JPS59201868A - 液体噴射記録ヘツド - Google Patents
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- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1646—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by sputtering
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
謂、液体噴射記録方式に用いる記録液を噴射し記録液の
飛翔的液滴を形成させる為の液体噴射記録ヘッドに関す
る。
飛翔的液滴を形成させる為の液体噴射記録ヘッドに関す
る。
インクジェソト記録法(液体噴射記録法)は、記録時(
でおける騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さいと
いう点高速記録が可能であり、而も所謂普通紙に定着と
いう特別な処理を必要とせずに記録の行なえる点におい
て最近関心を集めている。
でおける騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さいと
いう点高速記録が可能であり、而も所謂普通紙に定着と
いう特別な処理を必要とせずに記録の行なえる点におい
て最近関心を集めている。
その中で、例えば特開昭5グ一37f37号公報、ドイ
ツ公開(DOLS)第.、I ll306グ号公報に記
載されている液体噴射記録法は、熱エネルギーを液体に
作用させて、液滴吐出の為の原動力を得るという点にお
いて、他の液体噴射記録法とは、異なる特徴を有してい
る。
ツ公開(DOLS)第.、I ll306グ号公報に記
載されている液体噴射記録法は、熱エネルギーを液体に
作用させて、液滴吐出の為の原動力を得るという点にお
いて、他の液体噴射記録法とは、異なる特徴を有してい
る。
即ち、上記の公報に開示されている記録法は、熱エネル
ギーの作用を受けた液体が急峻な体積の増大を伴う状態
変化を起こし、該状態変化に基づく作用力だよって、記
録ヘッド部先端のオリフィスよ)液体が吐出されて、飛
翔的液滴が形成され、該液滴が被記録部材1て付着し記
録が行なわれるという特徴がある。
ギーの作用を受けた液体が急峻な体積の増大を伴う状態
変化を起こし、該状態変化に基づく作用力だよって、記
録ヘッド部先端のオリフィスよ)液体が吐出されて、飛
翔的液滴が形成され、該液滴が被記録部材1て付着し記
録が行なわれるという特徴がある。
殊に、DOL8.2g’13θ乙グ号公報に開示されて
いる液体噴射記録法は、所謂drop−on dema
nd 記録法に極めて有効に適用されるばかりではな
く、記録ヘッド部をfull 1ineタイプで高密度
マルチオリフィス化された記録ヘッドが容易に具現化出
宋るので、高解像度、高品質の画像を高速で得られると
いう特徴を有している。
いる液体噴射記録法は、所謂drop−on dema
nd 記録法に極めて有効に適用されるばかりではな
く、記録ヘッド部をfull 1ineタイプで高密度
マルチオリフィス化された記録ヘッドが容易に具現化出
宋るので、高解像度、高品質の画像を高速で得られると
いう特徴を有している。
上記の記録法に適用される装置の記録ヘット部は、液体
を吐出する為に設けられたオリフィスと、該オリフィス
(て連通し、液滴を吐出する為の熱エネルギーが液体に
作用する部分である熱作用部を構成の一部とする液流路
とを有する液吐出部さ、熱エネルギーを発生する手段と
しての電気熱変換体とを具イIjji L/ている。
を吐出する為に設けられたオリフィスと、該オリフィス
(て連通し、液滴を吐出する為の熱エネルギーが液体に
作用する部分である熱作用部を構成の一部とする液流路
とを有する液吐出部さ、熱エネルギーを発生する手段と
しての電気熱変換体とを具イIjji L/ている。
そして、この電気熱変換体は、一対の電極と、とjtA
、jj、−電極に接続し、これ等の電極間に発熱する領
域(熱発生部)を有する発熱抵抗層とを具備している。
、jj、−電極に接続し、これ等の電極間に発熱する領
域(熱発生部)を有する発熱抵抗層とを具備している。
上記一対の電極は、一般に、選択電極と共通電極とから
なり、これ等電極間に通電することにより上述したオリ
フィスから液滴を吐出する為の熱エネルギーが前記熱発
生部より発生される。
なり、これ等電極間に通電することにより上述したオリ
フィスから液滴を吐出する為の熱エネルギーが前記熱発
生部より発生される。
これ等熱発生部上及び少なくとも記録ヘッド内の液体が
流れるもしくは滞留する領域下に設けらいる発熱抵抗層
を、それ等の上部に、Qる液体から化学的、物理的1(
保護すると共1て、その液体を通じて起こる前記電極間
の短絡及び同種電極、殊に選択電極間のリークを防止し
、更(で液体と電極とか接触し、これに通電することに
よって起こる電極の電蝕を防止するために設けられる。
流れるもしくは滞留する領域下に設けらいる発熱抵抗層
を、それ等の上部に、Qる液体から化学的、物理的1(
保護すると共1て、その液体を通じて起こる前記電極間
の短絡及び同種電極、殊に選択電極間のリークを防止し
、更(で液体と電極とか接触し、これに通電することに
よって起こる電極の電蝕を防止するために設けられる。
上記保護層は、設けられる場所によって要求される特性
が各々異なシ、例えば熱発生部」二に於いては、■耐熱
性、■耐液性、■液浸透防止性、■熱伝導性、■酸化防
止性、■絶縁性及び■耐破傷性に優れていることが要求
され、熱発生部以外の領域に於いては熱的条件では緩和
されるが液浸透防止性、耐液性、絶縁性及び酬破傷性に
は充分優れていることが要求されるQ しかしながら、上記の■〜■の特性の総てを所望通りに
満足する保護層を一層のみで、しかも熱発生部上及び電
極上のすべてを覆うことのできる単一の保愚層用材料は
、今のところなく、実際の記録ヘットVζ於いては、そ
の設けられる場所によって要求される特性を互いに補い
合う種々の材料を選択し、それ等の材料からなる複数の
層で保護層を形成させている。この様な多層から成る保
護層で(は、新だに、積層された各市々り合う層の間の
接着力が十分に強く、記録ヘッドの製造過程及び実際の
使用期間にわたって、層間ての剥離や浮き」二がりなど
の接着力の低下(てよる故障が生じないことが要求され
る。
が各々異なシ、例えば熱発生部」二に於いては、■耐熱
性、■耐液性、■液浸透防止性、■熱伝導性、■酸化防
止性、■絶縁性及び■耐破傷性に優れていることが要求
され、熱発生部以外の領域に於いては熱的条件では緩和
されるが液浸透防止性、耐液性、絶縁性及び酬破傷性に
は充分優れていることが要求されるQ しかしながら、上記の■〜■の特性の総てを所望通りに
満足する保護層を一層のみで、しかも熱発生部上及び電
極上のすべてを覆うことのできる単一の保愚層用材料は
、今のところなく、実際の記録ヘットVζ於いては、そ
の設けられる場所によって要求される特性を互いに補い
合う種々の材料を選択し、それ等の材料からなる複数の
層で保護層を形成させている。この様な多層から成る保
護層で(は、新だに、積層された各市々り合う層の間の
接着力が十分に強く、記録ヘッドの製造過程及び実際の
使用期間にわたって、層間ての剥離や浮き」二がりなど
の接着力の低下(てよる故障が生じないことが要求され
る。
他方、これ等とは別K、マルチオリフィス化タイプの液
体噴射記録ヘッドの場合には、基板上に多数の微細な1
L気熟熱変換を同時に形成する為に、製造過程(・て於
いて、基板上では各層の形成と、形成された層の一部除
去の繰返しが行なわれ、保護層が形成される段階では、
保護層の形成されるその表面はスラツプウエツヂ部(段
差部)のある微細な凹凸状となっているので、この段差
部に於ける保護層の被覆性(5tep coverag
e性)が重要となっている。つまシ、この段差部の被覆
性が悪いと、その部分での液体の浸透が起こシ、電蝕或
は電気的絶縁破壊を起こす誘因となる。また、形成され
る保護層がその製造法上に於いて欠陥部の生ずる確率が
少なくない場合には、その欠陥部を通じて、液体の浸透
が起こり、電気熱変換体の寿命を著しく低下させる要因
となっている。
体噴射記録ヘッドの場合には、基板上に多数の微細な1
L気熟熱変換を同時に形成する為に、製造過程(・て於
いて、基板上では各層の形成と、形成された層の一部除
去の繰返しが行なわれ、保護層が形成される段階では、
保護層の形成されるその表面はスラツプウエツヂ部(段
差部)のある微細な凹凸状となっているので、この段差
部に於ける保護層の被覆性(5tep coverag
e性)が重要となっている。つまシ、この段差部の被覆
性が悪いと、その部分での液体の浸透が起こシ、電蝕或
は電気的絶縁破壊を起こす誘因となる。また、形成され
る保護層がその製造法上に於いて欠陥部の生ずる確率が
少なくない場合には、その欠陥部を通じて、液体の浸透
が起こり、電気熱変換体の寿命を著しく低下させる要因
となっている。
これ等の理由から、保護層は、段差部に於ける被覆性が
良好であること、形成される層にピンホール等の欠陥の
発生する確率が低く、発生しても実用上無視し得る程度
或はそれ以上に少ないことが更に要求される。
良好であること、形成される層にピンホール等の欠陥の
発生する確率が低く、発生しても実用上無視し得る程度
或はそれ以上に少ないことが更に要求される。
特に熱作用面においては、−秒間に数千回の高温と低温
の間の激しい温度変化のサイクルが繰シ返えされる過酷
な条件下にあると共に、熱作用面上の液体は、高温時に
は気化し液体中圧気泡を生じさぜ液流路内の圧力を高め
、また温度の低下に伴って気化した液体が凝縮して気泡
が消滅するに従って液流路内の圧力が低下するという圧
力変化が繰り返され、これ等によって生じる機1戒的ス
トレスが常1て加えられている。このため、少なくとも
熱光部上面を覆う様((設けられる保護層1ては、特(
(機1的ストレス((対する耐衝撃性と保護層を構成す
る複数の層間の接着性に優れていることが要求される。
の間の激しい温度変化のサイクルが繰シ返えされる過酷
な条件下にあると共に、熱作用面上の液体は、高温時に
は気化し液体中圧気泡を生じさぜ液流路内の圧力を高め
、また温度の低下に伴って気化した液体が凝縮して気泡
が消滅するに従って液流路内の圧力が低下するという圧
力変化が繰り返され、これ等によって生じる機1戒的ス
トレスが常1て加えられている。このため、少なくとも
熱光部上面を覆う様((設けられる保護層1ては、特(
(機1的ストレス((対する耐衝撃性と保護層を構成す
る複数の層間の接着性に優れていることが要求される。
しかしながら、従来の液体噴射記録ヘット(で於いては
、上記の諸要求を充分に満たすことかできず、傷゛に熱
発生部上面に設けられた多層からなる保吉舊層の多層間
での剥離を長期間の液体噴射記録装置の使用に際し防ぐ
ことができず、その様な剥離を起こすことがしはしはで
あった。寸だ、記録ヘッドの製造工程、例えば保護層に
保護された′i14気熱変気体変換体られた基板上に液
流路を形成する工程、記録ヘッドを分離する為であるい
はオリフィスを形成する為に記録ヘッドを切断する工程
等(て於いて、保護層を形成する複数の層間での接着性
が低下したり、その層間での剥離が生じ易かつ/こ。一
方、保護層の設けられる場所によって要求される前述し
た特性を充分満足させるように保護層を設計することを
優先させたり、保護層を積層する際の微妙な条件のばら
つき等(てよって形成された保護層の各層の厚さのバラ
ンスかくすれ、各層間の接着性が十分でなくなることも
多かった。
、上記の諸要求を充分に満たすことかできず、傷゛に熱
発生部上面に設けられた多層からなる保吉舊層の多層間
での剥離を長期間の液体噴射記録装置の使用に際し防ぐ
ことができず、その様な剥離を起こすことがしはしはで
あった。寸だ、記録ヘッドの製造工程、例えば保護層に
保護された′i14気熱変気体変換体られた基板上に液
流路を形成する工程、記録ヘッドを分離する為であるい
はオリフィスを形成する為に記録ヘッドを切断する工程
等(て於いて、保護層を形成する複数の層間での接着性
が低下したり、その層間での剥離が生じ易かつ/こ。一
方、保護層の設けられる場所によって要求される前述し
た特性を充分満足させるように保護層を設計することを
優先させたり、保護層を積層する際の微妙な条件のばら
つき等(てよって形成された保護層の各層の厚さのバラ
ンスかくすれ、各層間の接着性が十分でなくなることも
多かった。
本発明は、上記の諸点に鑑み成されたものであって、頻
繁なる繰返し使用や長時間の連続使用に於いて総合的な
耐久性に優れ、初期の良好な液滴形成特性を長期に亘っ
て安定的に維持し得る液体噴射記録ヘットを提供するこ
とを主たる目的とする。
繁なる繰返し使用や長時間の連続使用に於いて総合的な
耐久性に優れ、初期の良好な液滴形成特性を長期に亘っ
て安定的に維持し得る液体噴射記録ヘットを提供するこ
とを主たる目的とする。
寸だ、本発明の別の目的は、製造加工上に於ける信頼性
の高い液体噴射記録ヘットを提供することでもある。
の高い液体噴射記録ヘットを提供することでもある。
更には、マルチオリフィス化した場合にも製造歩留シの
高い液体噴射記録ヘッドを提供することでもある。
高い液体噴射記録ヘッドを提供することでもある。
上記の目的fd、以下の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、液体を吐出して飛翔的液滴を形成す
る為に設けられたオリフィスと、該オリフィスに連通し
、前記液滴を形成する為の熱エネルキーが液体(て作用
する部分である熱作用部を構成の一部とする液流路とを
有する液吐出部と、基板上に設けられた発熱抵抗層に電
気的(て接続して、少なくとも一対の対置する電極が設
けられ、これ舌電極の間に熱発生部が形成されている電
気熱変換体とを具備する液体噴射記録ヘッドに於いて、
少なくとも前記熱発生部の上面を覆う様に保護層が無機
材料からなる3層以上の層を積層することシてよって設
けられ、それ等の層の直接型なり合った3層を構成する
それぞれの無機材料が一つ以上の共通する構成元素を含
有していることを特徴とする液体噴射記録ヘットである
。
る為に設けられたオリフィスと、該オリフィスに連通し
、前記液滴を形成する為の熱エネルキーが液体(て作用
する部分である熱作用部を構成の一部とする液流路とを
有する液吐出部と、基板上に設けられた発熱抵抗層に電
気的(て接続して、少なくとも一対の対置する電極が設
けられ、これ舌電極の間に熱発生部が形成されている電
気熱変換体とを具備する液体噴射記録ヘッドに於いて、
少なくとも前記熱発生部の上面を覆う様に保護層が無機
材料からなる3層以上の層を積層することシてよって設
けられ、それ等の層の直接型なり合った3層を構成する
それぞれの無機材料が一つ以上の共通する構成元素を含
有していることを特徴とする液体噴射記録ヘットである
。
以下、図面((従って本発明を具体的に説明する。
き′L/図は、本発明の液体噴射記録ヘッドの熱発生N
″、13近傍庖−示す模式的断面図である。
″、13近傍庖−示す模式的断面図である。
第1図に於いて、基板/はシリコン、ガラス、セラミッ
クス等で形成される支持体/θ/と、該支持体/θ/上
KSiO2等よシなる下部層/θβとを具備している。
クス等で形成される支持体/θ/と、該支持体/θ/上
KSiO2等よシなる下部層/θβとを具備している。
下部層/θ!は、主に熱発生部乙よシ発生ずる熱の支持
体/θ/側への流れを制御する層として設けられるもの
で、熱作用面、5に於いて液体に熱エネルギーを作用さ
せる場合(では、熱発生部乙よシ発生ずる熱が熱作用面
j側によシ多く流れるようにし、電気熱変換体7への通
電がOFFされた際匠ば、熱発生部乙1(残存している
熱が、支持体/θ/側に速やかに流れるように構成材料
の選択と、ぞの層厚の設計が成される。下部層/θ!を
構成する材料としては、先に挙げた5i02の他に酸化
ジルコニウム、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化
アルミニウム等の金属酸化物て代表される無機質材料が
挙げられる。
体/θ/側への流れを制御する層として設けられるもの
で、熱作用面、5に於いて液体に熱エネルギーを作用さ
せる場合(では、熱発生部乙よシ発生ずる熱が熱作用面
j側によシ多く流れるようにし、電気熱変換体7への通
電がOFFされた際匠ば、熱発生部乙1(残存している
熱が、支持体/θ/側に速やかに流れるように構成材料
の選択と、ぞの層厚の設計が成される。下部層/θ!を
構成する材料としては、先に挙げた5i02の他に酸化
ジルコニウム、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化
アルミニウム等の金属酸化物て代表される無機質材料が
挙げられる。
基板への上部には、発熱抵抗層βが積層さ几、更にその
上部に電極層3が積層される。これ等発熱抵抗層!及び
電極層3は、フ第1・エツチング法等により所望する形
状を残して基板/上から選択的て除去される。熱発生部
乙に於いては、第1図(て示す様て、電極層3ば、その
端部が所定の距離を持って対向するように発熱抵抗層ρ
上よシ除去されてパターニングされる。この電極層3の
除去された発熱抵抗層)の部分が電極層3に通電するこ
とKJ、って熱を発生する領域(熱発生部乙)となる。
上部に電極層3が積層される。これ等発熱抵抗層!及び
電極層3は、フ第1・エツチング法等により所望する形
状を残して基板/上から選択的て除去される。熱発生部
乙に於いては、第1図(て示す様て、電極層3ば、その
端部が所定の距離を持って対向するように発熱抵抗層ρ
上よシ除去されてパターニングされる。この電極層3の
除去された発熱抵抗層)の部分が電極層3に通電するこ
とKJ、って熱を発生する領域(熱発生部乙)となる。
発熱抵抗層/θ!を構成する材料は、通電されること(
でよって、所望通りの熱が発生するものであれば大概の
ものが採用され得る。
でよって、所望通りの熱が発生するものであれば大概の
ものが採用され得る。
そのような材料の中では、殊に金属硼化物を優れたもの
として挙げることができるが、その中でも最も唱″跣の
優れているのが硼化ハノニウムであり、次いで硼化ジル
コニウム、硼化ランタン、硼化バナジウム、硼化ニオブ
の順となっている。
として挙げることができるが、その中でも最も唱″跣の
優れているのが硼化ハノニウムであり、次いで硼化ジル
コニウム、硼化ランタン、硼化バナジウム、硼化ニオブ
の順となっている。
発熱抵抗体層の層厚は、単位時間ン1りの発熱量が所望
通りとなるように、その面積、材質及び熱作用部の形状
及び大きさ、更には実際面での消費電力等に従って決定
されるものであるが好寸しくは9097〜5μm、よシ
好ましくは897〜7μmとされる。
通りとなるように、その面積、材質及び熱作用部の形状
及び大きさ、更には実際面での消費電力等に従って決定
されるものであるが好寸しくは9097〜5μm、よシ
好ましくは897〜7μmとされる。
電極層3を構成する材料としては、通常使用されている
電極材料の多くのものが有効に使用され、具体的には例
えば、At、 Ag、 Au、 Pt、 Cu等の金属
が挙げられる。
電極材料の多くのものが有効に使用され、具体的には例
えば、At、 Ag、 Au、 Pt、 Cu等の金属
が挙げられる。
発熱抵抗層β及び電極3が形成された基板/・の表面上
には更に、上部層として保護層グが積層される。この保
護層グは、第1図に示した本発明の保護層では、第1層
グθ/、第2層グ0!及び第3層グ03からなる3層構
造とされている。
には更に、上部層として保護層グが積層される。この保
護層グは、第1図に示した本発明の保護層では、第1層
グθ/、第2層グ0!及び第3層グ03からなる3層構
造とされている。
保護層グは、熱発生部6上に設けられる保護層として求
められる前述した特性を有し、かつ基板上の接着性及び
保護層りを形成する各層間の接着性て充分優れているよ
うに各層の材料が選択され構成される。
められる前述した特性を有し、かつ基板上の接着性及び
保護層りを形成する各層間の接着性て充分優れているよ
うに各層の材料が選択され構成される。
保獲層グの最下部層として積層される第1層グθ/は、
主に発熱抵抗層ρ上に一対に対置して設けられた電極3
間の絶縁性を保つために設けられる。この第1層を構成
する材料としては、絶縁性(て侵t’tかつ比軟的熱伝
導性及び耐熱性にも優れ、相が挙げら〕上る。
主に発熱抵抗層ρ上に一対に対置して設けられた電極3
間の絶縁性を保つために設けられる。この第1層を構成
する材料としては、絶縁性(て侵t’tかつ比軟的熱伝
導性及び耐熱性にも優れ、相が挙げら〕上る。
;)’:’ / /iΔりθ/を]■14成する材利七
しては、上記した無機質材わIの他に酸化チタン、酸化
バナジウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化タンタ
ル、酸化タングステン、酸化クロム、酸化ジルコニウム
、酸化八ツニウム、酸化ランタン、酸化イツトリウム、
酸化マンガン等の遷移金属酸化物、更に酸化アルミニウ
ム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸4ヒバリ
ウム、rり化シリコン、等の金属酸化物及びそれらの複
合体、窒化シリコン、窒化アルミニウム、窒化ボロン、
窒化タノタル等高抵抗窒化物及びこれら酸化物、窒化物
の複合体、更にアモルファスノリコン、アモルファスセ
レン等の半導体なとバルクでは低抵抗であってもスパッ
タリンク法、CVD法、蒸着法、気相反応法、液体コー
ディング法等の製造過程で高抵抗化し得る薄膜42料を
2省けることができ、その層厚としては、好ましくは6
7〜5μm、より好1しくはθ、2〜3μm1特((好
捷しくはθS〜3μmとされるのが望外しい。
しては、上記した無機質材わIの他に酸化チタン、酸化
バナジウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化タンタ
ル、酸化タングステン、酸化クロム、酸化ジルコニウム
、酸化八ツニウム、酸化ランタン、酸化イツトリウム、
酸化マンガン等の遷移金属酸化物、更に酸化アルミニウ
ム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸4ヒバリ
ウム、rり化シリコン、等の金属酸化物及びそれらの複
合体、窒化シリコン、窒化アルミニウム、窒化ボロン、
窒化タノタル等高抵抗窒化物及びこれら酸化物、窒化物
の複合体、更にアモルファスノリコン、アモルファスセ
レン等の半導体なとバルクでは低抵抗であってもスパッ
タリンク法、CVD法、蒸着法、気相反応法、液体コー
ディング法等の製造過程で高抵抗化し得る薄膜42料を
2省けることができ、その層厚としては、好ましくは6
7〜5μm、より好1しくはθ、2〜3μm1特((好
捷しくはθS〜3μmとされるのが望外しい。
保護層グの最上部層として積層される第3層グθ3は、
熱発生部乙に対応してその上部に設けられる液流路の液
体と直接接触する部位にあり、熱作用面jを形成してお
り、その主な役割は、主に保護層グに液浸透防止性、耐
液性及び機械的強度の補強を付与することにある。
熱発生部乙に対応してその上部に設けられる液流路の液
体と直接接触する部位にあり、熱作用面jを形成してお
り、その主な役割は、主に保護層グに液浸透防止性、耐
液性及び機械的強度の補強を付与することにある。
この第3層グθ3を構成する材料は、粘シがあって比較
的機械的強度に優れ、熱伝導性、耐液性及び液浸透防止
性にも優カーだ材料であシ、このような材料としてId
、例えばSc、Y等の周期律表第Ta族の元素、T I
+ Z r + Hfなとの第■a族の元素、Ta、
V、 Nb等の第Va族の元素、Cr、Mo、W等の第
VI a族の元素、 Fe、Co、Ni等の第■族の
元素等からなる金属; Ti−Ni、Ta −W、 T
a −Mo−Ni、 Ni −Cr。
的機械的強度に優れ、熱伝導性、耐液性及び液浸透防止
性にも優カーだ材料であシ、このような材料としてId
、例えばSc、Y等の周期律表第Ta族の元素、T I
+ Z r + Hfなとの第■a族の元素、Ta、
V、 Nb等の第Va族の元素、Cr、Mo、W等の第
VI a族の元素、 Fe、Co、Ni等の第■族の
元素等からなる金属; Ti−Ni、Ta −W、 T
a −Mo−Ni、 Ni −Cr。
Fe−Co、 Ti −W、 Fe−Ti、 Fe−N
i、 Fe−Cr、 Fe −Ni −Crなどの上記
金属の合金; Ti−B、 Ta−B、 Hf −B、
W−Bなどの上記金属の硼化物; Ti −C,Zr−
C,V−C,Ta−C,Mo−C,N1−Cなどの上記
金属の炭化物;Mo−Si、 W−3i、 Ta−3i
などの上記金属のケイ化物;TIN、 Nb N、 T
a Nなどの上記金属の窒化物が挙げられる。第3の層
は、こizらの材料を用いて蒸着法、スパッタリング法
CVD法等の手法にょシ形成することができ、その膜厚
としては、好ましくはθθ/〜jμm、よシ好ましくは
θ/〜3Iim、特に好寸しくけθ、、!〜3μmとさ
れるのが望ましい。
i、 Fe−Cr、 Fe −Ni −Crなどの上記
金属の合金; Ti−B、 Ta−B、 Hf −B、
W−Bなどの上記金属の硼化物; Ti −C,Zr−
C,V−C,Ta−C,Mo−C,N1−Cなどの上記
金属の炭化物;Mo−Si、 W−3i、 Ta−3i
などの上記金属のケイ化物;TIN、 Nb N、 T
a Nなどの上記金属の窒化物が挙げられる。第3の層
は、こizらの材料を用いて蒸着法、スパッタリング法
CVD法等の手法にょシ形成することができ、その膜厚
としては、好ましくはθθ/〜jμm、よシ好ましくは
θ/〜3Iim、特に好寸しくけθ、、!〜3μmとさ
れるのが望ましい。
寸だ、月相、膜厚の選択にあだっては、その比抵抗がイ
ンクの比抵抗、発熱抵抗層の比抵抗及び7層極層の比抵
抗より大きなものが良く、例えば/オーム・センチメー
トル以下の層とすることが好ましいが、耐機械的衝撃性
の強い5i−Cなとの絶縁材料も好適に使用できる。
ンクの比抵抗、発熱抵抗層の比抵抗及び7層極層の比抵
抗より大きなものが良く、例えば/オーム・センチメー
トル以下の層とすることが好ましいが、耐機械的衝撃性
の強い5i−Cなとの絶縁材料も好適に使用できる。
この様な材料1で構成された第3層ダθ3を保愚層グの
表面((設けることによって熱作用面Sに於いて、液体
吐出の際に生ずるキャビテーション作用からの/ヨノク
を充分吸収することができ、熱発生部の寿命を格段に延
ばす効果がある。
表面((設けることによって熱作用面Sに於いて、液体
吐出の際に生ずるキャビテーション作用からの/ヨノク
を充分吸収することができ、熱発生部の寿命を格段に延
ばす効果がある。
更に、保強層ダの第1層グθ/と第3層ダθ3の間vc
(d、本発明の液体噴射記録ヘッドの特徴でもある第
2層1I−02が設けられている。従来の液体噴射記録
ヘッドに於いては、熱発生部上に設けられた保護層は、
基本的には、本発明で言う第1層グθ/と第3層りθ3
とに相当するa層によって構成されていた。この様な保
護層に於いては、積層された各市なり合う層間の接着力
が必ずしも充分でなく、記録ヘッドの製造工程及び実際
の使用期間にわたって、各層間での剥離や浮き止りなど
が生じ、このことによって液体噴射記録ヘッドの信頼性
、耐久性が損なわれていた。
(d、本発明の液体噴射記録ヘッドの特徴でもある第
2層1I−02が設けられている。従来の液体噴射記録
ヘッドに於いては、熱発生部上に設けられた保護層は、
基本的には、本発明で言う第1層グθ/と第3層りθ3
とに相当するa層によって構成されていた。この様な保
護層に於いては、積層された各市なり合う層間の接着力
が必ずしも充分でなく、記録ヘッドの製造工程及び実際
の使用期間にわたって、各層間での剥離や浮き止りなど
が生じ、このことによって液体噴射記録ヘッドの信頼性
、耐久性が損なわれていた。
この様な欠点を取り除く為に設けられる本発明の保設層
グを形成する第3Hグθ3の主な役割シは、第1層ダθ
/と第3層グθ3との接着性を強固にすることにある。
グを形成する第3Hグθ3の主な役割シは、第1層ダθ
/と第3層グθ3との接着性を強固にすることにある。
第3Hグθ3を構成する材料として(r′i、第1層ダ
θ/と第3層ダθ3との接着性を高めかつ熱発生部上に
設けることによって要求される保護層の特性を損なわな
い材料の多くが利用できるが、最適なものとして、第1
層ダθ/を構成する材料の構成元素と少なくとも一つの
共通する第1の元素を含有し、かつ第3層9!03を構
成する材料の構成元素と少なくとも一つの共通する第3
の元素を含有する材;+:;[が挙げられる。前記第1
の元素及び第2の元素は、必ずしも異なっている必要は
なく、同一のものであっても良い。
θ/と第3層ダθ3との接着性を高めかつ熱発生部上に
設けることによって要求される保護層の特性を損なわな
い材料の多くが利用できるが、最適なものとして、第1
層ダθ/を構成する材料の構成元素と少なくとも一つの
共通する第1の元素を含有し、かつ第3層9!03を構
成する材料の構成元素と少なくとも一つの共通する第3
の元素を含有する材;+:;[が挙げられる。前記第1
の元素及び第2の元素は、必ずしも異なっている必要は
なく、同一のものであっても良い。
この様な第3Hグθ3を構成する材料の好適な例として
、第1)※りθ/が酸化物であシ第3層グθ3が金属で
ある場合には、第2層ダθ、?全構成する材料は、第3
Hグθ3を構成する金属の酸化物、寸だ第1層ダθ/が
窒化物又は炭化物であり、第3層グθ3が金;・パであ
る場合には、その金よの窒化物又は炭化物とする組み合
わぜが挙げられる。更(で、第3層グθ)を構成する材
料の第3Hグθ3と第3層グθ3との組み合わせ1(於
ける好適な具体例として、第1層グθ/((酸化シリコ
ン、第3層グθ3((タンタルをその層の構成拐料匠使
用し第3Hグθ32に酸化り/タルを使用する。以下同
様て第1層に酸化アルミニウム、第3層にジルコニウム
、第2層に酸化ジルコニウム;第1層に酸化メンタル、
第3層((ハフニウム、第一2層に酸化ハフニウム;第
1層に窒化シリコン、第3層にタンタル、第2層に窒化
タンクル;第1層に窒化アルミニウム、第3層にモリブ
デン、第2層に窒化モリブデン等の組み合わせが挙げら
れる。
、第1)※りθ/が酸化物であシ第3層グθ3が金属で
ある場合には、第2層ダθ、?全構成する材料は、第3
Hグθ3を構成する金属の酸化物、寸だ第1層ダθ/が
窒化物又は炭化物であり、第3層グθ3が金;・パであ
る場合には、その金よの窒化物又は炭化物とする組み合
わぜが挙げられる。更(で、第3層グθ)を構成する材
料の第3Hグθ3と第3層グθ3との組み合わせ1(於
ける好適な具体例として、第1層グθ/((酸化シリコ
ン、第3層グθ3((タンタルをその層の構成拐料匠使
用し第3Hグθ32に酸化り/タルを使用する。以下同
様て第1層に酸化アルミニウム、第3層にジルコニウム
、第2層に酸化ジルコニウム;第1層に酸化メンタル、
第3層((ハフニウム、第一2層に酸化ハフニウム;第
1層に窒化シリコン、第3層にタンタル、第2層に窒化
タンクル;第1層に窒化アルミニウム、第3層にモリブ
デン、第2層に窒化モリブデン等の組み合わせが挙げら
れる。
以上の様な第3Hグθ3を設けることKより、保護層グ
全体の接着性は、大幅に高められる。また、ここでは、
特に熱発生部上の保護層について述べてきたが、もちろ
んこれに限定されるものではなく、本発明の組み合わせ
を熱発生部以外の基板上、例えば電イタの上部(て設け
られる多層からなる保護層にも適用できる。また、以上
説明してきた本発明の保護層は、3層よりなる多層構造
であるが、もちろん3層以上からなる多層構造にも本発
明の材料の組み合わせを適用することができる。
全体の接着性は、大幅に高められる。また、ここでは、
特に熱発生部上の保護層について述べてきたが、もちろ
んこれに限定されるものではなく、本発明の組み合わせ
を熱発生部以外の基板上、例えば電イタの上部(て設け
られる多層からなる保護層にも適用できる。また、以上
説明してきた本発明の保護層は、3層よりなる多層構造
であるが、もちろん3層以上からなる多層構造にも本発
明の材料の組み合わせを適用することができる。
更K、第1図((示した様な保護層ダによって保護され
た電気熱変換体により形成される熱発生部の設けられた
基板上K、その熱発生部に対応した液流路とオリフィス
を形成することにより本発明の液体噴射記録ヘッドが完
成される。
た電気熱変換体により形成される熱発生部の設けられた
基板上K、その熱発生部に対応した液流路とオリフィス
を形成することにより本発明の液体噴射記録ヘッドが完
成される。
第2図は、完成された液体噴射記録ヘッドの−jす・
実施、鰹様のし1式的組立て図である。
この記録ヘッドは、基板!θ/上に、感光性樹脂トライ
フィルムを積層し、所定のパターンマスクによる露光、
現像を行ない基板上の熱発生部1(対応した流路壁2θ
3、共通液室βθjを設け、更((、ガラス板、プラス
チック板等から々るオリフィス!θgを有する天板!θ
7をエポキシ系接着剤を使用して、流路壁上((積層接
着して完成されたものである。この記録ヘッドでは、熱
作用面を有する液流路ぷりの天井部分(て、熱作用面に
相対してオリフィスが設けられている。
フィルムを積層し、所定のパターンマスクによる露光、
現像を行ない基板上の熱発生部1(対応した流路壁2θ
3、共通液室βθjを設け、更((、ガラス板、プラス
チック板等から々るオリフィス!θgを有する天板!θ
7をエポキシ系接着剤を使用して、流路壁上((積層接
着して完成されたものである。この記録ヘッドでは、熱
作用面を有する液流路ぷりの天井部分(て、熱作用面に
相対してオリフィスが設けられている。
同様の方、去で作製された他の一実施態(^液体噴射記
録ヘットの模式的透視図を第3図(で示す。
録ヘットの模式的透視図を第3図(で示す。
この記録ヘットで(d、液流路3θグの方向上置オリフ
ィス30.2が設けられ、インク供給口3θ乙より供給
され共通液室3θjで貯蔵されたインクが、熱発生部3
θ3より発生さ層、る熱エネルギーによってオリフィス
30,2から吐出され、記録紙上等に付着して記録か行
なわれるものである。
ィス30.2が設けられ、インク供給口3θ乙より供給
され共通液室3θjで貯蔵されたインクが、熱発生部3
θ3より発生さ層、る熱エネルギーによってオリフィス
30,2から吐出され、記録紙上等に付着して記録か行
なわれるものである。
この様に完成された本発明の液体噴射記録ヘッドに於い
ては、少なくとも熱発生部上を覆う様して形成される保
護層が、その保護層が設けられる場所で要求される特性
を互いに補完し合う複数の層((よって構成され、その
複数の層が強い接着力をもって積層されているので、頻
繁なる繰り返し使用や長時間の連続使用に際し、多層か
らなる保護膜を構成する各層間の剥離等の故障(d発生
せず、初期の良好な液滴形成!#!j性を長期にわたっ
て安定的に維持できるものとなった。それに加えて本発
明の液体噴射記録ヘッドは、その製造加工工程に於いて
も、保護膜を形成する各層間での剥離が全く起こらず、
またマルチオリフィス化した場合でも、保護層の接着性
に優れ、信頼性が高く製造歩留りの高いものである。
ては、少なくとも熱発生部上を覆う様して形成される保
護層が、その保護層が設けられる場所で要求される特性
を互いに補完し合う複数の層((よって構成され、その
複数の層が強い接着力をもって積層されているので、頻
繁なる繰り返し使用や長時間の連続使用に際し、多層か
らなる保護膜を構成する各層間の剥離等の故障(d発生
せず、初期の良好な液滴形成!#!j性を長期にわたっ
て安定的に維持できるものとなった。それに加えて本発
明の液体噴射記録ヘッドは、その製造加工工程に於いて
も、保護膜を形成する各層間での剥離が全く起こらず、
またマルチオリフィス化した場合でも、保護層の接着性
に優れ、信頼性が高く製造歩留りの高いものである。
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
実施例/
S1ウエハを熱酸化により5μm厚の8102膜を形成
し基板とした。基板にスパッタ1てより発熱抵抗層とし
てHfB2を/jθθiの厚みに形成し、続いて電子ヒ
ーム蒸着によりTJ層5θX、A7層jθθθλフ第1
・リノ工程ンこより蛸 と パターンを形成
し、熱作用面のサイズは3層μm幅、/3θμm長でA
t電極の抵抗を含めて/jθオームであった。
し基板とした。基板にスパッタ1てより発熱抵抗層とし
てHfB2を/jθθiの厚みに形成し、続いて電子ヒ
ーム蒸着によりTJ層5θX、A7層jθθθλフ第1
・リノ工程ンこより蛸 と パターンを形成
し、熱作用面のサイズは3層μm幅、/3θμm長でA
t電極の抵抗を含めて/jθオームであった。
次に、基板の全面上に5i02を・・イレートスパッタ
リングによシ2311rnの厚さで積層した(第1層の
形成)O次KSi02からなる第1層上(でTa層を厚
さ6θθλにスパッタリング(てよシ堆積させ、その後
S0θ℃で空気中に於いて堆積させたTa層を完全酸化
させ第、2層としてのT a205層を形成させた。
リングによシ2311rnの厚さで積層した(第1層の
形成)O次KSi02からなる第1層上(でTa層を厚
さ6θθλにスパッタリング(てよシ堆積させ、その後
S0θ℃で空気中に於いて堆積させたTa層を完全酸化
させ第、2層としてのT a205層を形成させた。
第、、2層のTa2O5層を形成した後、最後にTa層
をθ5i′7z mの厚さくてスパッタリングによって
堆積させ3層からなる保護層を完成させた。
をθ5i′7z mの厚さくてスパッタリングによって
堆積させ3層からなる保護層を完成させた。
この様((シて形成さノ1.た基板上に厚さjθμrX
Iの感光性樹脂トライフィルムを積層し、所定のパター
ンマスクによる露光、現像を行ない基板上の熱発生γ<
i(に対応した液流路と共通液室とを設け、更(I′c
エポキシ系接治剤を使用して、ガラス製天井を積層し、
第3図1(示される様な液体噴射記録ヘッドを作製した
。
Iの感光性樹脂トライフィルムを積層し、所定のパター
ンマスクによる露光、現像を行ない基板上の熱発生γ<
i(に対応した液流路と共通液室とを設け、更(I′c
エポキシ系接治剤を使用して、ガラス製天井を積層し、
第3図1(示される様な液体噴射記録ヘッドを作製した
。
この液体噴射記録ヘッドを用いて、記録装置を組み立て
、記録ヘッドの電気熱変換体VC110pSで3θ■の
矩形電圧をにθθHzで769回印加してインクをオリ
フィスから吐出させ記録ヘッドの連続使用陥入性を評価
した。その評価方法は、189回の繰り返し電気パルス
を印加した後に、断線等により電気パルスの印加が不可
能となった電気熱変換体の割合を求めて連続使用耐久性
を評価するものである。第1表にその評価結果を示す0
捷だ、これとは別に、本実施例に於いて作製された3層
からなる保護層の接着強度試験を行なった。その方法は
、第1層から第3層寸での保護層を形成した基板の表面
K / rnm角の棋盤の目状に、保護層の厚さ以上の
深さで、基板が切断されない程度の巾約ど9μmの溝を
形成し、次に粘着テープを表面に圧着して後、はぼ基板
面と水平方向にテープを引き剥がしだ時の保護層の剥離
状態を顕微鏡および目視によって、接着強度を以下の評
価基’(I、f−pで従って判定した。その評価基準は
、全く剥離か観察されなかったものΩ、一部に剥離が発
生したもの(ハ)、はとんど試験面全面にわたって剥離
が起こったもの(X′)の3種とした。本実施例での評
価結果を第1表に示す。
、記録ヘッドの電気熱変換体VC110pSで3θ■の
矩形電圧をにθθHzで769回印加してインクをオリ
フィスから吐出させ記録ヘッドの連続使用陥入性を評価
した。その評価方法は、189回の繰り返し電気パルス
を印加した後に、断線等により電気パルスの印加が不可
能となった電気熱変換体の割合を求めて連続使用耐久性
を評価するものである。第1表にその評価結果を示す0
捷だ、これとは別に、本実施例に於いて作製された3層
からなる保護層の接着強度試験を行なった。その方法は
、第1層から第3層寸での保護層を形成した基板の表面
K / rnm角の棋盤の目状に、保護層の厚さ以上の
深さで、基板が切断されない程度の巾約ど9μmの溝を
形成し、次に粘着テープを表面に圧着して後、はぼ基板
面と水平方向にテープを引き剥がしだ時の保護層の剥離
状態を顕微鏡および目視によって、接着強度を以下の評
価基’(I、f−pで従って判定した。その評価基準は
、全く剥離か観察されなかったものΩ、一部に剥離が発
生したもの(ハ)、はとんど試験面全面にわたって剥離
が起こったもの(X′)の3種とした。本実施例での評
価結果を第1表に示す。
実施例フ
実施例/(て於ける液体噴射記録へツ上゛の基板の保護
層のTa205からなる第3層の形成を、5102から
なる筒7層上K Ta層を厚さθ乙μmVCスパッタリ
ング1てよって堆積させた後、陽極酸化法を用いて、T
a層をリン酸浴中で酸化してTa205層を形成さぜる
方法を用いて行なった。以下実施例/と同様の液体噴射
記録ヘッドを作製し、実施例/の方法1fC従って記録
ヘットの連続使用耐久性及び保護層の接着強度を評価し
た。その評価結果を第1表に示す。
層のTa205からなる第3層の形成を、5102から
なる筒7層上K Ta層を厚さθ乙μmVCスパッタリ
ング1てよって堆積させた後、陽極酸化法を用いて、T
a層をリン酸浴中で酸化してTa205層を形成さぜる
方法を用いて行なった。以下実施例/と同様の液体噴射
記録ヘッドを作製し、実施例/の方法1fC従って記録
ヘットの連続使用耐久性及び保護層の接着強度を評価し
た。その評価結果を第1表に示す。
実施例3
実施例/に於ける液体噴射記録ヘッドの基板の保護ハニ
1のTa205−’)zらなる第2層の形成を、第1層
(5i02)上((、更にTa205の焼結ターゲット
を用いてスパッタリング(でよってTa205層を形成
させる方法で行ない、それ以外の工程を実施例/と同様
にして液体噴射記録ヘッドを作製し、ここでも実施例/
の方法に従って記録ヘッドの連続使用耐久性と保護層の
接着強度を評価した。その評価結果を第1表に示す。
1のTa205−’)zらなる第2層の形成を、第1層
(5i02)上((、更にTa205の焼結ターゲット
を用いてスパッタリング(でよってTa205層を形成
させる方法で行ない、それ以外の工程を実施例/と同様
にして液体噴射記録ヘッドを作製し、ここでも実施例/
の方法に従って記録ヘッドの連続使用耐久性と保護層の
接着強度を評価した。その評価結果を第1表に示す。
比較例/
実施例/で作製した液体噴射記録ヘッド1て於は乙3層
からなる基板上の保護層の変わりに、 Ta205から
なる第3層を設けずに、S i02からなる第1層とT
aからなる第3層によって構成される保護層を基板上(
(形成した記録ヘッドを作製し、実施例/の方法に従っ
て記録ヘッドの連続使用耐久性と保護層の接着強度を評
価した。その結果を第1′表に示す。
からなる基板上の保護層の変わりに、 Ta205から
なる第3層を設けずに、S i02からなる第1層とT
aからなる第3層によって構成される保護層を基板上(
(形成した記録ヘッドを作製し、実施例/の方法に従っ
て記録ヘッドの連続使用耐久性と保護層の接着強度を評
価した。その結果を第1′表に示す。
比較例!
実施例/の液体噴射記録ヘッドの基板上の保護層の第2
層をTa205の替わシ(て、Tiを/θθθ久の厚さ
で蒸着させて保護層の第2層を形成した液体噴射記録ヘ
ッドを作製し、実施例/の方法に従つて記録ヘットの連
続使用耐久性と保護層の接着強要をr7’!’側しto
その結果を第1表に示した。
層をTa205の替わシ(て、Tiを/θθθ久の厚さ
で蒸着させて保護層の第2層を形成した液体噴射記録ヘ
ッドを作製し、実施例/の方法に従つて記録ヘットの連
続使用耐久性と保護層の接着強要をr7’!’側しto
その結果を第1表に示した。
第1表
第1図は、本発明の液体噴射記録ヘットの基板上に設け
られた熱発生部付近を発熱抵抗層面に垂一実施態4礼(
仏式的透視図である。 /・・・基板 /θ/・基板支持体/θ3・・
下部層 ! 発熱抵抗層3 電極層
グ 保護層 ダθ/−第1層 グθρ・・第3層グθ3 第3層
j、熱作用面乙 熱発生部 7・・・
電気熱変換体ノθ/、3θ/ 基板 2θ、2,3θ
ll 液流路!θ3 流路壁 フθグ・・・連
通孔2θ3.3θj 共通液室3θ乙・・第3の共通液
室3θ乙3θ7 天板 2θト、3θ2.オリフィ
ス303 熱発生部 3θ乙4.インク供給口筒
i’l’出願人 キャノン株式会社1g 1
図 第 3 閲
られた熱発生部付近を発熱抵抗層面に垂一実施態4礼(
仏式的透視図である。 /・・・基板 /θ/・基板支持体/θ3・・
下部層 ! 発熱抵抗層3 電極層
グ 保護層 ダθ/−第1層 グθρ・・第3層グθ3 第3層
j、熱作用面乙 熱発生部 7・・・
電気熱変換体ノθ/、3θ/ 基板 2θ、2,3θ
ll 液流路!θ3 流路壁 フθグ・・・連
通孔2θ3.3θj 共通液室3θ乙・・第3の共通液
室3θ乙3θ7 天板 2θト、3θ2.オリフィ
ス303 熱発生部 3θ乙4.インク供給口筒
i’l’出願人 キャノン株式会社1g 1
図 第 3 閲
Claims (1)
- 液体を吐出して飛翔的液滴を形成する為に設けらソtた
オリフィスと、該オリフィスに連通し、前記液滴を形成
する為の熱エネルギーが液体1(作用する部分である熱
作用部を構成の一部とする液流路とを有する液吐出部と
、基板上に設けられた発熱抵抗層((電気的に接続して
、少なくとも一対の対置する電極が設けられ、これ等電
極の間に熱発生部が形成されている電気熱変換体とを具
備する液体噴射記録ヘッド((於いて、少なくとも前記
熱発生部の上面を覆う様に保護層が無機材料からなる3
層以上の層を積層することによって設けられ、それ等の
層の直接型なり合った3層を構成するそれぞれの無機材
料が一つ以上の共通する構成元素を含有していることを
特徴とする液体噴射記録ヘッド。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58076499A JPH0613219B2 (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | インクジェットヘッド |
US06/603,723 US4596994A (en) | 1983-04-30 | 1984-04-25 | Liquid jet recording head |
DE19843416059 DE3416059A1 (de) | 1983-04-30 | 1984-04-30 | Fluessigkeitsstrahlaufzeichnungskopf |
FR8406842A FR2545043B1 (fr) | 1983-04-30 | 1984-05-02 | Tete d'enregistrement par jets de liquide |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58076499A JPH0613219B2 (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | インクジェットヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59201868A true JPS59201868A (ja) | 1984-11-15 |
JPH0613219B2 JPH0613219B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=13606913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58076499A Expired - Lifetime JPH0613219B2 (ja) | 1983-04-30 | 1983-04-30 | インクジェットヘッド |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4596994A (ja) |
JP (1) | JPH0613219B2 (ja) |
DE (1) | DE3416059A1 (ja) |
FR (1) | FR2545043B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01210352A (ja) * | 1988-02-18 | 1989-08-23 | Ricoh Co Ltd | 液体噴射記録ヘッド |
US7731338B2 (en) | 2003-12-26 | 2010-06-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printer head having laminated protective layer and method of fabricating the same |
Families Citing this family (61)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2681350B2 (ja) * | 1986-11-19 | 1997-11-26 | キヤノン株式会社 | インクジェット装置 |
US5287622A (en) * | 1986-12-17 | 1994-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for preparation of a substrate for a heat-generating device, method for preparation of a heat-generating substrate, and method for preparation of an ink jet recording head |
US4860033A (en) * | 1987-02-04 | 1989-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Base plate having an oxidation film and an insulating film for ink jet recording head and ink jet recording head using said base plate |
JP2612580B2 (ja) * | 1987-12-01 | 1997-05-21 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッド及び該ヘッド用基板 |
EP0570021B1 (en) * | 1987-12-02 | 1997-03-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet head, substrate therefor, process for preparing thereof and ink jet apparatus having said head |
US5210549A (en) * | 1988-06-17 | 1993-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head having resistor formed by oxidization |
US5858197A (en) * | 1988-06-17 | 1999-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for manufacturing substrate for ink jet recording head using anodic oxidation |
JP2840271B2 (ja) * | 1989-01-27 | 1998-12-24 | キヤノン株式会社 | 記録ヘッド |
US4965611A (en) * | 1989-03-22 | 1990-10-23 | Hewlett-Packard Company | Amorphous diffusion barrier for thermal ink jet print heads |
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