JPS59171121A - マスク取り扱い装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マスクアライナ等のマスク取り扱い装置に関
し、特にマスクの自動交換のできるマスクアライナに適
用して有効な技術に関するものである。本願において、
１−マスク」とは、一般の等倍率のマスクの他、レチク
ル等の異倍率マスクをも総称するものとする。

半導体装置等の製造において用いるマスクアライナ（マ
スクアライメノト装置）は、作業の高能率化を図るため
に、半導体薄板（ウェハ）の供給（ローディング）、に
、Ｙ出（アンローディング）にあっては自動化が図られ
ているが、マスクアライナへのマスクのローディング、
アンローディングは手作業で行なっている。

しかし、このような手作業によるマスクの着脱（交換）
では、マスクをマスク保持部にセットする際、作業者の
動作によって塵埃が舞い上がったりしてマスク表面圧塵
埃が付着１〜易い。そして、この塵埃の付着は露光時に
ウェハ表面のホトレジストが所望のパターン通りに正確
に感光しなくなり好ましくない。

また、マスクの着脱、交換を手作業で行なうことから、
マスクの交換時間が長くなり、露光作業の高速化が図れ
ない。

したがって、本発明の目的は、マスクアライナへのマス
クの着脱、交換を自動的に行なうことによって、マスク
への塵埃付着の防止およびマスク着脱、交換の作業時間
の短縮を図ることにある。

このような目的を達成するＬ−めに本発明は、マスク収
納用ケースを介してマスクの位置決めを可能としたマス
クホルダを利用するところにある。

第１図は本発明の一実施例によるマスクアライナの全体
構成を示す概要図である。同図の中央にはアライメント
機構１が示されている。このアライメント機構１の前面
にはプリアライメント機構２が配設されるとともに、そ
の左側にはプリアライメント機構２にウェハ３を供給す
るウェハローダ機構４が配設されている。また、アライ
メント機構１の左側には感光後のウェハ３を搬出するウ
ェハアンローダ機構５が配設されている。また、アライ
メント機構１の右側妬はマスクをアライメント機構１に
搬入、搬出するマスクローダアンローダ機構６が配設さ
れている。そして、前記ウェハローダ機構４によってカ
ートリッジ７からプリアライメント機構２にウェハ３が
運ばれ、このウェハ３はプリアライメント機構２上でそ
の姿勢を整えられる。所望の姿勢に修正されたウェハ３
はプリアライメント機構２のアーム８の先端吸着部９Ｖ
Ｃ真空吸着されるとともに１一定角度旋回してウェハ３
をアライメント機構１の後で説明するウェハチャック上
に搬送される。また、このウェハ３とマスクアライメン
ト機構１のマスク保持部１０に保］曝されるマスク１１
はマスクアライメント機構１によってアライメントされ
、その後両者は密着保持される。すると、マスクアライ
メント機構工の上方に配設される図示しない光学系から
なる露光機構が作動１〜で、マスク１１に所定時間光を
照射させ、ウェハ３の表面のホトレジストを部分的に感
光さぜる。その後、マスク１１とウェハ３の分離を図っ
た後、ウェハチャック上のウェハ３をエアコンベアを利
用してウエノ・アンローダ機構５のカートリフジ１２内
に搬出する。このように順次ウェハ３の感光を行ない、
所定枚数（１０ノド）の作業が行なわれると、マスクロ
ーダアンローダ機構６によってアライメント機構１のマ
スク保持部１０からマスク１１を抜き出す。また、必要
ならば、新たに他のマスクをマスク保持部１０に供給す
る。

つぎに、このようなマスクアライナの各部の機構につい
て説明する。ウェハローダ機構４およびウェハアンロー
ダ機構５はカートリッジ７．１２をたとえばねじ機構等
の一般公知の上下動機構によって上下圧ピッチ送りする
ようになっている。

また、ウェハローダ機構４の側方から上面に空気の噴射
孔を有するプレート】３が延び、このプレー）１３の先
端には第２図で示すように、円弧上に並んだ３個の位置
修正用ローラ１４と、これら位置修正用ローラド１から
離れた位置に設けられる位置決め用ローラ１５とが配設
され、これらのローラで形作る領域にプリアライメント
用テーブル１６が形成される。すなわち、プレート１３
の中央に沿ってカー　トリノジ７内のウェハ３をプリア
ライメント用テーブル１６に搬送する噴射孔列（図示せ
ず）を設けるとともに、この噴射孔列のエアー流の右側
に位置修正用ローラ１４を設け、左側に位置決め川口〜
２１５を配設する。そして、これらの位置修正用および
位置決め用ローラ１４゜１５の周面で搬送されてくるウ
ェハ３を停止させるとともに位置決めする。また、前記
位置修正用ローラ１４のＩ４り合う２個のローラは同一
方向に同速度で回転するが、残りの端のローラは反対方
向に同速度で回転するようになっている。また、中央の
ローラは両隣りのローラを結ぶ線よりも外側にわずかに
引っ込んでいる。そして、ウェハ３の弧状の周面の場合
には、全てのローラがウェハ３に接触するが、ウェハ３
のオリエンテーションフラノ）　（ＯＦ面）１７と呼ば
れる直線部の場合には、両端のローラのみがウェハ３の
０Ｆｉ１７に接触するようになっている。この結果、Ｏ
Ｆ面１７がローラに接触しているときは、２つのローラ
は互いに異なる方向に同速度で回転することから、ウェ
ハ３は互いに異なる回転方向に摩擦力を受ｋｉるが、回
転せず停止している。しかし、ウェハ３の円弧面が位置
修正用ローラ１４に接触すると、中央のローラによって
ウェハ３は回転するようになっている。このため、ウェ
ハ３はプリアライメント用テーブル１６．上にあっては
、０１１”面１７が常に位置修正用ローラＩ４に接触す
る状態で停止する。なお、２本の噴射孔列を設けると２
本の空気流のバランスが取りに＜＜、空気流のアンバラ
ンスによってウェハに回転力を与え易い。

そこで、本実施例のように、噴射孔列は１本設けること
が望ましい。また、空気の流れる方向と位置修正用ロー
ラ１４との配列関係は、空気の流れ方向と位置修正用ロ
ーラの位置のなす角が７５度程度であることが望ましい
。これによってウェハ３と位置修正用ローラ１４どの摩
擦が位置決め用ローラ１５との摩擦よりも大きくなって
、ウェハ３の０）゛面１７が位置決めローラ１５部で停
止１−なくなる。

そこで、プリアライメントテーブル１６上に姿勢を修正
された状態で載るウェハ３をアーム８を用いてアライメ
ント機構１のウェハチャック上に移送する。

つぎに、第３図〜第５図を用いてアライメント機構につ
いて説明する。機台のベース１８−ヒには平面Ｙ方向に
移動可能なスキャンＹテーブル１９および下面Ｘ方向に
移動可能なスキャンＸテーブル２０からなるスギャンテ
ーブルが設けられている。また、スキャンＸテーブル２
ｏの外周部には支柱２１が固定されるとともに、これら
の支柱２１上には」二部ベース２２が固定されている。

この−に１部ベース２２は中央が円形空間を有し、この
円形空間には上下面が平坦なドーナツ状のマスクホルダ
吸着固定板２３が嵌合固定されている。、このマスクホ
ルダ吸着固定板２３の上面には複数の吸着孔２４が設け
られ、マスクホルダ吸着固定板２３上に載置されるマス
クホルダ２５およびマスク１１を吸着固定するようにな
っている。また、スキャンＸテーブル２０内側上面には
枠状のアライメントＹテーブル２７．アライメントＸデ
ープル２８が順次積み重ねられ、平面ＸＹ方向に移動自
在のアライメントテーブルが形成されている。

また、前記アライメントＸテーブル２８の内１則下部に
は鍔部２９が設けられるとともに、この鍔部２９上には
ドーナツ状のリティナ３０が固定され、このリテイナ３
０上には鋼球３Ｊを介してドーナツ状の平面θ方向に移
動するアジイメントθチー＝−プル３２が取り付けられ
ている。また、このアライメントθテーブル３２の上面
には鋼球３３が配設されるとともに、これら鋼球３３は
その上面をアライメン）Ｘテーブル２８の上部に固定さ
れるドーナツ状の押え板３４で押えられているろまた、
前記アライメントθテーブル３２の内側には」＝下動機
構の筒状本体３５が固定されている。

この筒状本体３５の下面および上面は板ばね部３６を周
縁に形成するブロック３７がそれぞれ固定されている。

また、これらのブロック３７の中央部は管状の連結棒３
８で固定されている。また、下面側のブロック３７の下
面には皿状の蓋体３９が固定され、下面側のブロック３
７と蓋体３９との間に空間４０を形成している。また、
前記連結棒３８内には電気マイクロメータなどからなる
位置検出器４１が装着され、その検出端を下面のブロッ
ク３７を貫通させて蓋体３９の内壁面に臨ませている。

また、検出端を取り囲むように、シール４２が配設され
ている。また、空間４０には圧縮空気が入れられるよう
になっている。したがって、この空間４０に圧縮空気を
送り込むと、各ブロック３７０周＆ｙ　＆ばね部３６が
撓み、ブロック３７の中央部は上方に移動する。ところ
で、この空間４０における空気圧と板ばね部３６の変位
量は比例し７、このブロック上方に支持されるウェハが
マスクホルダ吸着固定板２３に固定されるマスクに接触
すると、板ばね部３６の比例定数が急激に変化すること
を利用して、マスクとウェハがわずかに接した位置を通
り、ウェハとマスク間隔を正確にコントロールするよう
になって（・る。

一方、前記上方のブロック３７」−には球面座受は板４
３が固定されるとともに、この球面座受は板４３上には
球面座４４を介してウェハチャック４５が取り付けられ
ている。このウェハチャ７り４５上面には吸着孔（図示
せず）が設けられ、ウェハチャック４５の上面にウェハ
３を真空成層するようになっている。また、ウェハ：３
とマスク１１の密着を図るために、上部のブロック３７
の外壁には支持板４６が固定され、この支持板４６には
ベロー４７が取り付けられるとともに、このベロー４７
．ブロック３７．マスクホルタ吸着固定板２３．マスク
１１等によって取り囲まれる空間４８内の空気を抜く空
気抜き孔４９がマスクホルダ吸着固定板２３に設けられ
ている。

また、上部ベース２２の一側上面にはエアベアリング機
構５（）を有するウェハアンローダ用テーブル５１が取
り付けられている。

また、ウェハチャック４５の上方にはマスクボルダ２５
の位置決めとガイドを行なうマスクホルダガイド板５２
が配設されている。このマスクホルダガイド板５２は第
１図および第５図に示すように、ピン５３を介して支持
片５４の一端部に取り付けられている。また、この支持
片５４の他端部もピン５５を介して支持部５６に取り付
けられている。そして、第４図に示すように、上部ベー
ス２２内に内蔵されるエアシリンダ５７知よって一ト昇
（たとえば１ＱＷｉ・）するよう（死なっている。

この際、支持片５４０２箇所のピン５３．５５部分で回
動するため、マスクホルダガイド板５２は水平状態を保
ってト昇するようになっている。そして、このマスクホ
ルダガイド板５２の一ト昇時にウェハ３およびマスク１
１のローディング、アン口・−ディングが行なわｆする
よ５になっている。また、前記支持片５４はピン５３．
５５の内側で互いに異なる方向から平行に切り込みが入
れられ、Ｓ字形形状となるとともに、中火部カー薄く形
成さればね部５８を形成している。このため、マ、スフ
ホルダガイド板５２は左右にも押れるどとができ、ウェ
ハ３とマスク１１の密着化が可能となっている。

また、マスクボルダガイド板５２は第４図および第５図
で示すように、中央がほぼ円形状に抜けるとともに、下
部は対面して２列に支持ローラ５９が配設されている。

そして、これらの支長ローラ５９上に第６図で示すよう
なマスクホルダ２５がその両端部を載せて移動するよう
になっている。また、このマスクホルダ２５の侵入は一
方向からに限り、侵入して第４図に示すような口・−ラ
からなるストッパ６０で停止する。゛まだ、マスクホル
ダ２５はその側方を２個の煎れたローラ６　Ｊ、　、　
６２で却１定されるとともに、これらローラ６１．６２
およびストッパ６０にマスクホルダ２５が接触するよう
に、ピン６３を介してマスクホルダガイド板５２に回動
可能に取り付けられがつローラ部６４でマスクホルダ２
５の角部をｔｉｌｌ　ス押え板６５が設けられている。

また、押え板６５はエアシリンダ６６によって操作され
るようになっている。また、前記ローラ６１，６２は一
本の連結棒６７に取り付けられるとともに、この連結棒
６７の中央部はピン６８でマスクホルダガイド板５２に
取り付けられるとともに、一端はマスクホルダガイド板
５２にねじ込まれるマスクの回転方向調整用の調整棒６
９の先端に接触している。

したがって、この調整棒６９を回転操作すると調整棒６
９は前後進するため、ローラ６１，６２の位置が変化し
てマスクホルダ２５の回転方向の位置が調整される。

つぎにマスクホルダについて第６図〜第８図を参照しな
がら説明する。マスクホルダ２５は中央が円形にくり抜
かれた枠状となるとともに、第８図で示すように、下面
両端は一段低く窪み、スライド面７０を有している。ま
た、このスライド面７００反対側は部分的に上方に突出
し、これら突出部７１を挟む中央部は低く形成され、こ
の部分にマスク固定機構が配設されている。また、この
マスクホルダ２５の中央部にはマスク１１が載置され、
一端（第６図中左端）にはストッパ７２が取り付けられ
て（・る。また、隣りの上端には２本のマスク位置決め
ピン７３が植設されている。また、第６図中下端となる
位置の突出部７１の内壁には板ばね７４が固定され、こ
の板ばね７４でマスク１１の角部を押し、マスク１１を
ストソノく７２およびマスク位置決めピン７３に押し付
けるようになっている。また、この板ばね７４の調整は
、板ばね７４の先端屈曲部７５の近傍にピン７６によっ
て回動自在に取り付けられる円形の駆動カム７７によっ
て行なわれる。この駆動カム７７の一部周面は平坦に切
り欠かれ、この平用部７８が屈曲部７５に臨むと、板は
ね７４はその弾力によってマスク１］の角部を押圧し、
駆動カム７７に固定された操作摘み７９を操作して駆動
カム７７を回動して、円弧状局面を屈曲部７５に接触さ
せると、板ばね７４は反り返り、マスクの角部−＼の押
し付けは解放される。また・これらストッパ７２９位置
決めピン７３．板ばね７４によつて規定されるマスク１
１が上方（ｌこ浮き上がらないように、右上方および左
下方の隅部に目、マスク浮き上がり防止用の押え具８１
）が取り伺けられている。この押支具８０は突出部７１
の内壁に取り付けられたピン８１に一端を回動自在に取
り付けられる板ばね片８２からなっている。この板ばね
片８２の先端部は上方からマスク１１を押圧するように
なっている。また、板ばね片８２のマスク１１から外れ
る側面には板ばねかもなる細い板のロック片８３が固定
されている。このロック片８３はマスクホルダ２５の上
面に沿う方向に弾力的に変形するとともに、上部に一段
太くなる頭部８４を有するマスクホルダ２５上面に設け
られるピン８５に引っ掛るようになっている。この引掛
力は板ばね片８２の上方への復元力によるピン８５の頭
部８４の下端面との摩擦によって生じる。ｌ〜たがって
、この押え具８０の操作はロック片８３を持ってピン８
１を中心に下方に回動させながら板ばね片８２の先端で
マスク１１を押えるとともに、ロック片８３の先端をピ
ン８５０頭部８４の下方に入り込ませ、板ばね片８２の
復元力によってロック片８３の先端をピン８５０頭部８
４に引っ掛るようになっている。また、マスク１１の固
定を解消する場合には、ロック片８３をピン８５がら外
した後に板ばね片８２を上方に回動させることによって
行なう。

また、マスクホルダ２５のマスク載置領域には真空吸着
用の孔２６が設けられている。この孔２６はマスクホル
ダ２５をマスクホルダガイド板５２内に入れ、マスクホ
ルダガイド板５２を一段下げてマスクホルダ２５をマス
クホルダ吸着固定板２３上に載置した際、吸着孔２４に
よる真空吸着をこの孔２６を利用してマスク１１をも□
真空吸着するものである。また、マスクホルダ２５の上
面にはアライメント中のマスクの固定力を増すために真
空吸着用揮み８６が設けられている。また、マスクホル
ダ２５の下面には２条の窪み溝８７が設けられている。

この窪み溝８７は第５図で示すように、マスクホルダ吸
着固定板２３上に２列にばね８８を介して設けられたガ
イドピン８９に当接しないように設けられている。これ
らガイドビン８９はウェハ３がアンローディングされる
際、確実にウェハアンローダ用テーブル５１に進むよう
に設けられてなるものである。

また、マスクホルダ２５の右端にはブツシャフック受け
９０が設けられている。このブツシャフック受け９０は
第６図および第７図に示すように、２段の段付孔９１を
有している。そして、マスクホルダの内側が径の大きな
長孔となり、外側の挿し込み側が径の小さな長一孔とな
っている。そして、第１図に示すような、マスクローダ
アンローダ機構６のシリンダ機構９２からなるブツシャ
９３の先端がさらに段伺（（９１内に突出するようにな
っている。また、このブツシャ９３は９０度に反転する
ようになるとともに、ブツシャ９３の先端には側方に突
部９４を有している。この突部９４は横方向に突出して
いる状態のとき段付孔９１に入ることができ、下方に向
いて（・るときは、段付孔９１の小径孔の縁および、マ
スクホルダ２５に設けた引掛用孔９５（第６図参照）の
縁に尚たるようになっている。このため、マスクホルダ
２５のローディング時には突部９４が引掛用孔ｑ５の縁
を押すようにしてマスクホルダ２５を前進させ、アンロ
ーディング時には突部９４で段付上９１の小径部の縁を
引っ掛るようにＩ〜でマスクホルダを後退させるように
なっている。また、段付孔９１へのブツシャ９３の挿脱
はブツシャ９３の９０度反転による突部９４を横方向に
した状態のとき行ナウ。また、マスクホルダ２５のロー
ディング。

アンローディング時にはマスクホルダ２５は図示しない
カートリッジに互いに離才１て債み重ねらオ′ｌるよう
にして収容され、ブツシャ９３の前後進によってカート
リッジとアライメント機構１との間をガイドレール９６
に沿って移動するようになっている。

他方、マスクホルダガイド板５２手力にはアライメント
用スコープ９７が配設され、このアライメント用スコー
プ９７でマスクとウェハのアライメントを行なうように
なっている。また、マスクホルダガイド板５２の上方に
は図示しない露光機構が配設され、所望時、露光できる
ようになっている。

マタ、ウェハアンローダ用テーブル５１かも送り出され
たウェハ３はウェハアンローダ機構のカートリッジ１２
に収容される。このカー　トリツク１２はウェハローダ
機構４のカートリッジ７と同様な構造となり、上下にピ
ッチ送りできるようになっている。また、これらのカー
トリッジ７゜１２および各種テーブル等の動きは主とし
てパルスモータによって行なわれる。

このような゛ンスクアライナによれば、マスクホルダガ
イド板５２を上昇させた状態でマスクローダアンローダ
機構６によってマスク１１をアライメント機構１に供給
し、その後、ウェハローダ機構４でカー　トリツク７か
らウェハ３を出してプリアライメント機構２のプリアラ
イメント用テーブル１６上に移動させ、位置修正用ロー
ラ１４および位置決め用ローラ１５によってウェハ３の
姿勢を修正する。つぎに、アーム８の先端の吸着部９で
ウェハ３を吸着保持した後、アーム８を揺動させてウェ
ハ３をアライメント機構１のウェハチャック４５上に載
置するとともに、ウニハコ３を真空吸着機構によってウ
ェハチャック４５上に固定する。その後、マスクホルダ
ガイド板５２を下降させて、マスクホルダ２５をマスク
ボルダ吸楕固定板２３上に置き、吸着孔２４および孔２
Ｇを利用してマスク１１およびマスクホルダ２５をマス
クホルダ吸着固定板２３に固定する。

つぎに、空間４ｏ内に圧縮空気を流入させてウェハチャ
ンク４５を上昇させてウェハ３をマスク１１に密着させ
る。この際、空気抜き孔４９を利用して空間４８内の空
気を抜きマスク１１とウェハ３のホトレジスト塗布面の
密着化を図り、その後、空間４０内への圧縮空気の供給
を停止してウェハチャック４５を数＋ｉｉ　ｍ降下させ
、アライメントテーブルおよびスキャンデープルを移動
させてマスクのパターンとウェハのバタ　ンを−・致さ
せる。アライメントが終了すると、再びウエハグヤソク
４５を上昇させてウェハ３とマスク１１の密着化を図っ
た後、露光機構を動作さぜ゛Ｃ，ウェ・・３の上面ホト
レジスト層を部分的に感光させる。

感光後はウェハチャック４５を下降させ、マスクホルダ
ガイド板５２を上昇させるとともに、ウェハの密着保持
を停止し、逆にウェハを空気でウェハアンローダ用テー
ブル５１方向に送り、カートリッジ１２内に収容する。

つぎに、また前記手順によって、ウェハローダ機構４の
カートリッジ７から新たなウェハ３を送り出１．、同様
にウェハの露光を行なう。このように、順次ウェハの熱
光を行ない１０ツトの作業が終ｒしたら、マスクローダ
アンローダ機構６によってマスク１１をマスクホルダ２
５のままマスクホルダガイド板５２から取り外すととも
に、っぎの作業のために、他のマスクをローディングス
ル。

コノように、この実施例によれば、マスクのローディン
グ、アンローディングは機械で自動的に行なうので、極
めて作業性がよい。また、マスクはほとんど人手に触れ
られることなくローディング、アンローディングが成さ
れることから、作業者の移動も少なく、塵埃の舞い上が
りも従来（（較べて遥かに少なくなり、マスクの汚染も
少なくすることができる。

なお、本発明は前記実施例に限定されない。また、本発
明は液晶、薄膜回路素子等の製造にも利用できる。

以上のように、本発明のマスク取り扱い装置によれば、
マスクアライメント部分へのマスクの着脱、交換は自動
的に行なうことができるので、マスクが汚染されないば
かりか、その作業性をも高めることができる。したがっ
て、安価で信頼性の高い半導体素子等を作ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例によるマスクアラ・イナの各
部を示す概要説明図、第２図は同じくプリアライメント
機構の平面説明図、第３図は同じくマスクアライメント
機構の正面断面図、第４図は同じくマスクアライメント
機構のイ面図、第５図は同じくマスクアライメント機構
の一部側面断面図、第６図は同じくマスクホルダの平面
図、第７図は同じくマスクホルダの一部側面図、第８図
け第６図の■−■線に沿う断面図である。 １・・・アライメント機構、２・・・プリアライメント
機構、３・・・ウェハ、４・・・ウェハローダ機構、５
・・・ウェハアンローダｌ、６・・・マスクロータアン
ローダ機構、７・・・カー　トリノジ、８・・・アーム
、９・・・吸着部、■０・・・マスク保持部、１１・・
・マスク、１２カー　トリソジ、１３・・・プレート、
１４・・・位置修正用ローラ、１５・・・位置決め用ロ
ーラ、１６・・・プリアライメント用デープル、】７・
・・オリエンテーションフラット、１８・・・ベース、
１９・・・スキャンＹテーブル、２０・・・スキャノＸ
テーブル、２１・・・支柱、２２・・・上部ベース・２
ト・・マスクホルダ吸着固定板、２４・・・吸着孔、２
５・・・マスクホルダ、２６・・・孔、２７・・・アラ
イメント）゛デープル、２８・・・アライメントＸテー
ブル、２９・・・１６　部、３０・・・＋）　ｆイナ、
３１・・・銅球、３２・・・アライメントθテーブル、
３３・・・銅球、３．１・・・押え板、３５・・・筒状
本体、３６・・・板ばね部、３７・・・プ【マスク、３
８・・・連結棒、３９・・・蓋体、４０・・・空間、４
１・・・位置検出器、４２・・・シール、４３・・・球
面床受は板、４４・・・球面座、４５・・・ウェハチャ
ック、４６・・・支持板、４７・・・ベロー、４８・・
・空間、４９・・・空気抜き且、５０・・・エアベアリ
ング機構、５１・・・ウェハアンローダ用テーブル、５
２・・・マスクホルダガイド板、５３・・・ビン、５４
・・・支持片、５５・・・ビン、５６・・・支持部、５
７・・・エアシリンダ、５８・・・ばね部、５９・・・
支持ローラ、６０・・・ストッパ、６１．６２・・・ロ
ーラ、６３・・・ビン、６４・・・ローラ部、６５・・
・押え板、６６・・・エアシリンダ、６７・・・連結棒
、６８・・・ビン、６９・・・調整体、７０・・・スラ
イド面、７１・・・突出部、７２・・・ストッパ、７３
・・・マスク位置決めビン、７４・・・板ばね、７５・
・・屈曲部、７６・・・ビン、７７・・・駆動カム、７
８・・・平坦部、７９・・・操作摘み、８０・・・押え
具、８１・・・ビン、８２・・・板ばね片、８３・・・
ワソーク片、８４・・・頭部、８５・・・ビン、８６・
・・真空吸着用窪み、８７・・・窪み溝、８８・・・ば
ね、８９・・・ガイドビン、９０・・・ブツシャフック
受け、９１・・・段付孔、９２・・・シリンダ機構、９
３・・・ブツシャ、９４・・・突部、９５・・・引掛用
孔、９６よガイドレール、９７・・・アライメント用ス
コープ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ■　マスクを収納するためのマスク　ケースに対してマ
   スクの収納位置が位置決めされたマスク・ケースを用い
   て、マスクのロードおよびアンロードを行なうことを特
   許とするマスク取り扱い装置。