成
技術を用いることを考えたのであるが、これでは製造に
際して極めて長時間を必要とするものであり、このため
生産性が低下して実際問題としてはこの3− スパッタリング等の薄膜形成技術は用いられなかつIこ
。
(発明の目的)
本発明の目的は上記従来の磁気ヘッドの製造方法の欠点
に鑑みなされたものであり、磁性体のJ44個又は両側
面に非磁性月利による保持体をプラズマジエッ1へ溶射
することにより、所望の狭トラツク幅を精度よくかつ短
時間で容易に製造でき、更には磁気へラドコアの機械的
強l印が強(て磁気記録再生特性に優れた磁気ヘッドの
製造方法を提供するものである。
に鑑みなされたものであり、磁性体のJ44個又は両側
面に非磁性月利による保持体をプラズマジエッ1へ溶射
することにより、所望の狭トラツク幅を精度よくかつ短
時間で容易に製造でき、更には磁気へラドコアの機械的
強l印が強(て磁気記録再生特性に優れた磁気ヘッドの
製造方法を提供するものである。
〈発明の構成)
本発明は上記目的を達成づ−るために、磁気ヘッドの磁
性体側面に非磁性材料による保持体をプラズマジェット
溶剤により形成してなる磁気ヘッドの製造方法を提供す
るものである。
性体側面に非磁性材料による保持体をプラズマジェット
溶剤により形成してなる磁気ヘッドの製造方法を提供す
るものである。
実施例
第3図は本発明に4蒙る磁気ヘッドの製造方法の第1の
実施例を示す磁気ヘッドの説明図である。
実施例を示す磁気ヘッドの説明図である。
同図中、10.11は所定形状に形成された一対の4−
コア半休であり、これらは非磁性のギ↑・ツプスペーザ
12を挾んで接着又は溶着手段によって接合しである。
12を挾んで接着又は溶着手段によって接合しである。
コア半休10.11は精密ラッピングにより加工歪を取
り除き、所望の1−ラック幅の厚さtに正確に加工した
後、表面を研磨し、さらにコア半体10゜11の両側面
に、例えばTiO2などのセラミック、サーメットその
他非磁性金属等の非磁性月利をプラズマジェット溶射に
よって溶射して保持体13を形成する。そして、テープ
走行面を曲面研磨する。
り除き、所望の1−ラック幅の厚さtに正確に加工した
後、表面を研磨し、さらにコア半体10゜11の両側面
に、例えばTiO2などのセラミック、サーメットその
他非磁性金属等の非磁性月利をプラズマジェット溶射に
よって溶射して保持体13を形成する。そして、テープ
走行面を曲面研磨する。
第4図a−dは、本発明になる磁気ヘッドの製造方法の
第2の実施例の製造工程説明図である。
第2の実施例の製造工程説明図である。
第1の実施例の磁気ヘッドの製造方法では、一対のコア
半休を付き合わせた後、このコア半休の両側面に非磁性
材料をプラズマジェット溶射したのであるが、この第2
の実施例による磁気ヘッドの製造方法は、第4図aに示
す如く、まず、所定の形状に形成された、非磁性保持体
14を用意し、この非磁性保持体14の一面にセンダメ
1〜合金あるいは非晶質金属磁性体等の磁性層15をス
パッタリング等によって厚さL ’ 形成した後、同図
すに示す如く、磁性層15面上にプラズマジェット溶射
により非磁性月利の保持体16を形成し、次にこれを同
図Cに示す如く、2個のブロック片に分割し、−力のブ
ロック片の接合面側に巻線用窓17を形成し、そしてこ
の接合面を鎖部研磨する。
半休を付き合わせた後、このコア半休の両側面に非磁性
材料をプラズマジェット溶射したのであるが、この第2
の実施例による磁気ヘッドの製造方法は、第4図aに示
す如く、まず、所定の形状に形成された、非磁性保持体
14を用意し、この非磁性保持体14の一面にセンダメ
1〜合金あるいは非晶質金属磁性体等の磁性層15をス
パッタリング等によって厚さL ’ 形成した後、同図
すに示す如く、磁性層15面上にプラズマジェット溶射
により非磁性月利の保持体16を形成し、次にこれを同
図Cに示す如く、2個のブロック片に分割し、−力のブ
ロック片の接合面側に巻線用窓17を形成し、そしてこ
の接合面を鎖部研磨する。
次に、このブ[1ツク片の接合面にギャップスペーサ1
8を介して両者を接着又は溶着し、最終的に第4図dに
示づ如くの磁気ヘッドを得る。
8を介して両者を接着又は溶着し、最終的に第4図dに
示づ如くの磁気ヘッドを得る。
これら、第1の実施例及び第2の実施例で説明した本発
明になる磁気ヘッドのillll法は、磁性層の少なく
とも1個面に形成する非磁性の保持体を接着剤を用いる
ことなくプラズマジェット溶剤により形成したので、接
着剤等を用いる場合に比べてその接合力は極めて強く、
しかも接着剤によるゴミ付着等も生じないので磁気記録
再生特性の低下が生じることなく、さらには短時間で生
産性よく簡単に作ることができる。例えば、プラズマジ
ェット溶射による保持体の形成は約1分J、14内でで
きる。そして、プラズマジェット溶射による保特休の非
磁性材料を適当に選ぶ(例えばセンダスト合金に対して
Al203(約60%)と1“102(約40%)の混
合物)ことにより、磁性体と保持体の摩耗度をほぼ同じ
にすることが簡単にできるので、磁気ヘッド特有の偏摩
耗を簡単に解決できる。なお、この磁性材料として半導
電材料を用いれば、磁気ヘッドの帯電防止をすることが
できる。
明になる磁気ヘッドのillll法は、磁性層の少なく
とも1個面に形成する非磁性の保持体を接着剤を用いる
ことなくプラズマジェット溶剤により形成したので、接
着剤等を用いる場合に比べてその接合力は極めて強く、
しかも接着剤によるゴミ付着等も生じないので磁気記録
再生特性の低下が生じることなく、さらには短時間で生
産性よく簡単に作ることができる。例えば、プラズマジ
ェット溶射による保持体の形成は約1分J、14内でで
きる。そして、プラズマジェット溶射による保特休の非
磁性材料を適当に選ぶ(例えばセンダスト合金に対して
Al203(約60%)と1“102(約40%)の混
合物)ことにより、磁性体と保持体の摩耗度をほぼ同じ
にすることが簡単にできるので、磁気ヘッド特有の偏摩
耗を簡単に解決できる。なお、この磁性材料として半導
電材料を用いれば、磁気ヘッドの帯電防止をすることが
できる。
このように、保持体をプラズマジェット溶射により形成
すれば、保持体の非磁性材料として種々のものを用いる
ことができるので、磁気ヘッドの偏11耗及び帯電等の
欠点を簡単に解消できる。
すれば、保持体の非磁性材料として種々のものを用いる
ことができるので、磁気ヘッドの偏11耗及び帯電等の
欠点を簡単に解消できる。
第5図は、本発明になる磁気ヘッドの!!1造方法の第
3の実施例を示す説明図である。この第3の実施例は、
上記第2の実施例で示した製造工程と同様にして作られ
る。すなわち、19は、非磁性保持体20の一面にセン
ダスト合金等をスパッタリングににり形成した磁性層で
ある。21は、プラズマジェット溶射により形成する非
磁性保持体であり、22は巻線用窓である。プラズマジ
エツ]・溶射にJ:り形成した非磁性保持体21には、
空孔が多数形成7− されている。その為、磁性層19が研磨加工時にかけや
すいといった欠点が残されていた。そこで、この欠点を
除去する為、この空孔に樹脂を含浸させて力た。しかし
、樹脂を含浸させると、接着剤を用いるのと同様に、1
ミ付着が生じやすく、その結果磁気記録再生特性が低下
した。本発明者は、この空孔について研究した結果、問
題どなる空孔1よ磁性層19近傍にあるものだけである
ことに気付き、そこで゛、磁性層19どプラズマジェッ
ト溶射による非磁性保持体21の間に、空孔の少ない非
磁性薄膜層23をスパッタリング等により形成したので
ある。これによって、磁性層19がかけることもなく、
かつスパッタリング等により形成する層は薄くてよいの
で、短時間で形成できる。なお、本実施例においても、
第1の実施例及び第2の実施例と同様な効果があること
は勿論であり、又、磁性層の両側面に空孔の少4rい非
磁性薄膜層を、そしてその側面にプラズマジェット溶射
による非磁性保持体を形成してもよい。
3の実施例を示す説明図である。この第3の実施例は、
上記第2の実施例で示した製造工程と同様にして作られ
る。すなわち、19は、非磁性保持体20の一面にセン
ダスト合金等をスパッタリングににり形成した磁性層で
ある。21は、プラズマジェット溶射により形成する非
磁性保持体であり、22は巻線用窓である。プラズマジ
エツ]・溶射にJ:り形成した非磁性保持体21には、
空孔が多数形成7− されている。その為、磁性層19が研磨加工時にかけや
すいといった欠点が残されていた。そこで、この欠点を
除去する為、この空孔に樹脂を含浸させて力た。しかし
、樹脂を含浸させると、接着剤を用いるのと同様に、1
ミ付着が生じやすく、その結果磁気記録再生特性が低下
した。本発明者は、この空孔について研究した結果、問
題どなる空孔1よ磁性層19近傍にあるものだけである
ことに気付き、そこで゛、磁性層19どプラズマジェッ
ト溶射による非磁性保持体21の間に、空孔の少ない非
磁性薄膜層23をスパッタリング等により形成したので
ある。これによって、磁性層19がかけることもなく、
かつスパッタリング等により形成する層は薄くてよいの
で、短時間で形成できる。なお、本実施例においても、
第1の実施例及び第2の実施例と同様な効果があること
は勿論であり、又、磁性層の両側面に空孔の少4rい非
磁性薄膜層を、そしてその側面にプラズマジェット溶射
による非磁性保持体を形成してもよい。
上記第1.第2及び第3実施例で行なったプラ8−
ズマジェット溶射は、第6図に示す如く、アルゴンの超
高温プラズマジェット中(温度は約2000〜3200
0°]<)に非磁性材料(例えばAl203(約60%
)とTiO2(約40%)の混合物)を供給して熔融さ
せ、水冷している銅板(温度は室部)25上に置いた被
溶射物(例えばセンダスト合金等の磁性体)26に吹き
つけて行なうのである。なお、27はプラズマジェット
溶射装置のノズルである。
高温プラズマジェット中(温度は約2000〜3200
0°]<)に非磁性材料(例えばAl203(約60%
)とTiO2(約40%)の混合物)を供給して熔融さ
せ、水冷している銅板(温度は室部)25上に置いた被
溶射物(例えばセンダスト合金等の磁性体)26に吹き
つけて行なうのである。なお、27はプラズマジェット
溶射装置のノズルである。
この際、非磁性材料が溶射後急冷されることになるので
、硬度が大ぎくかつ空孔の少ないものかでき、その結果
ゴミ等が付着しに(り、さらには磁気特性を劣化させに
くいものであった。また、被溶射物を銅板上に置いてプ
ラズマジェット溶射すると、溶射物は銅板には何着しに
くくて被溶射物が溶射物により銅板に固着されず、従っ
て、プラズマジェット溶射後に被溶射物を銅板から簡単
に取りはずせた。
、硬度が大ぎくかつ空孔の少ないものかでき、その結果
ゴミ等が付着しに(り、さらには磁気特性を劣化させに
くいものであった。また、被溶射物を銅板上に置いてプ
ラズマジェット溶射すると、溶射物は銅板には何着しに
くくて被溶射物が溶射物により銅板に固着されず、従っ
て、プラズマジェット溶射後に被溶射物を銅板から簡単
に取りはずせた。
(発明の効果)
上述の如く、本発明になる磁気ヘッドの製造方法にあっ
ては、磁気ヘッドの磁性体側面に磁性材−9−1八 料による保持体をプラズマジエン1〜溶射により形成し
ているので、機械的強度に優れた極めて狭いトラック幅
の磁気ヘッドを精度J:りかつ短時間で容易に生産性よ
く製造でき、そして保持体の非磁性材料としてほとんど
全ての非磁性材料を用いることができるので、磁性体と
保持体の摩耗度が同じ位の非磁性材料を簡単に選べ磁気
ヘッドの帯電を簡単に解消でき、又磁性体と保持体との
接合に接着剤等を用いないのでゴミ付着等が生じず磁気
記録再生特性の低下が起きず、そして磁性体とプラズマ
ジェット溶射による保持体との間に空孔の少ない非磁性
薄膜層を設(プだので、研磨加工時に磁性体がか(プる
こともなく精度よくテープ走行面を簡単に形成でき、し
かも保持体と磁性体との間の層は薄いのでメッキ、真空
蒸着又はスパッタリング等によって空孔をなくり一為に
樹脂含浸法等を用いないので樹脂によるゴミ付着といっ
た問題は起きず磁気記録再生特性に優れたものである等
の特長を有する。
ては、磁気ヘッドの磁性体側面に磁性材−9−1八 料による保持体をプラズマジエン1〜溶射により形成し
ているので、機械的強度に優れた極めて狭いトラック幅
の磁気ヘッドを精度J:りかつ短時間で容易に生産性よ
く製造でき、そして保持体の非磁性材料としてほとんど
全ての非磁性材料を用いることができるので、磁性体と
保持体の摩耗度が同じ位の非磁性材料を簡単に選べ磁気
ヘッドの帯電を簡単に解消でき、又磁性体と保持体との
接合に接着剤等を用いないのでゴミ付着等が生じず磁気
記録再生特性の低下が起きず、そして磁性体とプラズマ
ジェット溶射による保持体との間に空孔の少ない非磁性
薄膜層を設(プだので、研磨加工時に磁性体がか(プる
こともなく精度よくテープ走行面を簡単に形成でき、し
かも保持体と磁性体との間の層は薄いのでメッキ、真空
蒸着又はスパッタリング等によって空孔をなくり一為に
樹脂含浸法等を用いないので樹脂によるゴミ付着といっ
た問題は起きず磁気記録再生特性に優れたものである等
の特長を有する。
、 −io−
第1図a、b及び第2図は従来の方法によって製造され
た磁気ヘッドの説明図、第3図は本発明になる磁気ヘッ
ドの製造方法の第1の実施例を示を説明図、第4図a〜
dは本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第2の実施例
を示す製造工程説明図、第5図は本発明になる磁気ヘッ
ドの製造方法の第3の実施例を示す説明図、第6図はプ
ラズマジェット溶剤を行なう際の装置の説明図である。 10、11・・・コア反対、12・・・ギVツプスペサ
、13・・・保持体、14・・・保持体、15・・・磁
性層、16・・・保持体、17・・・巻線用窓、18・
・・ギVツブスペーサ、19・・・磁性層、20・・・
保持体、21・・・保持体、22・・・巻線用窓、23
・・・薄膜層。 11− n 第6図 會 ↑820
た磁気ヘッドの説明図、第3図は本発明になる磁気ヘッ
ドの製造方法の第1の実施例を示を説明図、第4図a〜
dは本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第2の実施例
を示す製造工程説明図、第5図は本発明になる磁気ヘッ
ドの製造方法の第3の実施例を示す説明図、第6図はプ
ラズマジェット溶剤を行なう際の装置の説明図である。 10、11・・・コア反対、12・・・ギVツプスペサ
、13・・・保持体、14・・・保持体、15・・・磁
性層、16・・・保持体、17・・・巻線用窓、18・
・・ギVツブスペーサ、19・・・磁性層、20・・・
保持体、21・・・保持体、22・・・巻線用窓、23
・・・薄膜層。 11− n 第6図 會 ↑820
Claims (1)
- 磁気ヘッドの磁性体側面に非磁性材料による保持体をプ
ラズマジェット溶射により形成してなる磁気ヘッドの製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8498884A JPS59218619A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8498884A JPS59218619A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59218619A true JPS59218619A (ja) | 1984-12-08 |
Family
ID=13846000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8498884A Pending JPS59218619A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59218619A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990876A (en) * | 1989-09-15 | 1991-02-05 | Eastman Kodak Company | Magnetic brush, inner core therefor, and method for making such core |
-
1984
- 1984-04-26 JP JP8498884A patent/JPS59218619A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990876A (en) * | 1989-09-15 | 1991-02-05 | Eastman Kodak Company | Magnetic brush, inner core therefor, and method for making such core |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0328104B1 (en) | Magnetic head and method of manufacturing the same | |
JPS5817522A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造法 | |
JPS59218619A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPS6013311A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
JPH0475564B2 (ja) | ||
JPS6238518A (ja) | 複合型磁気ヘツド | |
JPH0316094Y2 (ja) | ||
JPH01211202A (ja) | 複合型磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH0227506A (ja) | 複合型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
JP2857157B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS63124208A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPS6220109A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH01138604A (ja) | 高密度記録用磁気ヘッド | |
JPH01235011A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS63269310A (ja) | 磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
JPH05314418A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
JPS59107413A (ja) | 磁気ヘツドとその製作方法 | |
JPS63213111A (ja) | 磁気ヘツドのギヤツプ形成方法 | |
JPS6074112A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH01245408A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JPH0325709A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH0235608A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
JPS63108510A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH0246510A (ja) | 磁気ヘッドコアおよびその製造方法 | |
JPS6251009A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 |