JPS5921163B2 - デンシビ−ムロコウソウチ - Google Patents

デンシビ−ムロコウソウチ

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Publication number
JPS5921163B2
JPS5921163B2 JP50154767A JP15476775A JPS5921163B2 JP S5921163 B2 JPS5921163 B2 JP S5921163B2 JP 50154767 A JP50154767 A JP 50154767A JP 15476775 A JP15476775 A JP 15476775A JP S5921163 B2 JPS5921163 B2 JP S5921163B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scanning
current
electron beam
objective lens
lens
Prior art date
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Expired
Application number
JP50154767A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5279662A (en
Inventor
昌彦 鷲見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP50154767A priority Critical patent/JPS5921163B2/ja
Priority to US05/675,170 priority patent/US4063103A/en
Publication of JPS5279662A publication Critical patent/JPS5279662A/ja
Publication of JPS5921163B2 publication Critical patent/JPS5921163B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は電子ビーム露光装置に係わり、特に電子ビー
ムの走査方向の補正が可能な電子ビーム露光装置に関す
る。
電子ビーム露光装置は例えば第1図に示すような構造を
有している。
図において1は電子銃、2はコンデンサレンズ、31、
32は2による像、4x、4−x、4y、4−yはビー
ム偏向用電極、5はスリット、6は対物レンズ、□は6
による焦点である。従来技術ではビーム電流を変化させ
る場合はコンデンサレンズ2の強度を変化させそれによ
つてスリット5に入る電流値を変化せしめていた。
しかし、その場合結像位置が例えば、31から32に変
化する。このため点□で焦点を結ばせるためには対物レ
ンズ6の電流強度を変化させてやらねばならない。とこ
ろがその変化によつてその走査ビームの方向ベクトルが
非常にわずかであるが回転することが本発明者により確
認された。そのため第2図に示すように矢印のベクトル
V1の如く走査して長方形図形21を描くように装置を
調節しておいても、電流値をコンデンサレンズ2で変化
させるとベクトルV2になり描画図形が22のように像
の重ね合せつなぎに誤差が出る。本発明はこのような事
情に鑑みてなされたもので、その目的とするところはコ
ンデンサレンズの調節により走査ベクトルが回転しない
ような電子ビーム露光装置を提供することにある。
本発明ではコンデンサレンズ調節に伴う対物レンズ調節
による像の回転を走査系にフィードバックすることによ
り上記目的を達成している。
以下本発明の詳細を図面を参照しながら説明する。先づ
本発明の原理を説明する。第1図に於いて、初めに像は
31にあつたとする。
このとき、対物レンズ6の焦点距離をflとすると一
+ −=−・・・・・・(ハ式が成立する。
albflところでビーム電流を増加させるために2の
コイル電流を減少させ焦点を32に持つていつたとする
と…式でa、→a2(a1>a2)となるからfl→f
2として…式を満足するよう対物レンズ6のコイル電流
を強めてやらなければならない。
しかるに6の電流が増すということは3における像が□
で再び結像した時、その回転角θが増大することを意味
する。θocf::B(Z)dZ(たたし、Zは中心軸
上の距離)フ であることが知られている。
ここでJ■”、31dZゴ:32、’すなわち、積分経
路中でレンズ近傍以外の積分がほとんど寄与しないこと
を考察すると、θocB閃となる。
B(Z)はコイ5 ル電流に対してヒステリシス効果な
どのために完全に比例はしないが、実用上の近似の範囲
でコイル電流に比例すると見てよい。すなわち対物レン
ズによる像の回転角θは対物レンズ電流にほぼ比例する
このことから、定常状態例えば結像位置31の時の対物
レンズ電流を1とすれば、電流1を12に変化させた時
には(2−11)に比例した量を走査装置4x,−X,
−yにフイールドバツクしてやればよい。走査は定常状
態では、4x,4−xのみによつて正しい方向に走査さ
れるよう装置が調整されていると仮定する。その場合に
はθ=K(2−11)としてKを適当に選ぶと、1具J
工′)0H鳳U Aは定数とすればよいことが簡単な考察より分る。
ここでθの値は実際には10−2程度以下の値であるた
め、x←XVy+−AXθ としてやればよい。
すなわち、(補正走査電極にかける電圧)対物レンズの
定常値からのずれとしてやればよい。比例定数はもちろ
ん計算しても求まるが実施例では実験により最も適当な
値を定めることができる。第4図は本発明の一実施例に
於いて使用される演算回路でありレンズ電流の変化分が
直接走査補正電極に加えられるようになつている。この
演算回路が第1図の露光装置に結合される。第4図の演
算回路に於いて、接続点60には3種類の信号が供給さ
れる。
即ち、電圧源41,42の出力を差動入力アンプ43へ
送り得られる差動出力信号と、初期オフセツト用入力端
子44から得られるオフセツト信号と、定電圧電源47
から送られる定電圧信号とが供給される。電圧源41は
、設計したように焦点を結ぶに必要な基準となる対物レ
ンズ6電流1,に対応した電圧を与える。電圧源42は
実際に焦点合わせの為に対物レンズ6に供給された電流
12に対応した電圧を与える。入力端子44は、走査用
電極4x,4−X,4y,4−yの機械的設定及び上記
基準電流11による電子ビームの走査方向を所望の走査
方向に補正するための初期設定信号を供給する。定電圧
源47は、試料台8の前進及び後退による電子ビーム走
査方向のずれを補正する信号を供給するもので、計算機
45によるスイツチの切換えにより選択的に送出される
。これら供給信号は抵抗群48を介して接続点60に与
えられ、更に電力増ノ幅器50を介して偏向電極4yに
、又インバータ49及び電力増幅器50を介して偏向電
極4−yに印加され対物レンズ6の制御による電子ビー
ムの走査方向のずれを補正する。
従来は第2図の描画図形22で図形のずれが1μm程度
にも及ぶことがあつたが本発明により0。
05μm以下に抑えられた。
発明の他の実施例として、対物レンズ電流の代りにコン
デンサレンズ電流をフイードバツクに用いたり、逆方向
の極性(対物レンズ極性が上下にNSであれば上下にS
Nとする)を持つた補正レンズを対物レンズ6の土又は
下に入れることもできる。
走査偏向用の電極はもちろん電磁コイルでもよいし、コ
ンデンサレンズは2段以上の多段であつてもよい。走査
偏向用の電極はコンデンサレンズの下側でもよい。上述
した実施例ではX方向の走査のみを行なつていてy方向
に補正を行なつたが、X,y方向の中間方向に走査を用
いても対物レンズ電流からの値を適当に用いフイードバ
ツクすると走査方向ベクトルの回転を行うことが出来る
試料台8を動かしながら走査を行う時には例えば台8が
前進方向の時、第2図の図形21の如く走査出来たとし
ても後退方向の時は第2図の図形22の如く見かけ上走
査方向の回転が起つたように見える。
この場合の補性は第4図の計算機45からの切換スイツ
チ46により補正電極4y,4−y用電源を変化させて
行う。電子顕微鏡SEMに於いても、もし回転をくい止
めようとすれば本技術を用いることで解決できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は電子ビーム露光装置の構成例を示す概略構成図
、第2図は図形のつなぎ方を説明するための説明図、第
3図は本発明の原理を説明するための説明図、第4図は
本発明の一実施例を説明するための回路図である。 図において、1・・・・・・電子銃、2・・・・・・コ
ンデンサレンズ、31,32・・・・・・焦点位置、4
x,−X,y,−y・・・・・・走査用電極、5・・・
・・・スリツト、6・・・・・・対物レンズ、7・・・
・・・試料上の焦点、8・・・・・・試料台、43・・
・・・・差動入力アンプ、41,42・・・・・・電圧
源、48・・・・・・入力電圧合成抵抗群、49・・・
・・・インバータ、50・・・・・・電力幅巾器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 電子ビームを放射する電子銃と、この電子銃から放
    射された電子ビームを偏向する偏向手段と、この偏向手
    段により偏向された電子ビームを結像するレンズと、こ
    のレンズによる磁場の強さに略比例した信号により前記
    電子ビームの方向を制御する手段とを具備した電子ビー
    ム露光装置。
JP50154767A 1975-04-11 1975-12-26 デンシビ−ムロコウソウチ Expired JPS5921163B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50154767A JPS5921163B2 (ja) 1975-12-26 1975-12-26 デンシビ−ムロコウソウチ
US05/675,170 US4063103A (en) 1975-04-11 1976-04-08 Electron beam exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50154767A JPS5921163B2 (ja) 1975-12-26 1975-12-26 デンシビ−ムロコウソウチ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5279662A JPS5279662A (en) 1977-07-04
JPS5921163B2 true JPS5921163B2 (ja) 1984-05-18

Family

ID=15591437

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50154767A Expired JPS5921163B2 (ja) 1975-04-11 1975-12-26 デンシビ−ムロコウソウチ

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5694739A (en) * 1979-12-28 1981-07-31 Fujitsu Ltd Electronic beam exposure method
JPS5891634A (ja) * 1981-11-26 1983-05-31 Toshiba Corp 偏向電極の回転補正量測定方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5279662A (en) 1977-07-04

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