JPS5916385B2 - イオン源 - Google Patents

イオン源

Info

Publication number
JPS5916385B2
JPS5916385B2 JP52041281A JP4128177A JPS5916385B2 JP S5916385 B2 JPS5916385 B2 JP S5916385B2 JP 52041281 A JP52041281 A JP 52041281A JP 4128177 A JP4128177 A JP 4128177A JP S5916385 B2 JPS5916385 B2 JP S5916385B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
ion source
terminal end
ions
electric field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52041281A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS52125998A (en
Inventor
ロイ・クラムピツト
デレク・カ−ク・ジエフリズ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
YUNAITETSUDO KINGUDAMU ATOMITSUKU ENAAJI OOSORITEI
Original Assignee
YUNAITETSUDO KINGUDAMU ATOMITSUKU ENAAJI OOSORITEI
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by YUNAITETSUDO KINGUDAMU ATOMITSUKU ENAAJI OOSORITEI filed Critical YUNAITETSUDO KINGUDAMU ATOMITSUKU ENAAJI OOSORITEI
Publication of JPS52125998A publication Critical patent/JPS52125998A/ja
Publication of JPS5916385B2 publication Critical patent/JPS5916385B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/26Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、イオン源に係り、特に単1尖端の金属イオン
源に係る。
本発明によれば、イオン源によってイオン化電圧される
液体物質によって完全に湿らされ(濡らされ)且つこの
物質によっては腐食され得ない様な材料で作られた少(
とも1つの本体から成る電極であって、上記液体物質の
噴射が電界の作用の下で該電極の終端を形成し且つ該終
端に固定(係留)される様な曲率半径をした終端を持っ
た電極と、イオン化電界を与える手段と、イオン源によ
シイオンが射出される上記物質の貯蔵部とを備えたイオ
ン源が提供される。
上記電極は、単1の尖端付き本体でもよいし。
尖端付き本体の配列体でもよいし、或いは又噴射が形成
される七ころの終端を与える様に1つの縁が鋭くされた
板材でもよい。
電極が板材である場合には“噴射“とい5語はイオン源
によってイオンが射出されるところの液体物質の層であ
って板材の縁に沿って形成される層に適用するものとし
、イオン化電界の作用の下でこの層の外縁に形成される
個々の先端には適用しない。
本発明によれば、その特別の観点に於いては。
イオン源によってイオンが射出される液体物質ニよって
完全に湿らされ且つこの物質によっては腐食され得ない
様な材料で作られた電極であって。
イオン源によりイオンが射出される液体物質の単1噴射
のみがイオン化電界の作用の下で該電極の頂点を形成し
且つ該頂点に固定される様な曲率半径をした頂点を持っ
た電極と、上記イオン化電界を与えるための手段と、イ
オン化される上記液体物質の貯蔵部とを具備した単1尖
端のイオン源が提供される。
上記液体物質は溶融金属でありそして上記貯蔵部は上記
電極を包囲したシースな具備するのが好ましい。
金属に熱を供給して金属を溶融状態に保つための手段も
設けられている。
電極を形成するのに色々な材料を使用することができ1
例えば電極は金属、ガラス又は磁器材で形成することが
できる。
電極はイオン源によって射出される物質によって腐食さ
れてはならず、そして電極の表面に形成される液体物質
のフィルムが常に均一厚みである様にするため電極は液
体物質によって完全に湿らされねばならないといり条件
がある。
又、貯蔵部が電極を包囲するシースである時には、電極
の終端は液体物質により形成された凹凸が電極終端への
液体物質の供給を妨げない様な量だけシースから突出し
とければならない。
一方%電極は電極終端への液体物質の供給に不規則性を
生じさせる様な量まで突出してはならない1実際には突
出量が0.1乃至0.2 cmの範囲内になければなら
ないという事がわかっている。
電極の終端の曲率半径は、安定且つ強力なイオン射出に
対する本質的な前兆であるところの液体物質の噴射を電
極の終端に電界により形成し且つそこに固定するといり
必要性によって下限が制御されそして電極の終端に1つ
の噴射のみが形成される様にする必要性によって上限が
制御される様な範囲になければならない。
実際にはこの範囲は1乃至10μmであるとわかってい
る。
電極の厚みは厳密なものではない。
電極が1つ或いはそれ以上の尖端付き本体で作られる場
合には1機械的な安定性、製造及び処理の容易さのため
にはソ100μmより大きな直径が満足である。
以下添付図面を参照して本発明を例として詳細に説明す
る。
さて第1図を参照すれば、リチウムイオンを発生するた
めの単1尖端源は約100μmの直径を持った中央のタ
ングステンワイヤ電極1から成るこの電極1は、中空で
な(中実であって尖端が付けられそして約5μmの曲率
半径の頂点2を有している。
電極1はこれ又タングステンで作られたチューブ3によ
って包囲され、該チューブから約0、1 cmだけ電極
1が突出している。
チューブ3の直径は150μmであり、そして電極1と
チューブ3の内壁4との間のスペースはこのイオン源に
よってイオンが射出される溶融リチウム金属5の貯蔵部
として働(。
電極がリチウム5によって完全に湿らされる様にするた
め、チューブ3にリチウムを充填する前に、この組立て
られた源が、水素を流した雰囲気内でこれを加熱するこ
とによって浄化される。
使用中はこのイオン源の温度がリチウムの融点のすぐ上
の温度に保持される。
リチウムをイオン化するのに要する電界は電極1とその
近くの穴付き電極6との間で発生される。
通常はイオン化電圧が電極1に印加される。
さて第2図を参照すれば1本発明による別のアルカリ金
属イオン源は厚みがはソ100μmで且つ長さが約5c
WLのタングステン板の形態の電極21を備えている。
電極21の縁22は約5μmの横方向の曲率半径まで鋭
(される。
か\る曲率半径は液体アルカリ金属の層を電極21の縁
22に形成せしめる。
イオン化電界の作用の下でこの層の縁は多数の先端に形
成される。
電極21はこれ又タングステンで作られたシース23に
よって包囲され、そしてそこからは譬0.1cmりは突
出される。
シース23ははソ25μmのギャップによって電極21
から分離され、このイオン源によりイオンが射出される
アルカリ金属の貯蔵部を与える。
アルカリ金属をイオン化するのに要する電界は前記第1
の実施例について既に述べたのと同様に電極21とその
付近の穴付き電極24との間で発生される。
又、前記した様に、使用中は、関連アルカリ金属の融点
のすぐ上の温度でこのイオン源が作用される。
さて第3図を参照すれば、電極が別々のタングステンワ
イヤの配列体31から成り、各ワイヤが前記第1の実施
例に関して説明したものと同様である様な本発明のも5
1つの実施列が示されている。
タングステンワイヤの配列体31はタングステンシース
32によって包囲されている。
前記しり様に、W極31を形成するワイヤはほぼ0.1
cmだけシース32から突出しており、そしてこのイ
オン源によってイオンが射出されるところのアルカリ金
属の貯蔵部を与えるためにシース32と電極31との間
にははゾ25μmのギャップがある。
必要なイオン化電界を発生できる様にするため。
ここでも電極31の付近に穴付き電極33が設けられて
おり、そしてこのイオン源はこれによってイオンが射出
されるアルカリ金属の融点のすぐ上の温度で作動される
上記で説明した全ての実施例に於いては、イオン源によ
ってイオンが射出される金属が液状にある様にするため
に付加的な加熱を与えることが必要である。
これは電気適に行なわれるのが便利である。
上記したイオン源によって発生されたイオンビームは適
当に設置され且つ適当な形状にされた電極を組合わせる
事によってコリメートでき、再集束でき、さもな(ば方
向付けできる。
特にリチウムイオンのそして一般的にアルカリ金属イオ
ンの射出に関してイオン源を説明したが1湿らし性(濡
らし性)及び耐腐食性の2つの条件が満足されるならば
、か\るイオン源を他の物質に対して用いることができ
る。
例えば、アルミニウム又はシリコンのイオンを発生する
のにガラス質炭素の表面を持った電極を用いることがで
き。
或いは又ニッケルイオンを発生するのに酸化アルミニウ
ム表面を持った電極を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による単1尖端のイオン源を示す断面図
、第2図は本発明の別の実施例を示す図。 第3図は本発明の第3の実施例を示す図である。 1・・・・・・タングステンワイヤ電極、2・・・・・
・頂点。 3・・・・・・チューブ、5・・・・・・溶融リチウム
金属、6・・・・・・穴付き電極、21・・・・・・電
極、22・・・・・・縁、23゜32・・・・・・シー
ス、31・・・・・・タングステンワイヤ配列体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 イオン源によってイオンが射出される液体物質で完
    全に湿らされ且つ該物質では腐食され得ないような材料
    で作られた中実の電極であって、前記液体物質の噴射が
    電界の作用の下で該電極の終端を形成し且つ該終端に固
    定されるような曲率半径をした終端を持った中実電極と
    、該中実電極の下方部分のまわりに設けられ前記液体物
    質が前記電極の表面上に沿って連続膜として前記終端へ
    供給されるよ5にする液体物質の貯蔵部と、前記中実電
    極の上方で且つその中実電極の前記終端の付近を取り囲
    む穴を有した穴付き電極と、前記中実電極と前記穴付き
    電極との間にイオン化電圧を印加して前記電界を作りだ
    す手段とを備えることを特徴とするイオン源。
JP52041281A 1976-04-13 1977-04-11 イオン源 Expired JPS5916385B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB000000015111 1976-04-13
GB15111/76A GB1574611A (en) 1976-04-13 1976-04-13 Ion sources

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS52125998A JPS52125998A (en) 1977-10-22
JPS5916385B2 true JPS5916385B2 (ja) 1984-04-14

Family

ID=10053248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52041281A Expired JPS5916385B2 (ja) 1976-04-13 1977-04-11 イオン源

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4088919A (ja)
JP (1) JPS5916385B2 (ja)
DE (1) DE2716202A1 (ja)
FR (1) FR2348562A1 (ja)
GB (1) GB1574611A (ja)
NL (1) NL183554C (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6417190U (ja) * 1987-07-22 1989-01-27

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2805273C3 (de) * 1978-02-08 1982-03-18 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Einrichtung zum Erzeugen eines Strahles beschleunigter Ionen durch Kontaktionisation
US4328667A (en) * 1979-03-30 1982-05-11 The European Space Research Organisation Field-emission ion source and ion thruster apparatus comprising such sources
JPS5633468A (en) * 1979-08-23 1981-04-03 Atomic Energy Authority Uk Spray generating source of fine droplet and ion of liquid material
JPS56112058A (en) * 1980-02-08 1981-09-04 Hitachi Ltd High brightness ion source
US4318029A (en) * 1980-05-12 1982-03-02 Hughes Aircraft Company Liquid metal ion source
US4318030A (en) * 1980-05-12 1982-03-02 Hughes Aircraft Company Liquid metal ion source
FR2510305A1 (fr) * 1981-07-24 1983-01-28 Europ Agence Spatiale Reservoir pour source ionique a emission de champ, notamment pour propulseur ionique a applications spatiales, et procede de fabrication d'un tel reservoir
JPS5830055A (ja) * 1981-08-18 1983-02-22 New Japan Radio Co Ltd イオンビ−ム源
JPS5838906B2 (ja) * 1981-09-03 1983-08-26 日本電子株式会社 金属イオン源
JPS5878557U (ja) * 1981-11-24 1983-05-27 株式会社日立製作所 電界放出型イオン源
JPS58137941A (ja) * 1982-02-10 1983-08-16 Jeol Ltd イオン源
GB2115604B (en) * 1982-02-22 1986-06-11 Atomic Energy Authority Uk Liquid metal ion sources
JPS58163135A (ja) * 1982-03-20 1983-09-27 Nippon Denshi Zairyo Kk イオン源
JPS58178944A (ja) * 1982-04-14 1983-10-20 Hitachi Ltd イオン源
US4629931A (en) * 1984-11-20 1986-12-16 Hughes Aircraft Company Liquid metal ion source
JPS60138831A (ja) * 1984-11-30 1985-07-23 Hitachi Ltd 荷電粒子源
US4638210A (en) * 1985-04-05 1987-01-20 Hughes Aircraft Company Liquid metal ion source
DE3677062D1 (de) * 1985-06-04 1991-02-28 Denki Kagaku Kogyo Kk Quelle geladener teilchen.
JPS61211937A (ja) * 1985-11-15 1986-09-20 Hitachi Ltd 電界放出型イオン源
US4731562A (en) * 1986-05-27 1988-03-15 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Electrohydrodynamically driven large-area liquid ion sources
DE3817604C2 (de) * 1987-05-27 2000-05-18 Mitsubishi Electric Corp Ionenstrahlgenerator
DE3845007C2 (de) * 1987-05-27 2000-09-28 Mitsubishi Electric Corp System zur Herstellung von Dünnschichten mittels eines Ionenstrahlgenerators
US5153901A (en) * 1988-01-06 1992-10-06 Jupiter Toy Company Production and manipulation of charged particles
US5123039A (en) * 1988-01-06 1992-06-16 Jupiter Toy Company Energy conversion using high charge density
DE3817897A1 (de) * 1988-01-06 1989-07-20 Jupiter Toy Co Die erzeugung und handhabung von ladungsgebilden hoher ladungsdichte
CA1330827C (en) * 1988-01-06 1994-07-19 Jupiter Toy Company Production and manipulation of high charge density
US5054046A (en) * 1988-01-06 1991-10-01 Jupiter Toy Company Method of and apparatus for production and manipulation of high density charge
US5018180A (en) * 1988-05-03 1991-05-21 Jupiter Toy Company Energy conversion using high charge density
US5584740A (en) * 1993-03-31 1996-12-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Thin-film edge field emitter device and method of manufacture therefor
US5727978A (en) * 1995-12-19 1998-03-17 Advanced Micro Devices, Inc. Method of forming electron beam emitting tungsten filament
EP1622184B1 (en) * 2004-07-28 2011-05-18 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Emitter for an ion source and method of producing same
DE102007027097B4 (de) * 2007-06-12 2010-12-30 Forschungszentrum Dresden - Rossendorf E.V. Flüssigmetall-Ionenquelle zur Erzeugung von Lithium-Ionenstrahlen
AT506340B1 (de) * 2008-01-25 2012-04-15 Fotec Forschungs & Technologi Verfahren zur herstellung einer ionenquelle
US8453426B2 (en) * 2009-04-06 2013-06-04 Raytheon Company Current controlled field emission thruster
US11295925B2 (en) * 2019-07-23 2022-04-05 Param Corporation Electron gun device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3122882A (en) * 1960-11-23 1964-03-03 Aerojet General Co Propulsion means
US3475636A (en) * 1967-11-14 1969-10-28 Hughes Aircraft Co Liquid-metal arc cathode with maximized electron/atom emission ratio
US3852595A (en) * 1972-09-21 1974-12-03 Stanford Research Inst Multipoint field ionization source
GB1442998A (en) * 1973-01-24 1976-07-21 Atomic Energy Authority Uk Field emission ion sources
DE2333866A1 (de) * 1973-07-03 1975-01-23 Max Planck Gesellschaft Felddesorptions-ionenquelle und verfahren zu ihrer herstellung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6417190U (ja) * 1987-07-22 1989-01-27

Also Published As

Publication number Publication date
US4088919A (en) 1978-05-09
NL7703981A (nl) 1977-10-17
JPS52125998A (en) 1977-10-22
DE2716202A1 (de) 1977-11-03
NL183554C (nl) 1988-11-16
GB1574611A (en) 1980-09-10
FR2348562A1 (fr) 1977-11-10
NL183554B (nl) 1988-06-16
FR2348562B1 (ja) 1982-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5916385B2 (ja) イオン源
US4328667A (en) Field-emission ion source and ion thruster apparatus comprising such sources
US4900974A (en) Ion source
Petersson et al. New sheathless interface for coupling capillary electrophoresis to electrospray mass spectrometry evaluated by the analysis of fatty acids and prostaglandins
KR830009668A (ko) 코로나충전 장치 및 방법
US5936251A (en) Liquid metal ion source
JPS58178944A (ja) イオン源
JPS5911400Y2 (ja) 電界放射型イオン源
JPS6084744A (ja) 熱陰極
JPH1064438A (ja) 液体金属イオン源
JPS60249234A (ja) 液体イオン源
Clampitt et al. Improvements in or relating to ion sources
JP2002327262A (ja) 蒸着源並びに薄膜形成方法及び注入方法
JPS6129041A (ja) 電界放出形液体金属イオン源
JPS5911401Y2 (ja) 電界放射型イオン源
JPS59101750A (ja) 液体金属イオン源
US3602760A (en) Sintered coaxial plasma gun
JPS61214330A (ja) 液体金属イオン源
JPS62216136A (ja) 液体金属イオン源
Zemskov et al. Investigation of Changes in the Field Emission Characteristics of the Eroded Cathode Surface after Submicrosecond Vacuum Arc Discharges with Different Current Amplitudes
JPS58137940A (ja) イオン源
JPS63198236A (ja) 液体金属イオン源
JPS6134833A (ja) 液体金属イオン源
JPS6345734Y2 (ja)
JPS6329373B2 (ja)