JPS59173288A - 電鋳金型の製造方法 - Google Patents
電鋳金型の製造方法Info
- Publication number
- JPS59173288A JPS59173288A JP4737283A JP4737283A JPS59173288A JP S59173288 A JPS59173288 A JP S59173288A JP 4737283 A JP4737283 A JP 4737283A JP 4737283 A JP4737283 A JP 4737283A JP S59173288 A JPS59173288 A JP S59173288A
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- Japan
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- nickel
- mold
- film
- electroforming
- electroformed
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明は情報記録担体の複製に用いる電鋳金型に係り、
特に、情報パターンの劣化がなく、かつ安全衛生の面で
優れた電鋳金型の製造方法に関する。
特に、情報パターンの劣化がなく、かつ安全衛生の面で
優れた電鋳金型の製造方法に関する。
（ｂ） 従来技術と問題点
光を照射して記録される光ディスクの複製は第１図に示
すような方法で行われる。第１図は複製電鋳金型の製造
工程を説明する断面図であり、（ａ）は原盤、（ｂ）は
第１ニツケル電鋳膜の形成、（Ｃ）は剥離した第１ニツ
ケル電鋳膜を用いて樹脂プレス、（ｄ）は成形、（ｅ）
は再生された光ディスク、（ｆ）は第１ニツケル電鋳膜
（マスク）上に第２ニツケル電鋳膜形成、（ｇ）は剥離
した第２ニツケル電鋳膜（マザー ） 、（ｈ）は第２
ニツケル電鋳膜（マザー）上に、第３ニツケル電鋳膜形
成、（ｐ）は剥離した第３ニツケル電鋳膜（スタンパ）
を示す。
すような方法で行われる。第１図は複製電鋳金型の製造
工程を説明する断面図であり、（ａ）は原盤、（ｂ）は
第１ニツケル電鋳膜の形成、（Ｃ）は剥離した第１ニツ
ケル電鋳膜を用いて樹脂プレス、（ｄ）は成形、（ｅ）
は再生された光ディスク、（ｆ）は第１ニツケル電鋳膜
（マスク）上に第２ニツケル電鋳膜形成、（ｇ）は剥離
した第２ニツケル電鋳膜（マザー ） 、（ｈ）は第２
ニツケル電鋳膜（マザー）上に、第３ニツケル電鋳膜形
成、（ｐ）は剥離した第３ニツケル電鋳膜（スタンパ）
を示す。
原盤１は（ａ）に示すようにガラス材等の基板表面に感
光層を積層し、該感光層の記録面に情報（凹凸）パター
ンが記録されている。この原盤１上に（ｂ）に示すよう
に第１ニツケル電鋳膜２を形成する。
光層を積層し、該感光層の記録面に情報（凹凸）パター
ンが記録されている。この原盤１上に（ｂ）に示すよう
に第１ニツケル電鋳膜２を形成する。
次に（Ｃ）に示すように原盤１より剥離した第１ニツケ
ル電鋳膜２を第１の電鋳型（マスク）として、紋型の情
報（凹凸）が転写された面に樹脂３を入れ、（ｄ）のよ
うにプレス（圧縮成形）シ、（ｅ）に示すような原盤１
の情報（凹凸）パターンを再生した光ディスク４が得ら
れる。
ル電鋳膜２を第１の電鋳型（マスク）として、紋型の情
報（凹凸）が転写された面に樹脂３を入れ、（ｄ）のよ
うにプレス（圧縮成形）シ、（ｅ）に示すような原盤１
の情報（凹凸）パターンを再生した光ディスク４が得ら
れる。
光ディスク４は一般に多数複製されるために、実際には
（Ｃ）に示すように第１の電鋳型（マスク）２を直接使
用せずに、この第１の電鋳型２を基にして（ｆ）に示す
ように更にメッキし、第２のニッケル電鋳膜５を形成し
、それを剥離して（ｇｌに示すような第２の電鋳型（マ
ザー）５とする。更に（ｈ）に示すようにもう１回メッ
キし、第３ニツケル電鋳膜６を形成し、それを剥離して
（ｐ）のように第１の電鋳型（マスク）２と同じパター
ンを形成した第３の電鋳型（スタンパ）６としている。
（Ｃ）に示すように第１の電鋳型（マスク）２を直接使
用せずに、この第１の電鋳型２を基にして（ｆ）に示す
ように更にメッキし、第２のニッケル電鋳膜５を形成し
、それを剥離して（ｇｌに示すような第２の電鋳型（マ
ザー）５とする。更に（ｈ）に示すようにもう１回メッ
キし、第３ニツケル電鋳膜６を形成し、それを剥離して
（ｐ）のように第１の電鋳型（マスク）２と同じパター
ンを形成した第３の電鋳型（スタンパ）６としている。
これを用いて樹脂成形し、多数の光デ、ｒスク４を複製
している。
している。
上記工程で問題となることは、マスタ２．マザー５のニ
ッケル電鋳膜の上に更にメッキして、そのメッキ膜を剥
離する場合、同じ金属同士であるため、全く一体化して
剥離できない。そこでメッキ膜にニッケル電鋳膜）同士
を剥し易くするために、従来よりマスタ２．マサ−５の
メッキ膜を重クロム酸カリ液へ浸漬する方法がある。
ッケル電鋳膜の上に更にメッキして、そのメッキ膜を剥
離する場合、同じ金属同士であるため、全く一体化して
剥離できない。そこでメッキ膜にニッケル電鋳膜）同士
を剥し易くするために、従来よりマスタ２．マサ−５の
メッキ膜を重クロム酸カリ液へ浸漬する方法がある。
この方法では、重クロム酸カリが人体に有害であり、又
危険な薬品で、廃液処理もやっかいである。さらに、処
理工程において、液中のゴミが付着したり、重クロム酸
カリが残渣として付着する可能性がある等の問題がある
。
危険な薬品で、廃液処理もやっかいである。さらに、処
理工程において、液中のゴミが付着したり、重クロム酸
カリが残渣として付着する可能性がある等の問題がある
。
（Ｃ）発明の目的
本発明の目的は第１の電鋳金型表面に酸素プラズマを照
射することにより情報パターンの劣化がなく、かつ安全
衛生の面で優れた剥離処理が行える電鋳金型の製造方法
を提供することにある。
射することにより情報パターンの劣化がなく、かつ安全
衛生の面で優れた剥離処理が行える電鋳金型の製造方法
を提供することにある。
（ｄ） 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれは、表面がニッケルから
なる第１の電鋳金型上に、さらにニッケル電鋳を行い形
成した電鋳膜を剥離して複製電鋳金型を製造する方法に
おいて、前記第１の電鋳金型表面に酸素プラズマを照射
した後、前記ニッケル電鋳を行う事により電鋳膜の剥離
を容易にしたことを特徴とする電鋳金型の製造方法を提
供することによって達成される。
なる第１の電鋳金型上に、さらにニッケル電鋳を行い形
成した電鋳膜を剥離して複製電鋳金型を製造する方法に
おいて、前記第１の電鋳金型表面に酸素プラズマを照射
した後、前記ニッケル電鋳を行う事により電鋳膜の剥離
を容易にしたことを特徴とする電鋳金型の製造方法を提
供することによって達成される。
（ｅｌ 発明の実施例
以下本発明について、詳細に説明する。
本発明は、前述した第１図に示す複製電鋳金型の製造工
程の（Ｃ）に示す第１の電鋳金型２表面に、酸素プラズ
マを照射し表面に酸化層を形成する。
程の（Ｃ）に示す第１の電鋳金型２表面に、酸素プラズ
マを照射し表面に酸化層を形成する。
この第１の電鋳金型２上に（ｆ）に示すようにさらにニ
ッケル電鋳５を行い、剥離して（ｇ）に示す複製金型（
第２の電鋳金型）５を製造する。このとき剥離が容易に
行えるようにしたものが本発明である。
ッケル電鋳５を行い、剥離して（ｇ）に示す複製金型（
第２の電鋳金型）５を製造する。このとき剥離が容易に
行えるようにしたものが本発明である。
第２図は本発明の１実施例を説明する断面図である。
図（ａ）の１１は凹凸の情報パターンを有する第１のニ
ッケル電鋳金型であり、その表面に酸素プラズマ１２を
照射する。プラズマ照射条件は酸素圧Ｉ Ｘ １０ ’
Ｔｏｒｒ 、電力２００Ｗ、時間２０分とした。
ッケル電鋳金型であり、その表面に酸素プラズマ１２を
照射する。プラズマ照射条件は酸素圧Ｉ Ｘ １０ ’
Ｔｏｒｒ 、電力２００Ｗ、時間２０分とした。
次に酸素プラズマ１２により照射された第１のニッケル
電鋳金型１１上に（ｂ）に示すようにニッケル電鋳膜１
３を形成し、第１のニッケル電鋳金型１１より剥離して
、（Ｃ）に示すような第２の電鋳金型（マザー）１３と
する。
電鋳金型１１上に（ｂ）に示すようにニッケル電鋳膜１
３を形成し、第１のニッケル電鋳金型１１より剥離して
、（Ｃ）に示すような第２の電鋳金型（マザー）１３と
する。
上記のように酸化プラズマ処理を行った場合は第１のニ
ッケル電鋳金型１１の表面に形成された 。
ッケル電鋳金型１１の表面に形成された 。
酸化膜により、その上に形成されたニッケル電鋳膜１３
が容易に剥離される。剥離により形成された第２の電鋳
金型１３（マザー）には第１の電鋳金型１１の情報パタ
ーン（凹凸）が転写される。
が容易に剥離される。剥離により形成された第２の電鋳
金型１３（マザー）には第１の電鋳金型１１の情報パタ
ーン（凹凸）が転写される。
以上実施例のように第１のニッケル電鋳金型１１の表面
に酸素プラズマを照射し酸化膜を形成しているので、人
体への害が少なく、廃液も生じない。
に酸素プラズマを照射し酸化膜を形成しているので、人
体への害が少なく、廃液も生じない。
又、溶液に浸漬することもないので、ニッケル電鋳膜１
１表面が汚染されず、むしろ取扱いにより付着したよう
な有機質の汚れを除去する効果があることにより、その
上に形成されるニッケル電鋳膜１２の情報パターンは劣
化なく形成される。
１表面が汚染されず、むしろ取扱いにより付着したよう
な有機質の汚れを除去する効果があることにより、その
上に形成されるニッケル電鋳膜１２の情報パターンは劣
化なく形成される。
又、第３の電鋳金型（スタンパ）についても全く同様で
ある。
ある。
（ｆ） 発明の効果
以上詳細屹説明したように、本発明の電鋳金型の製造方
法は、第１のニッケル電鋳金型表面に酸素プラズマを照
射し、表面に酸化層を形成することにより、第１の金型
上にさらにニッケル電鋳を行って剥離して複製金型を製
造する際、ニッケル電鋳膜の剥離を容易に行える。この
酸素プラズマ照射は従来の町クロム酸カリ液への浸漬法
とは異なり、人体への害が少なく、廃液も生じない。又
、溶液に浸漬することもないので、ニッケル電納膜表面
が汚染されず、むしろ取扱い中に付着したような有機質
の汚１１を除去する効果あり、従ってその上に形成され
る情報パターンは劣化なく形成される。
法は、第１のニッケル電鋳金型表面に酸素プラズマを照
射し、表面に酸化層を形成することにより、第１の金型
上にさらにニッケル電鋳を行って剥離して複製金型を製
造する際、ニッケル電鋳膜の剥離を容易に行える。この
酸素プラズマ照射は従来の町クロム酸カリ液への浸漬法
とは異なり、人体への害が少なく、廃液も生じない。又
、溶液に浸漬することもないので、ニッケル電納膜表面
が汚染されず、むしろ取扱い中に付着したような有機質
の汚１１を除去する効果あり、従ってその上に形成され
る情報パターンは劣化なく形成される。
（凡ン。
第１図（ａ）５杯）は複製電鋳金型の製造工程を説明す
る断面図、第２図（ａ）〜（Ｃ）は本発明の′［を鋳金
型の製造方法の１実施例を説明する断面図である。 図において、１１は第１のニッケル電鋳金型、１２は酸
素プラズマ、１３は第２のニッケル電鋳金型を示す。 ｉＩ”’・。 □、パ 代理人 弁理士 松 岡 宏四部 −・略 ｌ
図 番？閃 １／ 、４ ｔ ｔ ／／
る断面図、第２図（ａ）〜（Ｃ）は本発明の′［を鋳金
型の製造方法の１実施例を説明する断面図である。 図において、１１は第１のニッケル電鋳金型、１２は酸
素プラズマ、１３は第２のニッケル電鋳金型を示す。 ｉＩ”’・。 □、パ 代理人 弁理士 松 岡 宏四部 −・略 ｌ
図 番？閃 １／ 、４ ｔ ｔ ／／
Claims (1)
- 表面がニッケルからなる第１の電鋳金型上に、さらにニ
ッケル電鋳を行い形成した電鋳膜を剥離して複製電鋳金
型を製造する方法において、前記第１の電鋳金型表面に
酸素プラズマを照射した後前記ニッケル電鋳を行うよう
にしたことを特徴とする電鋳金型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4737283A JPS59173288A (ja) | 1983-03-22 | 1983-03-22 | 電鋳金型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4737283A JPS59173288A (ja) | 1983-03-22 | 1983-03-22 | 電鋳金型の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59173288A true JPS59173288A (ja) | 1984-10-01 |
Family
ID=12773269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4737283A Pending JPS59173288A (ja) | 1983-03-22 | 1983-03-22 | 電鋳金型の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59173288A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020042418A (ko) * | 2000-11-30 | 2002-06-05 | 기타지마 요시토시 | 금형의 복제 방법 및 성상 판정 방법 |
| EP1510599A2 (en) * | 2003-09-01 | 2005-03-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing stamper, stamper and optical recording medium |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58210187A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-07 | Hitachi Ltd | 剥離皮膜の形成方法 |
-
1983
- 1983-03-22 JP JP4737283A patent/JPS59173288A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58210187A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-07 | Hitachi Ltd | 剥離皮膜の形成方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020042418A (ko) * | 2000-11-30 | 2002-06-05 | 기타지마 요시토시 | 금형의 복제 방법 및 성상 판정 방법 |
| EP1510599A2 (en) * | 2003-09-01 | 2005-03-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing stamper, stamper and optical recording medium |
| EP1510599A3 (en) * | 2003-09-01 | 2007-01-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing stamper, stamper and optical recording medium |
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