JPS59208845A - ハイブリツドicの製造方法 - Google Patents
ハイブリツドicの製造方法Info
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- JPS59208845A JPS59208845A JP58084411A JP8441183A JPS59208845A JP S59208845 A JPS59208845 A JP S59208845A JP 58084411 A JP58084411 A JP 58084411A JP 8441183 A JP8441183 A JP 8441183A JP S59208845 A JPS59208845 A JP S59208845A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体ペレットを利用して電子回路を構成する
ハイブリッドICの製造方法に関するものである。
ハイブリッドICの製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来のハイブリッドICi遣方法に於ける工程を第1図
に示す。これは、セラミック、アルミ等の基板に回路パ
ターンを印刷焼成し、抵抗・コンf7す・トランジスタ
等のチップ部品を取υ付け、次にハンダリフロー、超音
波洗浄後、半導体ペレットをダイポンディグし、前記回
路パターンとの接続をワイヤボンディングにより行なっ
ていた。
に示す。これは、セラミック、アルミ等の基板に回路パ
ターンを印刷焼成し、抵抗・コンf7す・トランジスタ
等のチップ部品を取υ付け、次にハンダリフロー、超音
波洗浄後、半導体ペレットをダイポンディグし、前記回
路パターンとの接続をワイヤボンディングにより行なっ
ていた。
しかしこの場合、金又は銀等により形成されたリード部
へ酸素・銅・炭素等の不純物が多量に拡散し、著しくワ
イヤボンディング性を低下させ、又ボンディング強度を
下げる等の欠点を有していた。
へ酸素・銅・炭素等の不純物が多量に拡散し、著しくワ
イヤボンディング性を低下させ、又ボンディング強度を
下げる等の欠点を有していた。
発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み−・イブリッドIC製造工程に
於いて金・銀等で形成されたリード部の金或は銀への不
純物拡散を防止しボンディング性或はボンディング強度
を向上させハイブリッドICの故障を低減するだめのハ
イブリッドICの製造方法を提供するものである。
於いて金・銀等で形成されたリード部の金或は銀への不
純物拡散を防止しボンディング性或はボンディング強度
を向上させハイブリッドICの故障を低減するだめのハ
イブリッドICの製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明はハイブリッドICIQ造工程中に於い−C基板
に金或は銀により形成されたリード部に例えば、溶剤、
樹脂、活性剤等で構成したフラックス(以下マスクとす
る)を塗布しハンダリフロー後前記マスクを超音波洗浄
等により除却し、その後ワイヤボンディングするように
工程が構成されており前記リード部の金或は銀への不純
物(酸素。
に金或は銀により形成されたリード部に例えば、溶剤、
樹脂、活性剤等で構成したフラックス(以下マスクとす
る)を塗布しハンダリフロー後前記マスクを超音波洗浄
等により除却し、その後ワイヤボンディングするように
工程が構成されており前記リード部の金或は銀への不純
物(酸素。
銅、炭素、スズ等)の拡散を防止しボンディング性或は
ボンディング強度を著しく向上させボンディング不良を
低減させハイブリッドICの信頼性を向上させるという
特有の効果を有する。
ボンディング強度を著しく向上させボンディング不良を
低減させハイブリッドICの信頼性を向上させるという
特有の効果を有する。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。第2図は本発明の対象となるハイブリッドICの
概略図であり、1は基板、2は抵抗、コンデンサ、トラ
ンジスタ等のチップ部品であり基板1にマウントされて
いる。3は半導体ペレットであり金或はアルミa線4に
より基板1に形成された回路パターンであるリード線5
に電気的に接続(ワイヤボンディング)されている。6
はプリント基板等に実装するための端子である。
する。第2図は本発明の対象となるハイブリッドICの
概略図であり、1は基板、2は抵抗、コンデンサ、トラ
ンジスタ等のチップ部品であり基板1にマウントされて
いる。3は半導体ペレットであり金或はアルミa線4に
より基板1に形成された回路パターンであるリード線5
に電気的に接続(ワイヤボンディング)されている。6
はプリント基板等に実装するための端子である。
第3図は本発明のハイブリッドIC製造工程を示すもの
であり7は回路パターンを形成するための導体の印刷及
び焼成、8は回路パターンを保護するためのガラスコー
ト、9は半導体ペレット3(第2図)との電気的接続を
行なう回路パターンである金又は銀で形成されたリード
5(第4図)へのハンダリフロ一工程11での不純物(
酸素。
であり7は回路パターンを形成するための導体の印刷及
び焼成、8は回路パターンを保護するためのガラスコー
ト、9は半導体ペレット3(第2図)との電気的接続を
行なう回路パターンである金又は銀で形成されたリード
5(第4図)へのハンダリフロ一工程11での不純物(
酸素。
銅、炭素、スズ等)拡散を防止するための例えば溶剤+
樹脂+活性剤等で構成されたフラックスによるマスク1
9を塗布する工程である。
樹脂+活性剤等で構成されたフラックスによるマスク1
9を塗布する工程である。
1oは抵抗、トランジスタ、コンデンサ等のチップ部品
マウント工程、11は前記チップ部品2のハンダリフロ
一工程、12は前記マスク19を除却する超音波洗浄工
程、13は半導体ペレット3のグイボンド工程、14は
ダイ硬化、16は前記半導体ペレット3とリード6の電
気的接続を行なうワイヤボンド工程、16は半導体ペレ
ット保護のための樹脂による封止、17は端子6の取付
は工程、18は基板1全体の樹脂モールド工程である。
マウント工程、11は前記チップ部品2のハンダリフロ
一工程、12は前記マスク19を除却する超音波洗浄工
程、13は半導体ペレット3のグイボンド工程、14は
ダイ硬化、16は前記半導体ペレット3とリード6の電
気的接続を行なうワイヤボンド工程、16は半導体ペレ
ット保護のための樹脂による封止、17は端子6の取付
は工程、18は基板1全体の樹脂モールド工程である。
なお実施例では半導体ペレットと基板リードとの配線方
法をワイヤボンディングとしたが、これに限定されるも
のでなく、一般に用いられる配線方法であるギヤングボ
ンディングでもよいことはいうまでもない。
法をワイヤボンディングとしたが、これに限定されるも
のでなく、一般に用いられる配線方法であるギヤングボ
ンディングでもよいことはいうまでもない。
発明の効果
以上のように本発明によれば、ハンダリフロ一工程より
前工程にマスク塗布工程を設けることにより回路パター
ンの金又は銀で構成きれたリードへの不純物の拡散が防
止でき半導体ペレットとの電気的接続を行なうワイヤボ
ンディジグ工程においてボンディング性或はボンディン
グ強度を向上させハイブリッドICの故障を低減するこ
とができ、その効果は犬なるものがある。
前工程にマスク塗布工程を設けることにより回路パター
ンの金又は銀で構成きれたリードへの不純物の拡散が防
止でき半導体ペレットとの電気的接続を行なうワイヤボ
ンディジグ工程においてボンディング性或はボンディン
グ強度を向上させハイブリッドICの故障を低減するこ
とができ、その効果は犬なるものがある。
第1図は従来のハイブリッドICの製造方法を示す工程
図、第2図はハイブリッドICの外観を示す平面図、第
3図は本発明の一実施例におけるハイブリッドICの製
造方法の工程図、第4図はマスク状態を示す基板の平面
図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・チップ部品、3・
・・・・・半導体ペレット、4・・・・・細線、6・・
・・・・リード、6・・・・・・端子、9・・・・・マ
スク塗布工程、12・・・・・・超音波洗浄工程、14
・・・・・・ワイヤボンド工程、19・・・・・マスク
0 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 m 2図 第4図
図、第2図はハイブリッドICの外観を示す平面図、第
3図は本発明の一実施例におけるハイブリッドICの製
造方法の工程図、第4図はマスク状態を示す基板の平面
図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・チップ部品、3・
・・・・・半導体ペレット、4・・・・・細線、6・・
・・・・リード、6・・・・・・端子、9・・・・・マ
スク塗布工程、12・・・・・・超音波洗浄工程、14
・・・・・・ワイヤボンド工程、19・・・・・マスク
0 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 m 2図 第4図
Claims (1)
- 半導体ベレットと回路基板に形成されたリードとを接続
して電子回路を構成するハイブリッドICの製造方法に
おいて、すくなくとも抵抗器、コンデンサ、トランジス
タ等のディスクリート部品をハンダ付けするハンダリフ
ロ一工程の前工程に、半導体ベレット接続用リードへの
不純物拡散防止マスク塗布を行なう工程を設け、かつ前
記ハンダリフロ一工程後に前記マスク除却洗浄工程とを
設けたハイブリッドICの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58084411A JPS59208845A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | ハイブリツドicの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58084411A JPS59208845A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | ハイブリツドicの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59208845A true JPS59208845A (ja) | 1984-11-27 |
JPH0216578B2 JPH0216578B2 (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=13829843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58084411A Granted JPS59208845A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | ハイブリツドicの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59208845A (ja) |
-
1983
- 1983-05-13 JP JP58084411A patent/JPS59208845A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0216578B2 (ja) | 1990-04-17 |
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