JPS5919469B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JPS5919469B2
JPS5919469B2 JP15022779A JP15022779A JPS5919469B2 JP S5919469 B2 JPS5919469 B2 JP S5919469B2 JP 15022779 A JP15022779 A JP 15022779A JP 15022779 A JP15022779 A JP 15022779A JP S5919469 B2 JPS5919469 B2 JP S5919469B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
heat sink
thin metal
semiconductor device
semiconductor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP15022779A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5673456A (en
Inventor
寛 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Home Electronics Ltd
Original Assignee
NEC Home Electronics Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Home Electronics Ltd filed Critical NEC Home Electronics Ltd
Priority to JP15022779A priority Critical patent/JPS5919469B2/ja
Publication of JPS5673456A publication Critical patent/JPS5673456A/ja
Publication of JPS5919469B2 publication Critical patent/JPS5919469B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4821Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体装置の製造方法の改良に関するものであ
る。
一般にこの種半導体装置は例えば第1図に示すように、
熱伝導性良好なる金属部材よりなる放熱板Aの上面に半
導体素子Bを固定すると共に、それの電極と一端が半導
体素子Bの近傍に位置するように配置されたリードCと
を金属細線Dにて電気的に接続し、然る後、半導体素子
Bを含む主要部分を樹脂材Eにてモールド被覆して構成
されている。
ところで、リードCの一端には半導体素子Bの電極より
延びる金属細線Dが例えば超音波ボンディング法によつ
て接続されているのであるが、リードCは放熱板Aに対
して上方に離隔して配置されている関係で、超音波ボン
ディング作業は例えば第2図に示すように、リードCの
一端が押え板Fによつて放熱板Aの上面に押圧された状
態で行われている。
しかし乍ら、放熱板A)リードCの全表面には半導体素
子Bの半田部材による固定性金属細線Dの接続性を良好
ならしめるために銀メッキ層が形成されているので、押
え板FによつてリードCを放熱板Aに押し付けて超音波
ボンディング作業を行うと、放熱板AとリードCの銀メ
ッキ層が結合してしまい、押え板Fを除去してもリード
Cが放熱板Aの所定位置に復帰せず、半導体装置として
の機能が著しく損なわれる。
従つて、従来においては目視にてリードCの放熱板Aへ
の結合をチェックし、結合されているものについてはピ
ンセットなどにてリードCを放熱板Aより離すことが行
われているのであるが、リードCは弾性を有するために
、離れた際に、リードCが上下方向に振動したりするこ
とによつて金属細線Dが断線し易くなり、半導体装置の
製造歩留が低下するのみならず、信頼性をも著しく損な
われるという欠点がある。
又、放熱板A、リードCの全表面は銀メッキ層にて被覆
されていることもあつて、半導体装置のコストが高くな
るという欠点もある。
本発明はこのような点に艦み、金属細線のりードヘの接
続時に生ずるリードの放熱板への結合を皆無にすると共
に、コストを有効に低減しうる半導体装置の製造方法を
提供するもので、以下その製造方法について第3図〜第
9図を参照して説明する。
まず、第3図において、1は放熱板であつて、それの上
面1aにおけるコーナ部分には突出部2が一体的に形成
さ゜れている。
3は同一金属部材より打抜加工などによつて形成された
リードであつて、例えば平行に延びる枠部分3a,3a
と、枠部分3a,3aを接続するタイバー3b,3cと
、タイバー3b,3cより枠部分3a,3aとほぼ平行
に延びるリード片31〜3,と、枠部分3a,3aより
内方に向けて延びる支持片38,3,とから構成されて
いる。
尚、放熱板1、リード片31〜3,の表面にはニツケル
などの金属がメツキされている。そして、このように構
成された放熱板1とリード3とを、突出部2を支持片3
8,39の孔に押入した上で突出部2を圧漬することに
よつてかしめ固定する。次に、第4図に示すように、リ
ードフレーム上にマスク部材4を、それの開口部5より
放熱板1における半導体素子の固定子定部及びリード片
3,〜3,の一端における金属細線の接続予定部が露呈
するように重ね合せると共に、リード片3,〜37の一
端を放熱板1の上面1aに密着させる。そして、この状
態でマスク部材4の開口部5より露呈する放熱板1及び
リード片3,〜3,の一端に銀メツキ層6,7を同時に
形成する。尚、第5図に示すように、リード片31〜3
7の密着されている放熱板部分には銀メツキ層6は殆ん
ど形成されない。次に、第6図に示すように、リード片
31〜37の端部によつて囲まれた放熱板1における銀
メツキ層6に半導体素子8を半田部材を用いて固定する
。そして、半導体素子8の電極とリード片31〜3,の
一端における銀メツキ層7とを金属細線9にて超音波ボ
ンデイング法によつて接続する。尚、この接続に当つて
は第7図に示すように、リード片3,〜37は押え杯1
0によつて放熱板1の上面1aに押え付けられる。そし
て、半導体素子8を含む主要部分を樹脂材11にてモー
ルド被覆する。然る後、タイバー3b,3c及び支持片
38,3,を切断して第8図〜第9図に示す半導体装置
を得る。このようにリード片3,〜37における一端の
裏面と放熱板1の上面1aとの対向面には銀メツキ層6
,7が殆んど形成されないので、リード片31〜3,の
一端に金属細線9を接続するに当つてそれを押え板10
によつて放熱板1に押し付けても両者が結合されること
なく、押え板10の除去によつて所定の位置に確実に復
帰する。
従つて、従来のようにリード片3,〜37を放熱板1よ
り離す際に金属細線9が断線したりするという事故を皆
無にでき、製造歩留の向上は勿論のこと、半導体装置と
しての信頼性も著しく高めることができる。又、リード
フレームはマスク部材4にて、放熱板1における半導体
素子8の固定子定部及びりード片31〜3,における金
属細線9の接続予定部がマスク部材4の開口部5より露
呈するように被覆した上で、所望部分への銀メツキ層6
,7の形成操作が行われるので、銀の使用量を必要最小
限に抑えることができ、半導体装置のコストを有効に低
減できる。
さらに、放熱板1及びリード片31〜3,の所望部分に
対する銀メツキ層6,7の形成はそれぞれを一体化した
状態で同時に行われるので、メツキ作業を簡略化できる
上、それぞれに銀メツキ層を別工程で形成した上で組立
てる従来方法に比し、放熱板1、リード片31〜37の
表面の取扱いによる汚れを著しく軽減できる。
尚、本発明において、放熱板、リードの形状並びに本数
は適宜に変更できるし、放熱板、リードはしかめによる
他、溶接、半田付けなどによつて固定することもできる
以上のように本発明によれば、簡単な方法によつて、金
属細線のリードへの接続時におけるり−ドの放熱板への
結合を皆無にできる上、コストをも有効に低減できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体装置の側断面図、第2図は金属細
線のリードへの接続方法を説明するための側断面図、第
3図〜第9図は本発明方法の説明図であつて、第3図は
放熱板とリードとを固定した状態を示す平面図、第4図
はリードフレームにマスク部材を重合し、開口部分に銀
メツキ層を形成した状態を示す平面図、第5図はリード
フレームよりマスク部材を除去し、かつ要部のリード片
を切除した状態を示す平面図、第6図はリードフレーム
の放熱板に半導体素子をマウントし樹脂モールドした状
態を示す平面図、第7図は金属細線のリード片への接続
方法を説明するための側断面図、第8図は半導体装置の
要部破断平面図、第9図は第8図のI−1断面図である
。 図中、1は放熱板、1aは上面、3はリード、31〜3
7はリード片、4はマスク部材、5は開口部、6,7は
銀メツキ層、8は半導体素子、9は金属細線である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 複数のリード片を有するリードと放熱板とを、放熱
    板上にリード片の一端が離隔して位置するように一体的
    に固定する工程と、リード片の一端を放熱板に密着させ
    ると共に、リード片の一端における金属細線の接続予定
    部及び放熱板における半導体素子の固定予定部を除く部
    分をマスク部材にて被覆する工程と、マスク部材より露
    呈するリード片における金属細線の接続予定部及び放熱
    板における半導体素子の固定予定部に銀メッキ層を形成
    する工程とを具備したことを特徴とする半導体装置の製
    造方法。
JP15022779A 1979-11-19 1979-11-19 半導体装置の製造方法 Expired JPS5919469B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15022779A JPS5919469B2 (ja) 1979-11-19 1979-11-19 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15022779A JPS5919469B2 (ja) 1979-11-19 1979-11-19 半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5673456A JPS5673456A (en) 1981-06-18
JPS5919469B2 true JPS5919469B2 (ja) 1984-05-07

Family

ID=15492314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15022779A Expired JPS5919469B2 (ja) 1979-11-19 1979-11-19 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5919469B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5673456A (en) 1981-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4343158B2 (ja) 半導体デバイスのパッケージ製造方法
US5886397A (en) Crushable bead on lead finger side surface to improve moldability
US5157475A (en) Semiconductor device having a particular conductive lead structure
KR920008254B1 (ko) 개선된 리드구조를 갖춘 반도체장치와 그 제조방법
KR100263514B1 (ko) 히트싱크를구비한수지밀봉형반도체장치및그의제조방법
JPH04280664A (ja) 半導体装置用リードフレーム
JP2695736B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその抵抗線を備えたリードフレームの製造方法
US20190229044A1 (en) Lead frame with plated lead tips
JPS5919469B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH0219971Y2 (ja)
GB2322966A (en) Lead frame with crushable bead on lead terminals
JP3250213B2 (ja) リードフレーム及びその製造方法並びに樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JPS6231497B2 (ja)
JPS6050346B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPS5843233Y2 (ja) 半導体装置
JPH07211847A (ja) 半導体装置とその製造方法及びその搭載構造と搭載方法
JPH03261153A (ja) 半導体装置用パッケージ
JPH0735403Y2 (ja) リードフレーム
JP3089384B2 (ja) 集積回路素子搭載用基板
JPH0810207Y2 (ja) 樹脂封止形半導体装置
JPH083020Y2 (ja) 半導体パッケージ用連結型リードフレーム
JP3036597B1 (ja) 半導体装置用リードフレーム
JP3388056B2 (ja) 半導体装置
JPS6225906Y2 (ja)
JPS5940552A (ja) 半導体装置のキヤツプ取付構造