JPS59200241A - コンタクトプリンタ - Google Patents
コンタクトプリンタInfo
- Publication number
- JPS59200241A JPS59200241A JP58075417A JP7541783A JPS59200241A JP S59200241 A JPS59200241 A JP S59200241A JP 58075417 A JP58075417 A JP 58075417A JP 7541783 A JP7541783 A JP 7541783A JP S59200241 A JPS59200241 A JP S59200241A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- exposure
- mask
- light
- dry plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
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- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Holders For Sensitive Materials And Originals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本光明は、半導体製造工゛稈に用いられるコピーマスク
を製造づるときに使用されるコンタクトプリンタに関丈
るものである。
を製造づるときに使用されるコンタクトプリンタに関丈
るものである。
従来、コピーマスクは、第１図に示す構造のコンタクト
プリンタが用いられ、密＠露光により製造されていた。
プリンタが用いられ、密＠露光により製造されていた。
第１図において、１は紫外線発光ランプ、２は放物面鏡
、３は反則ミラー、４はマスターマスク、５はフォトレ
ジストを塗布したエマルジョンマスクプレー１〜、クロ
ムマスクブランクス等の生乾板、６は光源部、７は露光
部、８は境面である。生乾板５は、紫外線発光ランプ１
より発した紫外光により露光され、その後現像、エツチ
ング、レジスト剥離を経て、コピーマスクとなる。マス
ターマスク４、生乾板５は、各々マスターマスクボルダ
−（図示せず。〉、生乾板ホルダー〈図示せず。）にセ
ットされている。従来のコンタクトプリンタは、紫外線
発光ランプ１、放物面鏡２及び反射ミラー３を有する光
源部６と、マスターマスク４及び生乾板５を有する露光
部７が、前記紫外光を通過させる隙孔を有する境面８を
介して接触又は結合している。
、３は反則ミラー、４はマスターマスク、５はフォトレ
ジストを塗布したエマルジョンマスクプレー１〜、クロ
ムマスクブランクス等の生乾板、６は光源部、７は露光
部、８は境面である。生乾板５は、紫外線発光ランプ１
より発した紫外光により露光され、その後現像、エツチ
ング、レジスト剥離を経て、コピーマスクとなる。マス
ターマスク４、生乾板５は、各々マスターマスクボルダ
−（図示せず。〉、生乾板ホルダー〈図示せず。）にセ
ットされている。従来のコンタクトプリンタは、紫外線
発光ランプ１、放物面鏡２及び反射ミラー３を有する光
源部６と、マスターマスク４及び生乾板５を有する露光
部７が、前記紫外光を通過させる隙孔を有する境面８を
介して接触又は結合している。
しかしながら、第１図に示す従来のコンタクトプリンタ
を用いてコピーマスク製造の為の露光作業を行うと、光
源部６内で紫外線梵光ランプ１により発生した熱が、境
面８を介して光源部６と露光部７が接触又は結合してい
るため、前記熱が露光部７に伝導し、露光部７内の雰囲
気の温度を上昇せしめ、マスターマスク４及び生乾板５
の＞ｍ ＩＵ安定化に対して著しく態影響を及ばず。こ
れにＪ：り作成された］ビーマスクのトータルピッチ精
度が劣化し、所望のトータルピッチ精度が得られない。
を用いてコピーマスク製造の為の露光作業を行うと、光
源部６内で紫外線梵光ランプ１により発生した熱が、境
面８を介して光源部６と露光部７が接触又は結合してい
るため、前記熱が露光部７に伝導し、露光部７内の雰囲
気の温度を上昇せしめ、マスターマスク４及び生乾板５
の＞ｍ ＩＵ安定化に対して著しく態影響を及ばず。こ
れにＪ：り作成された］ビーマスクのトータルピッチ精
度が劣化し、所望のトータルピッチ精度が得られない。
らなみに、ンーダライムガラスを用いた５インチのコピ
ーマスクの設計寸法１０ｃｍのトータルピッチは、温度
が１℃変化することにより約１μ変化する。その結果製
造歩留の低下となる。さらに、従来の構造のコンタクト
プリンタでは、露光部７の温度安定化を計るために、特
に露光部７側に冷却装置を設ける等の複雑な装置を必要
とする欠点もあった。
ーマスクの設計寸法１０ｃｍのトータルピッチは、温度
が１℃変化することにより約１μ変化する。その結果製
造歩留の低下となる。さらに、従来の構造のコンタクト
プリンタでは、露光部７の温度安定化を計るために、特
に露光部７側に冷却装置を設ける等の複雑な装置を必要
とする欠点もあった。
本発明の目的は、密希露光法にＪ、リコピーマスクを製
造する工程において、光源部内の紫外線発光ランプ等の
光源により発生する熱が、マスターマスク、生乾板を右
づる露光部に伝導することを防止し、トータルピッチ精
度の劣化防止、製造歩留の低−ト防Ｊｌ−等に寄与する
コンタクトブリンクを提供することである。
造する工程において、光源部内の紫外線発光ランプ等の
光源により発生する熱が、マスターマスク、生乾板を右
づる露光部に伝導することを防止し、トータルピッチ精
度の劣化防止、製造歩留の低−ト防Ｊｌ−等に寄与する
コンタクトブリンクを提供することである。
以下１本発明の一実施例を第２図により詳細に説明する
。１は紫外線発光ランプ、２は放物面鏡、３は反射ミラ
ー、４はマスターマスク、５は生乾板、９は紫外線発光
ランプ°１、放物面鏡２、反射ミラー３を有し、後記す
る露光部１１側に向いている面に、後記する光源部側透
光面１０を右づる光源部、１０は紫外線発光ランプ１よ
り発した紫外光を、後記する露光部１１に出用覆るため
の光源部側透光面（例えば石英ガラス。）、１１はマス
ターマスク４、生乾板（例えばフォトレジストを塗布し
た５インチのクロムマスクブランクス。）５を有し、前
記光源部９側に向いている而に、後記づる露光部側透光
面１２を有する露光部、１２は光源部側透光面１０を出
射した前記紫外光を、露光部１１に入用させるための露
光部側透光面（例えば石英カラス。）である。光源部つ
と露光部１１とは距離（約１００Ｉｌｌで分１１１１ｆ
設置し、露光部１１は光源部側透光面１０より出用した
前記紫外光を、露光部側透光面１２により入射しうる位
置に設置する。
。１は紫外線発光ランプ、２は放物面鏡、３は反射ミラ
ー、４はマスターマスク、５は生乾板、９は紫外線発光
ランプ°１、放物面鏡２、反射ミラー３を有し、後記す
る露光部１１側に向いている面に、後記する光源部側透
光面１０を右づる光源部、１０は紫外線発光ランプ１よ
り発した紫外光を、後記する露光部１１に出用覆るため
の光源部側透光面（例えば石英ガラス。）、１１はマス
ターマスク４、生乾板（例えばフォトレジストを塗布し
た５インチのクロムマスクブランクス。）５を有し、前
記光源部９側に向いている而に、後記づる露光部側透光
面１２を有する露光部、１２は光源部側透光面１０を出
射した前記紫外光を、露光部１１に入用させるための露
光部側透光面（例えば石英カラス。）である。光源部つ
と露光部１１とは距離（約１００Ｉｌｌで分１１１１ｆ
設置し、露光部１１は光源部側透光面１０より出用した
前記紫外光を、露光部側透光面１２により入射しうる位
置に設置する。
次に、本発明による動作を前記−実ｆＩ色例に基づぎ説
明する。先ず、紫外線発光ランプ１より発した紫外光は
、放物面鏡により反射ミラー３に出用 ・する。
明する。先ず、紫外線発光ランプ１より発した紫外光は
、放物面鏡により反射ミラー３に出用 ・する。
次に、前記紫外光は反則ミν一により紫外光透過率の高
い石英ガラスで作成された光源部側透光面１０に達し、
前記光源部側透光面１０を出用し１＝前記紫外光は、光
源部側透光面１０より約１０ｃｍ稈度離れている露光部
１１に設けられた露光部側透光面（石英ガラス）１２よ
り露光部１１に入射づる。次に、マスターマスクホルダ
ー（図示せず。）にセラ１〜されたマスターマスク４の
背面より前記紫外光を照射し、生乾板ホルダー（図示せ
ず。）にセットされたマスターマスク４に密着している
生乾板（フォトレジストを塗布した５インチのクロムマ
スクブランクス）５を露光する。その後、露光された生
乾板５を現像、エツチング、レジスト剥離を経て、前記
生乾板はコピーマスクとなる。前記の一実施例によって
作成された５インチのコピーマスクの１−一タルピンチ
精度は０．１μであり、従来のコンタクトプリンタて作
成した５インチのコピーマスクの１−一タルピッチ精度
３μと比較して、数段トータルピッチ精度は向上した。
い石英ガラスで作成された光源部側透光面１０に達し、
前記光源部側透光面１０を出用し１＝前記紫外光は、光
源部側透光面１０より約１０ｃｍ稈度離れている露光部
１１に設けられた露光部側透光面（石英ガラス）１２よ
り露光部１１に入射づる。次に、マスターマスクホルダ
ー（図示せず。）にセラ１〜されたマスターマスク４の
背面より前記紫外光を照射し、生乾板ホルダー（図示せ
ず。）にセットされたマスターマスク４に密着している
生乾板（フォトレジストを塗布した５インチのクロムマ
スクブランクス）５を露光する。その後、露光された生
乾板５を現像、エツチング、レジスト剥離を経て、前記
生乾板はコピーマスクとなる。前記の一実施例によって
作成された５インチのコピーマスクの１−一タルピンチ
精度は０．１μであり、従来のコンタクトプリンタて作
成した５インチのコピーマスクの１−一タルピッチ精度
３μと比較して、数段トータルピッチ精度は向上した。
本発明は以上の一実施例に限定されず、光源部は、露光
に使用される光＃ｔ（前記一実施例ては紫外線発光ラン
プ。）を少なくとも有していればよく、露光部も、マス
ターマスク及び生乾板を少なくとも有していればよい。
に使用される光＃ｔ（前記一実施例ては紫外線発光ラン
プ。）を少なくとも有していればよく、露光部も、マス
ターマスク及び生乾板を少なくとも有していればよい。
例えば、前記の一実施例で反射ミラーは、光源部に設置
っていたが、露光部に設（プてもよい。次に、光源部側
透光面及び露光部側透光面は、前記一実施例では石英ガ
ラスを用いたが、何らこれに限定されることなく露光に
使用される光の透過率が高い材質であればよく、又はイ
ンテグレータであってもよい。また、前記一実施例では
、光源部側透光面又は露光部側透光面を各々有した光源
部、露光部であるが、何らこれに限定されることなく第
３図に示すように、光源部９又は露光部１１に各々、紫
外光か出用りる隙孔１３又は前記紫外光か入射する隙孔
１４を有していてもよい。次に、光源部と露光部を分離
設置＋Ｆ！ ’ｌる距離は、露光に使用される光源より
の発熱量、所望されるコピーマスクのトータルピッチ精
度により決定すればよい。
っていたが、露光部に設（プてもよい。次に、光源部側
透光面及び露光部側透光面は、前記一実施例では石英ガ
ラスを用いたが、何らこれに限定されることなく露光に
使用される光の透過率が高い材質であればよく、又はイ
ンテグレータであってもよい。また、前記一実施例では
、光源部側透光面又は露光部側透光面を各々有した光源
部、露光部であるが、何らこれに限定されることなく第
３図に示すように、光源部９又は露光部１１に各々、紫
外光か出用りる隙孔１３又は前記紫外光か入射する隙孔
１４を有していてもよい。次に、光源部と露光部を分離
設置＋Ｆ！ ’ｌる距離は、露光に使用される光源より
の発熱量、所望されるコピーマスクのトータルピッチ精
度により決定すればよい。
次に、第４図に示ずＪ：うに、光源部９の光源部側透光
面１０を挾む側面の延長上に露光部１１を設置してｂよ
い。さらに、本発明により使用されるマスターマスクは
、ザブマスターマスクに対しては、マスターマスクであ
るが、ワークコピーマスクに対してはサブマスターマス
クが本発明により使用されるマスターマスクどなる。ま
た、本発明により１ ｙｌされるコピーマスクは、マス
ターマスクが本発明にＪ：り使用されるマスターマスク
のときはサブマスターマスクとなり、サブマスターマス
クが、本発明ににり使用されるマスターマスクのときは
ワークコピーマスクが本発明により製造されるコピーマ
スクとなる。
面１０を挾む側面の延長上に露光部１１を設置してｂよ
い。さらに、本発明により使用されるマスターマスクは
、ザブマスターマスクに対しては、マスターマスクであ
るが、ワークコピーマスクに対してはサブマスターマス
クが本発明により使用されるマスターマスクどなる。ま
た、本発明により１ ｙｌされるコピーマスクは、マス
ターマスクが本発明にＪ：り使用されるマスターマスク
のときはサブマスターマスクとなり、サブマスターマス
クが、本発明ににり使用されるマスターマスクのときは
ワークコピーマスクが本発明により製造されるコピーマ
スクとなる。
以上のＪこうに、本発明によれば、コンタクトプリンタ
を用いて密着露光を行うとき、紫外線発光ランプ等の光
源より発生した熱を、マスターマスク、生乾板を含めた
露光部に伝導づ゛ることを防止し、コピーマスクのトー
タルピッチ精度の向上、コピーマスクの製造歩留の向上
に効果があった。
を用いて密着露光を行うとき、紫外線発光ランプ等の光
源より発生した熱を、マスターマスク、生乾板を含めた
露光部に伝導づ゛ることを防止し、コピーマスクのトー
タルピッチ精度の向上、コピーマスクの製造歩留の向上
に効果があった。
第１図は従来のコンタク１〜プリンタの一例を示す図、
第２図、第３図、第４図は本発明の一例を示す図。 １・・・紫外線発光ランプ、２・・・故、物面鏡、３・
・・反則ミラー、４・・・マスターマスク、５・・・生
乾板、６，９・・・光源部、７．１１・・・露光部、８
・・・境面、１０・・・光源部側透光面、１２・・・露
光部測道光面、１３．１４・・・隙孔
第２図、第３図、第４図は本発明の一例を示す図。 １・・・紫外線発光ランプ、２・・・故、物面鏡、３・
・・反則ミラー、４・・・マスターマスク、５・・・生
乾板、６，９・・・光源部、７．１１・・・露光部、８
・・・境面、１０・・・光源部側透光面、１２・・・露
光部測道光面、１３．１４・・・隙孔
Claims (1)
- （１） 少なくとも光源を有する光凱部と少なくともマ
スターマスク及び生乾板を有する露光部を分離設置し、
前記光源部及び前記露光部の一側面に、前記生乾板を露
光させるための光を通過させる箇所を設（Ｊていること
を特徴とするコンタクトプリンタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58075417A JPS59200241A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | コンタクトプリンタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58075417A JPS59200241A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | コンタクトプリンタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59200241A true JPS59200241A (ja) | 1984-11-13 |
Family
ID=13575580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58075417A Pending JPS59200241A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | コンタクトプリンタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59200241A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61185333A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-19 | Ulvac Corp | 光助勢表面化学反応装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4958770A (ja) * | 1972-10-04 | 1974-06-07 | ||
| JPS50766A (ja) * | 1973-05-02 | 1975-01-07 | ||
| JPS5543844A (en) * | 1978-09-25 | 1980-03-27 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for photoresist sensitizing process |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP58075417A patent/JPS59200241A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4958770A (ja) * | 1972-10-04 | 1974-06-07 | ||
| JPS50766A (ja) * | 1973-05-02 | 1975-01-07 | ||
| JPS5543844A (en) * | 1978-09-25 | 1980-03-27 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for photoresist sensitizing process |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61185333A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-19 | Ulvac Corp | 光助勢表面化学反応装置 |
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