JPS58210187A - 剥離皮膜の形成方法 - Google Patents
剥離皮膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS58210187A JPS58210187A JP9310382A JP9310382A JPS58210187A JP S58210187 A JPS58210187 A JP S58210187A JP 9310382 A JP9310382 A JP 9310382A JP 9310382 A JP9310382 A JP 9310382A JP S58210187 A JPS58210187 A JP S58210187A
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- JP
- Japan
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- plating
- matrix
- release film
- film
- oxygen plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属母型より、メッキによって金属母型と凹
凸の逆の金属体を製造する工程、具体的には金属マスク
よりのマザーの製造およびマザーよりのスタンパの製造
において採用する剥離皮膜の形成方法に関するものであ
る。
凸の逆の金属体を製造する工程、具体的には金属マスク
よりのマザーの製造およびマザーよりのスタンパの製造
において採用する剥離皮膜の形成方法に関するものであ
る。
従来、金属母型上に剥離皮膜を形成し、メッキを行った
後、剥離皮膜上で剥離して金属体を製造する工程におい
ては、前記の金属母型上に剥離皮膜を形成するために六
価クロム化合物である重クロム駿カリウム水溶液で処理
する方法が用いられていた。かかる公知の方法は六価ク
ロム化合物を用いているために、取り扱い等の安全面で
問題があシ、六価クロム用廃水処理装置を必要とし、技
術的、経済的にも問題が多い。
後、剥離皮膜上で剥離して金属体を製造する工程におい
ては、前記の金属母型上に剥離皮膜を形成するために六
価クロム化合物である重クロム駿カリウム水溶液で処理
する方法が用いられていた。かかる公知の方法は六価ク
ロム化合物を用いているために、取り扱い等の安全面で
問題があシ、六価クロム用廃水処理装置を必要とし、技
術的、経済的にも問題が多い。
着た、硫黄化合物やヨウ素化合物を用いて金属母型上に
剥離皮膜を形成する方法も公知であるが、これらの化合
物を用いた処理液は不安定で、紗時変化が太きい。また
、剥離皮膜の生成が不完全であるため、しばしば金属母
型とメッキ金属体との剥離が困難になる等の欠点がある
。
剥離皮膜を形成する方法も公知であるが、これらの化合
物を用いた処理液は不安定で、紗時変化が太きい。また
、剥離皮膜の生成が不完全であるため、しばしば金属母
型とメッキ金属体との剥離が困難になる等の欠点がある
。
上記の方法の欠点を改善するものとして、金属母型をア
ンチモン化合物の水溶液で処理する方法が提案されてい
る。この方法は転写せんとする凹凸形状が平坦に近く、
情報密度も従来の音声レコード程度の場合は問題はない
が、高密度デジタル情報パターンや溝深さが溝広さを越
える深溝パターンのメッキによる転写の場合は好適では
ない。これは、上述した高密度デジタル情報パターンや
深溝パターンを有する金属母型を用いる場合には、凹凸
状の情ｒ７Ｍ’を有する部分と情報を有しない平坦部分
の剥離性が大きく異なるためであり、全面に亘り均一に
形成される剥離膜を用いる事は好ましくない。この様な
場合、情報を有する部分の剥離性を良好にしようとする
と、メッキ処理中に平坦部分の剥離が生じ、良好な転写
金属体が得られず、平坦部分のメッキ処理中の剥離を防
ごうと−すると、情報を有する部分の剥離が困難となる
。
ンチモン化合物の水溶液で処理する方法が提案されてい
る。この方法は転写せんとする凹凸形状が平坦に近く、
情報密度も従来の音声レコード程度の場合は問題はない
が、高密度デジタル情報パターンや溝深さが溝広さを越
える深溝パターンのメッキによる転写の場合は好適では
ない。これは、上述した高密度デジタル情報パターンや
深溝パターンを有する金属母型を用いる場合には、凹凸
状の情ｒ７Ｍ’を有する部分と情報を有しない平坦部分
の剥離性が大きく異なるためであり、全面に亘り均一に
形成される剥離膜を用いる事は好ましくない。この様な
場合、情報を有する部分の剥離性を良好にしようとする
と、メッキ処理中に平坦部分の剥離が生じ、良好な転写
金属体が得られず、平坦部分のメッキ処理中の剥離を防
ごうと−すると、情報を有する部分の剥離が困難となる
。
本発明の目的は、上記したような従来技術の方法におけ
る欠点を改善し、高密度デジタル情報パターンや深溝パ
ターンのメッキ転写法に用いることのできる剥離皮膜の
形成方法を提供することにある。
る欠点を改善し、高密度デジタル情報パターンや深溝パ
ターンのメッキ転写法に用いることのできる剥離皮膜の
形成方法を提供することにある。
本発明者等は、上記の問題点を解決するために、種々の
方法を検討した結果、酸素プラズマ処理法を用いて金属
母型の情報を有する部分に選択的に酸化皮膜を形成し剥
離皮膜としてメッキを行い、剥離皮膜上で剥離して前記
の金属母型と凹凸の逆の金属体を得る事が合目的である
ことを発見するに至った。
方法を検討した結果、酸素プラズマ処理法を用いて金属
母型の情報を有する部分に選択的に酸化皮膜を形成し剥
離皮膜としてメッキを行い、剥離皮膜上で剥離して前記
の金属母型と凹凸の逆の金属体を得る事が合目的である
ことを発見するに至った。
以上による、本発明の剥離皮膜の形成方法の特徴とする
ところは、金属母型上に剥離皮膜を形成し、該剥離皮膜
上にメッキを行った後、前記の金属母型よυ前記の剥離
皮膜上でメッキを剥離し、前記の金属母型と凹凸の逆の
金属体を製造するものにおいて、前記の金属母型上に酸
素プラズマ処理を行い、該酸素プラズマ処理による酸化
皮膜よりなる剥離皮膜を形成することにある。
ところは、金属母型上に剥離皮膜を形成し、該剥離皮膜
上にメッキを行った後、前記の金属母型よυ前記の剥離
皮膜上でメッキを剥離し、前記の金属母型と凹凸の逆の
金属体を製造するものにおいて、前記の金属母型上に酸
素プラズマ処理を行い、該酸素プラズマ処理による酸化
皮膜よりなる剥離皮膜を形成することにある。
す力わち、本発明によれば、代表的には、酸素圧ＯＡ〜
１Ｔｏｒｒ 、 ＲＦパワー５０〜５００ＩＦ′の条件
で、金属母型の全面プラズマ処理し、後に平坦部を金属
板で榎い、情報を有する部分を選択的に酸素プラズマ処
理を行うことによって金属母型上に酸化皮膜を形成する
。次に、−酸化皮膜を表面に形成上た金属母型上にメッ
キを行い、必要ならプラスチックやハンダ等で補強を行
った後、酸化皮膜上で剥離して前記の金属母型と凹凸の
逆の金属体または金属体と他の材料との複合体を得るこ
とができる。
１Ｔｏｒｒ 、 ＲＦパワー５０〜５００ＩＦ′の条件
で、金属母型の全面プラズマ処理し、後に平坦部を金属
板で榎い、情報を有する部分を選択的に酸素プラズマ処
理を行うことによって金属母型上に酸化皮膜を形成する
。次に、−酸化皮膜を表面に形成上た金属母型上にメッ
キを行い、必要ならプラスチックやハンダ等で補強を行
った後、酸化皮膜上で剥離して前記の金属母型と凹凸の
逆の金属体または金属体と他の材料との複合体を得るこ
とができる。
以下に本発明を実施例につき、さらに眸細に説明する。
実施例 １
岸さ０．３ｍｍ のニッケルによる光デイスクビデオ
レコード用マザー原盤を公知の方法により、脱脂、酸洗
浄を行い表面を清浄にした後、これをドライ窒素によシ
乾燥し、酸素圧０．２Ｔｏｒｒ 、 ＲＦパワー１０ソ
の条件で２分間酸素プラズマ処理を行った。
レコード用マザー原盤を公知の方法により、脱脂、酸洗
浄を行い表面を清浄にした後、これをドライ窒素によシ
乾燥し、酸素圧０．２Ｔｏｒｒ 、 ＲＦパワー１０ソ
の条件で２分間酸素プラズマ処理を行った。
この紳盤の外周および内周の無信号平坦部をニッケル板
で覆い、信号記録部のみを露出し、酸素圧０．ＡＴｏｒ
ｒ 、 ＲＦパワー２０Ｃｆの条件で３分間酸素プラズ
マ処理を行って、剥離皮膜を形成した。
で覆い、信号記録部のみを露出し、酸素圧０．ＡＴｏｒ
ｒ 、 ＲＦパワー２０Ｃｆの条件で３分間酸素プラズ
マ処理を行って、剥離皮膜を形成した。
しかる後に公知の方法によシ厚さ０．２ｍｍのニッケル
メッキを行い、先に形成した剥離皮膜上で剥離して、前
記のマザー原盤と凹凸の逆の金属体として、厚さＱ、２
ｍｍのニッケルよりなるスタンパ絆盤を得た。
メッキを行い、先に形成した剥離皮膜上で剥離して、前
記のマザー原盤と凹凸の逆の金属体として、厚さＱ、２
ｍｍのニッケルよりなるスタンパ絆盤を得た。
実施例 ２
斥さＯ，Ｓｍｍのニッケルによる、壽あり静電容量方式
ビデオディスクに用いるスタイラスの研単皿用マザー原
盤（擲幅２μｍ、溝深さ５μｍ）を公知の方法により、
脱脂、酸洗浄を行い表面を清浄にした後、これをドライ
窒素により乾燥し、酸素圧０．Ｉ Ｔｏｒｒ 、 ＲＦ
パワーｓｏＦの条件で３分間酸素プラズマ処理を行った
。
ビデオディスクに用いるスタイラスの研単皿用マザー原
盤（擲幅２μｍ、溝深さ５μｍ）を公知の方法により、
脱脂、酸洗浄を行い表面を清浄にした後、これをドライ
窒素により乾燥し、酸素圧０．Ｉ Ｔｏｒｒ 、 ＲＦ
パワーｓｏＦの条件で３分間酸素プラズマ処理を行った
。
この原盤の外周および内周の溝の刻まれていない平坦部
をニッケル板で覆い、溝、記録部のみを露出して、酸素
圧り、５Ｔｏｒｒ 、 ７ｊＦパワー３００ Ｆの条件
で、３分間酸素プラズマ処理を行って、剥離皮膜を形成
した。
をニッケル板で覆い、溝、記録部のみを露出して、酸素
圧り、５Ｔｏｒｒ 、 ７ｊＦパワー３００ Ｆの条件
で、３分間酸素プラズマ処理を行って、剥離皮膜を形成
した。
しかる後に公知の方法により厚さ０２ｍｍのニッケルメ
ッキを行い、先に形成した剥離皮膜上で剥離して、前記
のマザー原盤と凹凸が逆の金属体として厚’Ｊｒ：Ｌ２
ｍｍのニッケルよシなるスタンパ原盤を得た。
ッキを行い、先に形成した剥離皮膜上で剥離して、前記
のマザー原盤と凹凸が逆の金属体として厚’Ｊｒ：Ｌ２
ｍｍのニッケルよシなるスタンパ原盤を得た。
比較例
水１ｔ４たり重−クロム酸カリウム２ｔよりなる水溶液
を脚製し、３０℃に加温し、この水溶液中に実施例２で
用いたマザー原盤を公知の方法によシ、脱脂、酸洗浄を
行い表面を清浄にした後１０秒間浸漬し、前記のマザー
原盤の表面に剥離膜を形成した。
を脚製し、３０℃に加温し、この水溶液中に実施例２で
用いたマザー原盤を公知の方法によシ、脱脂、酸洗浄を
行い表面を清浄にした後１０秒間浸漬し、前記のマザー
原盤の表面に剥離膜を形成した。
しかる後に公知の方法により厚さ０．２ｍｍのニッケル
メッキを行い、先に形成した剥離膜上で剥離しようとし
たところ、溝のない平坦部の剥離性は良好であったが、
溝の刻まれた部分の剥離性は悪かった。
メッキを行い、先に形成した剥離膜上で剥離しようとし
たところ、溝のない平坦部の剥離性は良好であったが、
溝の刻まれた部分の剥離性は悪かった。
上述したように、本発明による酸素プラズマ法によ多形
成した剥離皮膜は、金属母型表面の良好な剥離性を与え
るものであり、従来方法より工程が安定する利点がある
。また、本発明方法は公害発生の危険を伴なうことなく
、作業の安全性にも優れているものである。
成した剥離皮膜は、金属母型表面の良好な剥離性を与え
るものであり、従来方法より工程が安定する利点がある
。また、本発明方法は公害発生の危険を伴なうことなく
、作業の安全性にも優れているものである。
代理人弁理士 薄 １）利 辛
Claims (2)
- （１） 金属母型上に剥離皮膜を形成し、該剥離皮膜
上にメッキを行った後、前記の金属母型より前記の剥離
皮膜上でメッキを剥離し、前記の金属母型と凹凸の逆の
金属体を製造するものにおいて、前記の金属母型上に酸
素プラズマ処理を行い、該酸素プラズｉ処理による酸化
皮膜よシなる剥離皮膜を形成することを特徴とする剥離
皮膜の形成方法。 - （２） 前記の酸素プラズマ処理による酸化皮膜より
なる剥離皮膜を形成するものにおいて、該金属母型の凹
凸もしくは溝状の情報を有しない平坦部分に覆いを設け
るものである特許請求の範囲第１項記載の剥離皮膜の形
成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9310382A JPS58210187A (ja) | 1982-06-02 | 1982-06-02 | 剥離皮膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9310382A JPS58210187A (ja) | 1982-06-02 | 1982-06-02 | 剥離皮膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58210187A true JPS58210187A (ja) | 1983-12-07 |
Family
ID=14073182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9310382A Pending JPS58210187A (ja) | 1982-06-02 | 1982-06-02 | 剥離皮膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58210187A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59173288A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-10-01 | Fujitsu Ltd | 電鋳金型の製造方法 |
| US4664758A (en) * | 1985-10-24 | 1987-05-12 | Xerox Corporation | Electroforming process |
| JPH01246391A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Ricoh Co Ltd | スタンパの製造方法 |
-
1982
- 1982-06-02 JP JP9310382A patent/JPS58210187A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59173288A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-10-01 | Fujitsu Ltd | 電鋳金型の製造方法 |
| US4664758A (en) * | 1985-10-24 | 1987-05-12 | Xerox Corporation | Electroforming process |
| JPH01246391A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Ricoh Co Ltd | スタンパの製造方法 |
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