JPS5921163B2 - デンシビ−ムロコウソウチ - Google Patents
デンシビ−ムロコウソウチInfo
- Publication number
- JPS5921163B2 JPS5921163B2 JP50154767A JP15476775A JPS5921163B2 JP S5921163 B2 JPS5921163 B2 JP S5921163B2 JP 50154767 A JP50154767 A JP 50154767A JP 15476775 A JP15476775 A JP 15476775A JP S5921163 B2 JPS5921163 B2 JP S5921163B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- current
- electron beam
- objective lens
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は電子ビーム露光装置に係わり、特に電子ビー
ムの走査方向の補正が可能な電子ビーム露光装置に関す
る。
ムの走査方向の補正が可能な電子ビーム露光装置に関す
る。
電子ビーム露光装置は例えば第1図に示すような構造を
有している。
有している。
図において1は電子銃、2はコンデンサレンズ、31、
32は2による像、4x、4−x、4y、4−yはビー
ム偏向用電極、5はスリット、6は対物レンズ、□は6
による焦点である。従来技術ではビーム電流を変化させ
る場合はコンデンサレンズ2の強度を変化させそれによ
つてスリット5に入る電流値を変化せしめていた。
32は2による像、4x、4−x、4y、4−yはビー
ム偏向用電極、5はスリット、6は対物レンズ、□は6
による焦点である。従来技術ではビーム電流を変化させ
る場合はコンデンサレンズ2の強度を変化させそれによ
つてスリット5に入る電流値を変化せしめていた。
しかし、その場合結像位置が例えば、31から32に変
化する。このため点□で焦点を結ばせるためには対物レ
ンズ6の電流強度を変化させてやらねばならない。とこ
ろがその変化によつてその走査ビームの方向ベクトルが
非常にわずかであるが回転することが本発明者により確
認された。そのため第2図に示すように矢印のベクトル
V1の如く走査して長方形図形21を描くように装置を
調節しておいても、電流値をコンデンサレンズ2で変化
させるとベクトルV2になり描画図形が22のように像
の重ね合せつなぎに誤差が出る。本発明はこのような事
情に鑑みてなされたもので、その目的とするところはコ
ンデンサレンズの調節により走査ベクトルが回転しない
ような電子ビーム露光装置を提供することにある。
化する。このため点□で焦点を結ばせるためには対物レ
ンズ6の電流強度を変化させてやらねばならない。とこ
ろがその変化によつてその走査ビームの方向ベクトルが
非常にわずかであるが回転することが本発明者により確
認された。そのため第2図に示すように矢印のベクトル
V1の如く走査して長方形図形21を描くように装置を
調節しておいても、電流値をコンデンサレンズ2で変化
させるとベクトルV2になり描画図形が22のように像
の重ね合せつなぎに誤差が出る。本発明はこのような事
情に鑑みてなされたもので、その目的とするところはコ
ンデンサレンズの調節により走査ベクトルが回転しない
ような電子ビーム露光装置を提供することにある。
本発明ではコンデンサレンズ調節に伴う対物レンズ調節
による像の回転を走査系にフィードバックすることによ
り上記目的を達成している。
による像の回転を走査系にフィードバックすることによ
り上記目的を達成している。
以下本発明の詳細を図面を参照しながら説明する。先づ
本発明の原理を説明する。第1図に於いて、初めに像は
31にあつたとする。
本発明の原理を説明する。第1図に於いて、初めに像は
31にあつたとする。
このとき、対物レンズ6の焦点距離をflとすると一
+ −=−・・・・・・(ハ式が成立する。
+ −=−・・・・・・(ハ式が成立する。
albflところでビーム電流を増加させるために2の
コイル電流を減少させ焦点を32に持つていつたとする
と…式でa、→a2(a1>a2)となるからfl→f
2として…式を満足するよう対物レンズ6のコイル電流
を強めてやらなければならない。
コイル電流を減少させ焦点を32に持つていつたとする
と…式でa、→a2(a1>a2)となるからfl→f
2として…式を満足するよう対物レンズ6のコイル電流
を強めてやらなければならない。
しかるに6の電流が増すということは3における像が□
で再び結像した時、その回転角θが増大することを意味
する。θocf::B(Z)dZ(たたし、Zは中心軸
上の距離)フ であることが知られている。
で再び結像した時、その回転角θが増大することを意味
する。θocf::B(Z)dZ(たたし、Zは中心軸
上の距離)フ であることが知られている。
ここでJ■”、31dZゴ:32、’すなわち、積分経
路中でレンズ近傍以外の積分がほとんど寄与しないこと
を考察すると、θocB閃となる。
路中でレンズ近傍以外の積分がほとんど寄与しないこと
を考察すると、θocB閃となる。
B(Z)はコイ5 ル電流に対してヒステリシス効果な
どのために完全に比例はしないが、実用上の近似の範囲
でコイル電流に比例すると見てよい。すなわち対物レン
ズによる像の回転角θは対物レンズ電流にほぼ比例する
。
どのために完全に比例はしないが、実用上の近似の範囲
でコイル電流に比例すると見てよい。すなわち対物レン
ズによる像の回転角θは対物レンズ電流にほぼ比例する
。
このことから、定常状態例えば結像位置31の時の対物
レンズ電流を1とすれば、電流1を12に変化させた時
には(2−11)に比例した量を走査装置4x,−X,
−yにフイールドバツクしてやればよい。走査は定常状
態では、4x,4−xのみによつて正しい方向に走査さ
れるよう装置が調整されていると仮定する。その場合に
はθ=K(2−11)としてKを適当に選ぶと、1具J
工′)0H鳳U Aは定数とすればよいことが簡単な考察より分る。
レンズ電流を1とすれば、電流1を12に変化させた時
には(2−11)に比例した量を走査装置4x,−X,
−yにフイールドバツクしてやればよい。走査は定常状
態では、4x,4−xのみによつて正しい方向に走査さ
れるよう装置が調整されていると仮定する。その場合に
はθ=K(2−11)としてKを適当に選ぶと、1具J
工′)0H鳳U Aは定数とすればよいことが簡単な考察より分る。
ここでθの値は実際には10−2程度以下の値であるた
め、x←XVy+−AXθ としてやればよい。
め、x←XVy+−AXθ としてやればよい。
すなわち、(補正走査電極にかける電圧)対物レンズの
定常値からのずれとしてやればよい。比例定数はもちろ
ん計算しても求まるが実施例では実験により最も適当な
値を定めることができる。第4図は本発明の一実施例に
於いて使用される演算回路でありレンズ電流の変化分が
直接走査補正電極に加えられるようになつている。この
演算回路が第1図の露光装置に結合される。第4図の演
算回路に於いて、接続点60には3種類の信号が供給さ
れる。
定常値からのずれとしてやればよい。比例定数はもちろ
ん計算しても求まるが実施例では実験により最も適当な
値を定めることができる。第4図は本発明の一実施例に
於いて使用される演算回路でありレンズ電流の変化分が
直接走査補正電極に加えられるようになつている。この
演算回路が第1図の露光装置に結合される。第4図の演
算回路に於いて、接続点60には3種類の信号が供給さ
れる。
即ち、電圧源41,42の出力を差動入力アンプ43へ
送り得られる差動出力信号と、初期オフセツト用入力端
子44から得られるオフセツト信号と、定電圧電源47
から送られる定電圧信号とが供給される。電圧源41は
、設計したように焦点を結ぶに必要な基準となる対物レ
ンズ6電流1,に対応した電圧を与える。電圧源42は
実際に焦点合わせの為に対物レンズ6に供給された電流
12に対応した電圧を与える。入力端子44は、走査用
電極4x,4−X,4y,4−yの機械的設定及び上記
基準電流11による電子ビームの走査方向を所望の走査
方向に補正するための初期設定信号を供給する。定電圧
源47は、試料台8の前進及び後退による電子ビーム走
査方向のずれを補正する信号を供給するもので、計算機
45によるスイツチの切換えにより選択的に送出される
。これら供給信号は抵抗群48を介して接続点60に与
えられ、更に電力増ノ幅器50を介して偏向電極4yに
、又インバータ49及び電力増幅器50を介して偏向電
極4−yに印加され対物レンズ6の制御による電子ビー
ムの走査方向のずれを補正する。
送り得られる差動出力信号と、初期オフセツト用入力端
子44から得られるオフセツト信号と、定電圧電源47
から送られる定電圧信号とが供給される。電圧源41は
、設計したように焦点を結ぶに必要な基準となる対物レ
ンズ6電流1,に対応した電圧を与える。電圧源42は
実際に焦点合わせの為に対物レンズ6に供給された電流
12に対応した電圧を与える。入力端子44は、走査用
電極4x,4−X,4y,4−yの機械的設定及び上記
基準電流11による電子ビームの走査方向を所望の走査
方向に補正するための初期設定信号を供給する。定電圧
源47は、試料台8の前進及び後退による電子ビーム走
査方向のずれを補正する信号を供給するもので、計算機
45によるスイツチの切換えにより選択的に送出される
。これら供給信号は抵抗群48を介して接続点60に与
えられ、更に電力増ノ幅器50を介して偏向電極4yに
、又インバータ49及び電力増幅器50を介して偏向電
極4−yに印加され対物レンズ6の制御による電子ビー
ムの走査方向のずれを補正する。
従来は第2図の描画図形22で図形のずれが1μm程度
にも及ぶことがあつたが本発明により0。
にも及ぶことがあつたが本発明により0。
05μm以下に抑えられた。
発明の他の実施例として、対物レンズ電流の代りにコン
デンサレンズ電流をフイードバツクに用いたり、逆方向
の極性(対物レンズ極性が上下にNSであれば上下にS
Nとする)を持つた補正レンズを対物レンズ6の土又は
下に入れることもできる。
デンサレンズ電流をフイードバツクに用いたり、逆方向
の極性(対物レンズ極性が上下にNSであれば上下にS
Nとする)を持つた補正レンズを対物レンズ6の土又は
下に入れることもできる。
走査偏向用の電極はもちろん電磁コイルでもよいし、コ
ンデンサレンズは2段以上の多段であつてもよい。走査
偏向用の電極はコンデンサレンズの下側でもよい。上述
した実施例ではX方向の走査のみを行なつていてy方向
に補正を行なつたが、X,y方向の中間方向に走査を用
いても対物レンズ電流からの値を適当に用いフイードバ
ツクすると走査方向ベクトルの回転を行うことが出来る
。
ンデンサレンズは2段以上の多段であつてもよい。走査
偏向用の電極はコンデンサレンズの下側でもよい。上述
した実施例ではX方向の走査のみを行なつていてy方向
に補正を行なつたが、X,y方向の中間方向に走査を用
いても対物レンズ電流からの値を適当に用いフイードバ
ツクすると走査方向ベクトルの回転を行うことが出来る
。
試料台8を動かしながら走査を行う時には例えば台8が
前進方向の時、第2図の図形21の如く走査出来たとし
ても後退方向の時は第2図の図形22の如く見かけ上走
査方向の回転が起つたように見える。
前進方向の時、第2図の図形21の如く走査出来たとし
ても後退方向の時は第2図の図形22の如く見かけ上走
査方向の回転が起つたように見える。
この場合の補性は第4図の計算機45からの切換スイツ
チ46により補正電極4y,4−y用電源を変化させて
行う。電子顕微鏡SEMに於いても、もし回転をくい止
めようとすれば本技術を用いることで解決できる。
チ46により補正電極4y,4−y用電源を変化させて
行う。電子顕微鏡SEMに於いても、もし回転をくい止
めようとすれば本技術を用いることで解決できる。
第1図は電子ビーム露光装置の構成例を示す概略構成図
、第2図は図形のつなぎ方を説明するための説明図、第
3図は本発明の原理を説明するための説明図、第4図は
本発明の一実施例を説明するための回路図である。 図において、1・・・・・・電子銃、2・・・・・・コ
ンデンサレンズ、31,32・・・・・・焦点位置、4
x,−X,y,−y・・・・・・走査用電極、5・・・
・・・スリツト、6・・・・・・対物レンズ、7・・・
・・・試料上の焦点、8・・・・・・試料台、43・・
・・・・差動入力アンプ、41,42・・・・・・電圧
源、48・・・・・・入力電圧合成抵抗群、49・・・
・・・インバータ、50・・・・・・電力幅巾器。
、第2図は図形のつなぎ方を説明するための説明図、第
3図は本発明の原理を説明するための説明図、第4図は
本発明の一実施例を説明するための回路図である。 図において、1・・・・・・電子銃、2・・・・・・コ
ンデンサレンズ、31,32・・・・・・焦点位置、4
x,−X,y,−y・・・・・・走査用電極、5・・・
・・・スリツト、6・・・・・・対物レンズ、7・・・
・・・試料上の焦点、8・・・・・・試料台、43・・
・・・・差動入力アンプ、41,42・・・・・・電圧
源、48・・・・・・入力電圧合成抵抗群、49・・・
・・・インバータ、50・・・・・・電力幅巾器。
Claims (1)
- 1 電子ビームを放射する電子銃と、この電子銃から放
射された電子ビームを偏向する偏向手段と、この偏向手
段により偏向された電子ビームを結像するレンズと、こ
のレンズによる磁場の強さに略比例した信号により前記
電子ビームの方向を制御する手段とを具備した電子ビー
ム露光装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP50154767A JPS5921163B2 (ja) | 1975-12-26 | 1975-12-26 | デンシビ−ムロコウソウチ |
US05/675,170 US4063103A (en) | 1975-04-11 | 1976-04-08 | Electron beam exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP50154767A JPS5921163B2 (ja) | 1975-12-26 | 1975-12-26 | デンシビ−ムロコウソウチ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5279662A JPS5279662A (en) | 1977-07-04 |
JPS5921163B2 true JPS5921163B2 (ja) | 1984-05-18 |
Family
ID=15591437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50154767A Expired JPS5921163B2 (ja) | 1975-04-11 | 1975-12-26 | デンシビ−ムロコウソウチ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5921163B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5694739A (en) * | 1979-12-28 | 1981-07-31 | Fujitsu Ltd | Electronic beam exposure method |
JPS5891634A (ja) * | 1981-11-26 | 1983-05-31 | Toshiba Corp | 偏向電極の回転補正量測定方法 |
-
1975
- 1975-12-26 JP JP50154767A patent/JPS5921163B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5279662A (en) | 1977-07-04 |
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