JPS59177368A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS59177368A JPS59177368A JP5159383A JP5159383A JPS59177368A JP S59177368 A JPS59177368 A JP S59177368A JP 5159383 A JP5159383 A JP 5159383A JP 5159383 A JP5159383 A JP 5159383A JP S59177368 A JPS59177368 A JP S59177368A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- zinc
- crucible
- evaporation
- level
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅帯等の被めっき材に連続的に金属皮１：・
を真空蒸着する真空蒸着装置に関する。
を真空蒸着する真空蒸着装置に関する。
従来の亜鉛真空蒸着装置を第１図及び第２図に示す。こ
の製筒は、アンコイラＪから巻戻された被めっき拐であ
る鋼帯２を入（１１ｉ１差圧排気室Ｂ″４３から真空蒸
着室４に入れ、その表面に蒸発るつは６から蒸発した亜
鉛を蒸着する。亜鉛を蒸着した鋼帯２は、出側差圧排気
室群６を経てコイラフに巻かれて製品となる。
の製筒は、アンコイラＪから巻戻された被めっき拐であ
る鋼帯２を入（１１ｉ１差圧排気室Ｂ″４３から真空蒸
着室４に入れ、その表面に蒸発るつは６から蒸発した亜
鉛を蒸着する。亜鉛を蒸着した鋼帯２は、出側差圧排気
室群６を経てコイラフに巻かれて製品となる。
上記蒸発るつは５に保持されている溶融亜鉛８は、大気
中にある溶解炉９から大気圧により連通管１０を介して
補給される。蒸発るつは５、連通管１０及び溶解炉９に
はヒータ１１，１２が付設されて、所定の温度に溶融亜
鉛８を加熱している。
中にある溶解炉９から大気圧により連通管１０を介して
補給される。蒸発るつは５、連通管１０及び溶解炉９に
はヒータ１１，１２が付設されて、所定の温度に溶融亜
鉛８を加熱している。
なお図中１３は、溶解炉９を上昇又は下降させて蒸発る
つぼ５内の亜鉛レベルを一定に保持又は変更するための
レベル調整機。１４は、差圧排気室群３，６に設けられ
たシールゝロール。
つぼ５内の亜鉛レベルを一定に保持又は変更するための
レベル調整機。１４は、差圧排気室群３，６に設けられ
たシールゝロール。
１５は、同室群３，６に設けられた排気口。
１６は、真空蒸着室４に設けられた排気口である。排気
口Ｊ５．Ｊ６は真空ポンプ（図示せす）に連結している
。
口Ｊ５．Ｊ６は真空ポンプ（図示せす）に連結している
。
しかしてこの装置は、蒸発るつは５内の溶融亜鉛８の表
面に酸化亜鉛皮膜（スカム）１７が浮いておシ、沸騰現
象の原因となっている。沸騰が生じると、液滴状の亜鉛
が生成して銅帯２に付着し、この結果蒸着面の状態を態
化させ、製品価値を損う問題がある。
面に酸化亜鉛皮膜（スカム）１７が浮いておシ、沸騰現
象の原因となっている。沸騰が生じると、液滴状の亜鉛
が生成して銅帯２に付着し、この結果蒸着面の状態を態
化させ、製品価値を損う問題がある。
酸化亜鉛皮、１１Ｋ （スカム）１７が生成する原因と
しては、以下に示すスタートアップ法に欠点があるため
である。すなわち蒸着作業を一時停止する場合、第２図
に示すように溶解炉９のレベルを下げて蒸発るつぼ５内
から溶融亜鉛８を排出する必豊かある。この際、溶融亜
鉛の一部が蒸発るつは５及び連通ｖ１ｏの内壁に付着残
留する。この伺着亜鉛１８は大気又は不活性ガス雰囲気
中の酸化性ガスによシ酸化され、付着亜鉛１８の表面に
酸化亜鉛皮膜１７を生成する。
しては、以下に示すスタートアップ法に欠点があるため
である。すなわち蒸着作業を一時停止する場合、第２図
に示すように溶解炉９のレベルを下げて蒸発るつぼ５内
から溶融亜鉛８を排出する必豊かある。この際、溶融亜
鉛の一部が蒸発るつは５及び連通ｖ１ｏの内壁に付着残
留する。この伺着亜鉛１８は大気又は不活性ガス雰囲気
中の酸化性ガスによシ酸化され、付着亜鉛１８の表面に
酸化亜鉛皮膜１７を生成する。
この状態で次にスタートアップすると、溶解炉９から連
通管１０を介して蒸発るつは５内に溶融亜鉛８が供給さ
れる。そしてこの通過溶融亜鉛により、連通管１０や蒸
発るつは５に付着していた酸化亜鉛皮膜Ｊ７が剥離し、
蒸発るつｔヨ５内の溶融亜鉛８の表面にスカムとして浮
遊してしまう。
通管１０を介して蒸発るつは５内に溶融亜鉛８が供給さ
れる。そしてこの通過溶融亜鉛により、連通管１０や蒸
発るつは５に付着していた酸化亜鉛皮膜Ｊ７が剥離し、
蒸発るつｔヨ５内の溶融亜鉛８の表面にスカムとして浮
遊してしまう。
本発明は上記年債に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、スタートアップ前に酸化皮膜を除去する
ことによシ、スタートアップを良好におこなうことがで
きる真空蒸着装置を得んとするものである。
するところは、スタートアップ前に酸化皮膜を除去する
ことによシ、スタートアップを良好におこなうことがで
きる真空蒸着装置を得んとするものである。
すなわち本発明は、椋めっき材が走行する真空蒸着室内
に溶融金属を入れた蒸発るつほを配置した真空蒸着装置
において、上記蒸発るつほの内側に間隙を設けて取付け
られ下部を上記蒸発るつほの溶融金属に浸漬可能に突出
した受は板と、下部を上記蒸発るつほの溶融金属に浸漬
して上記受は板方向に移動自在に設けたかきとシ板とを
呉備したことを特徴とする。＼以下本発明を第３図〜第
５図にもとづいて説明する。
に溶融金属を入れた蒸発るつほを配置した真空蒸着装置
において、上記蒸発るつほの内側に間隙を設けて取付け
られ下部を上記蒸発るつほの溶融金属に浸漬可能に突出
した受は板と、下部を上記蒸発るつほの溶融金属に浸漬
して上記受は板方向に移動自在に設けたかきとシ板とを
呉備したことを特徴とする。＼以下本発明を第３図〜第
５図にもとづいて説明する。
第３図は本発明の一実施例金示す真空蒸着装置の説明図
、第４図は蒸発るつ１１の平面図、第５図は同断面図で
ある。この装置は、真空蒸着室４、蒸発るつは５、溶解
炉９、連通管１０゜ヒータ１１，１２などを備えている
が、これらの構成は第１図に示すものと同じなので、同
一符号を付してその説１明を省略する。本発明に係る真
空蒸着装置は、従来のものに加えて更に受は板１９とか
きとシ板２０とを設けている。受は板１９は、逆り字状
をなし、蒸発るりは５の上部内壁に取付けられている。
、第４図は蒸発るつ１１の平面図、第５図は同断面図で
ある。この装置は、真空蒸着室４、蒸発るつは５、溶解
炉９、連通管１０゜ヒータ１１，１２などを備えている
が、これらの構成は第１図に示すものと同じなので、同
一符号を付してその説１明を省略する。本発明に係る真
空蒸着装置は、従来のものに加えて更に受は板１９とか
きとシ板２０とを設けている。受は板１９は、逆り字状
をなし、蒸発るりは５の上部内壁に取付けられている。
この受は板１９の下端は真空蒸着時の液面レベルＡよシ
下で、かつかきとシ時の液面レベルＢより上に位置して
いる。上記かきとシ板２０は下端がかきとシ時の液面レ
ベルＢよυも下方にあって、受は板１９と対向する内壁
から受は板１９方向に移動できるようになっている。か
きとシ板２０の駆動は、例えは第５図に示すようにかき
とシ板２０を滑車２ノに巻いたチェーン２２（又はワイ
ヤ）に数句け、滑車２ノを連結棒２３を介して真空蒸着
室外の駆動装置（図示せず）に連結してこれを回転させ
ることによシおこなう。なお図中２４は蒸着室隔壁、２
５はシール部である。又かきとシ板２０の駆動手段は、
この実施例に限定されない。また受は板１９及びかきと
り板２０の制質は、溶融金属と反応せず、かつ耐熱性の
あるものが好捷しく、例えば溶融金属が亜鉛の場合、Ｗ
、 Ｍｏ等の詳融点金属、Ａｔ２０５ ！Ｚ ｒ Ｏ
２等の酸化物、炭素質材料などが好ましい。
下で、かつかきとシ時の液面レベルＢより上に位置して
いる。上記かきとシ板２０は下端がかきとシ時の液面レ
ベルＢよυも下方にあって、受は板１９と対向する内壁
から受は板１９方向に移動できるようになっている。か
きとシ板２０の駆動は、例えは第５図に示すようにかき
とシ板２０を滑車２ノに巻いたチェーン２２（又はワイ
ヤ）に数句け、滑車２ノを連結棒２３を介して真空蒸着
室外の駆動装置（図示せず）に連結してこれを回転させ
ることによシおこなう。なお図中２４は蒸着室隔壁、２
５はシール部である。又かきとシ板２０の駆動手段は、
この実施例に限定されない。また受は板１９及びかきと
り板２０の制質は、溶融金属と反応せず、かつ耐熱性の
あるものが好捷しく、例えば溶融金属が亜鉛の場合、Ｗ
、 Ｍｏ等の詳融点金属、Ａｔ２０５ ！Ｚ ｒ Ｏ
２等の酸化物、炭素質材料などが好ましい。
また受は板１９は、蒸発るつは５と一体として製作して
もよい。次にこの真空蒸着装置のスタートアップ方法に
つき説明する。
もよい。次にこの真空蒸着装置のスタートアップ方法に
つき説明する。
溶解炉９を予め加熱して炉内の蒸発用亜鉛などを溶融さ
せておく。一方蒸発るりぼ５、受は板１９及び連通管１
０を溶融金属の融点以上に加熱しておく。又かきとシ叛
２０は、受は板１９の反対側の位置（第４図に示す位置
）に待機させておく。この状態で真空蒸着室ゝ４内を排
気して、溶融金属８（溶融亜鉛）をかきとり時のレベル
Ｂまで供給する。この後かきとシ板２０を受は板１９の
位置マで移動して、溶融金属８上の酸化皮膜１７をかき
とる。次にレベル調節機１３によシ溶融金属８のレベル
を蒸着レベルＡまで上げて蒸着を開始する。
せておく。一方蒸発るりぼ５、受は板１９及び連通管１
０を溶融金属の融点以上に加熱しておく。又かきとシ叛
２０は、受は板１９の反対側の位置（第４図に示す位置
）に待機させておく。この状態で真空蒸着室ゝ４内を排
気して、溶融金属８（溶融亜鉛）をかきとり時のレベル
Ｂまで供給する。この後かきとシ板２０を受は板１９の
位置マで移動して、溶融金属８上の酸化皮膜１７をかき
とる。次にレベル調節機１３によシ溶融金属８のレベル
を蒸着レベルＡまで上げて蒸着を開始する。
との操作によシ溶融金属８上の酸化皮膜１７は、かき取
られて受は板１９に集められ封入されている。このため
蒸発面には酸化皮膜はなく、異詣沸騰を生ずることはな
い。
られて受は板１９に集められ封入されている。このため
蒸発面には酸化皮膜はなく、異詣沸騰を生ずることはな
い。
なお受は板１９に集められた酸化皮膜１７は、運転を停
止し、溶融金属８を蒸発るつぼ５から溶解炉９に抜き出
した時に、溶解炉９内の溶融金属表面に浮遊した酸化皮
膜として取シ除く。
止し、溶融金属８を蒸発るつぼ５から溶解炉９に抜き出
した時に、溶解炉９内の溶融金属表面に浮遊した酸化皮
膜として取シ除く。
まだこの装置ｒは、亜鉛の真空蒸着に限らず、他の金属
にも適用できる。
にも適用できる。
以上船、明したように、本発明によれば蒸着時に溶融金
属の蒸発面上に酸化皮膜がないので、異常沸騰を生ぜず
、正常な蒸着をおこなうことができる。
属の蒸発面上に酸化皮膜がないので、異常沸騰を生ぜず
、正常な蒸着をおこなうことができる。
第１図は従来の作字蒸着装置の説明図、第２図は同装置
のスタートアップ時の説明図、第３図は本発明の一笑施
例を示す真空蒸着装置の説明図、第４図は同装置の蒸発
るつほの平面し］、第５図は同断面図である。 １・・・アンコイラ、２・・・銅帯、３・・・入側差圧
排気室群、４・・・４′−空蒸米室、５・・・蒸発るつ
は、６・・・出側差圧排気室群、７・・・コイラ、８・
・・溶融亜鉛（溶融金属）、９・・・溶解炉、１０・・
・連通管、１１．１２・・・ヒータ、ノ３・・・レベル
調整機、１４・・・シールロール、１５．１６・・・排
気口、ノ２・・・酸化亜鉛皮膜（酸化皮膜）、１８・・
・付着亜鉛、ノ９・・・受は板、２０・・・かきとシ板
、２ノ・・・滑車、２２・・・チェーン、２３・・・連
結棒、２４・・・蒸着室隔壁、２５・・・シール部。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第２図 ｊ！！３図
のスタートアップ時の説明図、第３図は本発明の一笑施
例を示す真空蒸着装置の説明図、第４図は同装置の蒸発
るつほの平面し］、第５図は同断面図である。 １・・・アンコイラ、２・・・銅帯、３・・・入側差圧
排気室群、４・・・４′−空蒸米室、５・・・蒸発るつ
は、６・・・出側差圧排気室群、７・・・コイラ、８・
・・溶融亜鉛（溶融金属）、９・・・溶解炉、１０・・
・連通管、１１．１２・・・ヒータ、ノ３・・・レベル
調整機、１４・・・シールロール、１５．１６・・・排
気口、ノ２・・・酸化亜鉛皮膜（酸化皮膜）、１８・・
・付着亜鉛、ノ９・・・受は板、２０・・・かきとシ板
、２ノ・・・滑車、２２・・・チェーン、２３・・・連
結棒、２４・・・蒸着室隔壁、２５・・・シール部。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第２図 ｊ！！３図
Claims (1)
- 被めっき材が走行する真空蒸着室内に溶融金属を入れた
蒸発るつほを配ｆハ゛した真空蒸着装置において、上記
蒸発るつほの内側に間隙を設けて数句けられ下部を上記
蒸発るつほの溶融金属に浸漬可能に突出した受は板と、
下部を上記蒸発るつほの溶融金属に浸漬して上記受は板
方向に移動自在に設けたかきとシ板とを具備したことを
特許とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159383A JPS59177368A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159383A JPS59177368A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59177368A true JPS59177368A (ja) | 1984-10-08 |
| JPH0252716B2 JPH0252716B2 (ja) | 1990-11-14 |
Family
ID=12891206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5159383A Granted JPS59177368A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59177368A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5681614A (en) * | 1993-01-29 | 1997-10-28 | Tokyo Electron Limited | Hydrophobic treatment method involving delivery of a liquid process agent to a process space |
| US6092299A (en) * | 1997-09-05 | 2000-07-25 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
| US6207006B1 (en) | 1997-09-18 | 2001-03-27 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
| CN117888061A (zh) * | 2024-03-14 | 2024-04-16 | 天水天光半导体有限责任公司 | 一种银金属蒸发真空镀膜的方法 |
-
1983
- 1983-03-29 JP JP5159383A patent/JPS59177368A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5681614A (en) * | 1993-01-29 | 1997-10-28 | Tokyo Electron Limited | Hydrophobic treatment method involving delivery of a liquid process agent to a process space |
| US6092299A (en) * | 1997-09-05 | 2000-07-25 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
| US6207006B1 (en) | 1997-09-18 | 2001-03-27 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
| CN117888061A (zh) * | 2024-03-14 | 2024-04-16 | 天水天光半导体有限责任公司 | 一种银金属蒸发真空镀膜的方法 |
| CN117888061B (zh) * | 2024-03-14 | 2024-05-24 | 天水天光半导体有限责任公司 | 一种银金属蒸发真空镀膜的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0252716B2 (ja) | 1990-11-14 |
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