JPS59157098A - １０，１１−ジヒドロ−２３−デマイシノシル−２３−デオキシ−１１，２３−ビス（フエニルチオ）−デスマイコシン - Google Patents
１０，１１−ジヒドロ−２３−デマイシノシル−２３−デオキシ−１１，２３−ビス（フエニルチオ）−デスマイコシンInfo
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- JPS59157098A JPS59157098A JP58031500A JP3150083A JPS59157098A JP S59157098 A JPS59157098 A JP S59157098A JP 58031500 A JP58031500 A JP 58031500A JP 3150083 A JP3150083 A JP 3150083A JP S59157098 A JPS59157098 A JP S59157098A
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なデスマイコノン（４′−デマイカロプル
タイロ／ン）誘導体およびその製法に関する。さらに詳
しくは、式 で表わされる化合物、即ち１０，１１．−７ヒドロー２
３−テマインノシルー２３−チオキシ−１１゜２３−ビ
ス（フェニルチオ）−テスマイコ７ノ寸たはその塩であ
る。本発明は、丑だ式 Ｒ１１およびＲ１□は各々低級アルキル基を示し、Ｒ２
は水酸基の保護基を示す）で表わされる化合物に含水有
機溶媒中、弱アルカリ性条件下でチオフェノールを反応
させて、式 （式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味を有する）る
式〔１〕で表わされる化合物またはその塩の製造法も包
含される。
タイロ／ン）誘導体およびその製法に関する。さらに詳
しくは、式 で表わされる化合物、即ち１０，１１．−７ヒドロー２
３−テマインノシルー２３−チオキシ−１１゜２３−ビ
ス（フェニルチオ）−テスマイコ７ノ寸たはその塩であ
る。本発明は、丑だ式 Ｒ１１およびＲ１□は各々低級アルキル基を示し、Ｒ２
は水酸基の保護基を示す）で表わされる化合物に含水有
機溶媒中、弱アルカリ性条件下でチオフェノールを反応
させて、式 （式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味を有する）る
式〔１〕で表わされる化合物またはその塩の製造法も包
含される。
上記の塩としては医薬上許容できる塩である。
このような適当な塩としては、塩酸、硫酸、リン酸など
の無機酸との塩、酢酸、グロピオン酸、酒石酸、クエン
酸、コハク酸、リンゴ酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸などの有機酸との塩が包含される。その他の非毒性塩
も包含される。
の無機酸との塩、酢酸、グロピオン酸、酒石酸、クエン
酸、コハク酸、リンゴ酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸などの有機酸との塩が包含される。その他の非毒性塩
も包含される。
上記の新規化合物〔１〕は、ダラム陽性菌に対して既知
のエリスロマイ／ン、タイロシンよりも強い抗菌活性を
有するばかりでなく、耐性菌に対しても強い抗菌活性を
有しており、生体内でも安定であるので、臨床上優れた
感染治療効果の期待される抗菌剤である。また、動物用
感染治療剤、感染予防あるいは生育促進のだめの飼料添
加剤としても有用である。
のエリスロマイ／ン、タイロシンよりも強い抗菌活性を
有するばかりでなく、耐性菌に対しても強い抗菌活性を
有しており、生体内でも安定であるので、臨床上優れた
感染治療効果の期待される抗菌剤である。また、動物用
感染治療剤、感染予防あるいは生育促進のだめの飼料添
加剤としても有用である。
本発明で使用される出発物質〔６〕は、式て表わされる
化合物、即ち２３−デマイ／ノフルテス’ｖイ：＋ ’
ｙ ン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ 、
４７３７（１９７０））をその２′位および４′位の
水酸基を適当な保護基で保護し、場合によりさらにその
アルデヒド基をアセタール化により保護した式（式中、
Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味を有する化合物を式 ％式％） （式中、Ｉｔ３はトリル基寸たはニトロフェニル基、Ｘ
は・・ロゲン原子を示す）で表わされるスルホニルハラ
イドで２３位の水酸基をスルホニル化し、得られた式 （式中、ＲＩＸＲ２およびＲ３は前記と同じ意味を有す
る）で表わされるスルホニル化合物をチオフェノールと
反応させることにより得られる（特願昭５７−２０７９
５０号）。
化合物、即ち２３−デマイ／ノフルテス’ｖイ：＋ ’
ｙ ン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ 、
４７３７（１９７０））をその２′位および４′位の
水酸基を適当な保護基で保護し、場合によりさらにその
アルデヒド基をアセタール化により保護した式（式中、
Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味を有する化合物を式 ％式％） （式中、Ｉｔ３はトリル基寸たはニトロフェニル基、Ｘ
は・・ロゲン原子を示す）で表わされるスルホニルハラ
イドで２３位の水酸基をスルホニル化し、得られた式 （式中、ＲＩＸＲ２およびＲ３は前記と同じ意味を有す
る）で表わされるスルホニル化合物をチオフェノールと
反応させることにより得られる（特願昭５７−２０７９
５０号）。
」二記の保護基としては、アセチル、プロピオニル、ブ
チリルなどの低級アルカノイル基、クロ２０アセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロ
アセチルなとのノ・ロケン化アセチル基などが挙げられ
るが、特にアセチル基が好ましい。
チリルなどの低級アルカノイル基、クロ２０アセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロ
アセチルなとのノ・ロケン化アセチル基などが挙げられ
るが、特にアセチル基が好ましい。
上記アセチル基の導入は、上記２３−テマインノ／ルデ
スマイコノン誘導体〔２〕に不活性有機溶媒中無水酢酸
を反応させることにより行われる。
スマイコノン誘導体〔２〕に不活性有機溶媒中無水酢酸
を反応させることにより行われる。
不活性有機溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホル
ム、ジクロロエタン、アセトン；＆とカ好ｔしい。反応
は室温で充分に進行する。反応経過はソリ力ゲルなとの
薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）、高速液体クロマト
グラフィー（ＨＰＬＣ，）などにより追跡できるので、
前記化合物〔２〕の消失を待って、適宜反応を終了すれ
はよい。
ム、ジクロロエタン、アセトン；＆とカ好ｔしい。反応
は室温で充分に進行する。反応経過はソリ力ゲルなとの
薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）、高速液体クロマト
グラフィー（ＨＰＬＣ，）などにより追跡できるので、
前記化合物〔２〕の消失を待って、適宜反応を終了すれ
はよい。
反′応液から反応生成物の式
で表わされるアシル誘導体（Ｒ□が−ｃＨｏ基である化
合物〔３〕）を採取するには、反応液に水を加え、ｐＨ
８〜９．５のアルカリ性下、非親水性有機溶媒、例えば
り。コロ。ホルム、ジクロロエタン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することに
より行われる。さらに精製を必要とする場合には、シリ
カゲル、活性アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いて
、適当な溶媒、例エバー＜ンゼンーアセトン系溶媒、ク
ロロホルム−メタノール系溶媒などで溶出するカラムク
ロマトグラフィーにより精製することができる。
合物〔３〕）を採取するには、反応液に水を加え、ｐＨ
８〜９．５のアルカリ性下、非親水性有機溶媒、例えば
り。コロ。ホルム、ジクロロエタン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することに
より行われる。さらに精製を必要とする場合には、シリ
カゲル、活性アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いて
、適当な溶媒、例エバー＜ンゼンーアセトン系溶媒、ク
ロロホルム−メタノール系溶媒などで溶出するカラムク
ロマトグラフィーにより精製することができる。
上記のアセタール化は、アシル誘導体〔３′〕を公知の
アセタール化法により行われる。例えばトリフルオロ酢
酸、トリクロロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナトノ
酸の存在下、メタノール、エタノールなどの低級アルコ
ールを反応させることにより行われる。得られたアセタ
ール誘導体、即ち採取するには、前記のアシル誘導体〔
３′〕を採取する方法と同様にして行うことができ、さ
らに必要に応じて精製する場合にも、前記と同様な方法
で精製することができる。
アセタール化法により行われる。例えばトリフルオロ酢
酸、トリクロロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナトノ
酸の存在下、メタノール、エタノールなどの低級アルコ
ールを反応させることにより行われる。得られたアセタ
ール誘導体、即ち採取するには、前記のアシル誘導体〔
３′〕を採取する方法と同様にして行うことができ、さ
らに必要に応じて精製する場合にも、前記と同様な方法
で精製することができる。
化合物〔３〕の２３位の水酸基のスルボニル化は、化合
物〔３〕を有機溶媒中塩基の存在下スルボニルハライド
〔４〕を反応させることにより行われる。
物〔３〕を有機溶媒中塩基の存在下スルボニルハライド
〔４〕を反応させることにより行われる。
スルホニルハライド（４） 、！： してバドルエンス
ルボニルハライト、例工ばｐ−）ルエンスルポニルクロ
ライド、ｐ−トルエンスルボニルブロマイド、ニトロベ
ンゼンスルホニルハライド、例５ｔ ハｐ −ニトロベ
ンゼンスルホニルクロライド、ｐ−ニトロベンゼンスル
ホニルブロマイドなどが挙ケラレる。塩基としては公知
の第３縁布機アミンが用いられる。有機溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ベン
ゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙けられ
るが、ヒリジンは塩基としても共用できる。上記のスル
ホニル化は通常室温で充分に進行するので、ＴＬＣ。
ルボニルハライト、例工ばｐ−）ルエンスルポニルクロ
ライド、ｐ−トルエンスルボニルブロマイド、ニトロベ
ンゼンスルホニルハライド、例５ｔ ハｐ −ニトロベ
ンゼンスルホニルクロライド、ｐ−ニトロベンゼンスル
ホニルブロマイドなどが挙ケラレる。塩基としては公知
の第３縁布機アミンが用いられる。有機溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ベン
ゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙けられ
るが、ヒリジンは塩基としても共用できる。上記のスル
ホニル化は通常室温で充分に進行するので、ＴＬＣ。
Ｈｉ、） Ｌ Ｃなとにより反応を追跡するりとにより
化合物〔３〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい
。反応液から生成したスルホニル化合物〔５〕を採取し
、さらに必要に応じ精製する場合には、前記のアシル誘
導体〔３′〕を採取する方法および精製方法と同様にし
て行う゛ことができる。
化合物〔３〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい
。反応液から生成したスルホニル化合物〔５〕を採取し
、さらに必要に応じ精製する場合には、前記のアシル誘
導体〔３′〕を採取する方法および精製方法と同様にし
て行う゛ことができる。
スルホニル化合物Ｌ５）から２３−フェニルチオ化合物
〔６〕を得るには、スルホニル化合物〔５〕ニチオフエ
ノールを反応させればよい。
〔６〕を得るには、スルホニル化合物〔５〕ニチオフエ
ノールを反応させればよい。
上記の反応は通常有機溶媒中塩基の存在下で行われる。
有機溶媒としては、アセトニトリル、アセトン、含水ア
セトンなどが挙げられる。塩基としては、炭酸水素すト
リウム、炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリ、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリが挙げ
られる。反応は室温ないし加熱下で行われる。反応経過
はＴＬＣ。
セトンなどが挙げられる。塩基としては、炭酸水素すト
リウム、炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリ、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリが挙げ
られる。反応は室温ないし加熱下で行われる。反応経過
はＴＬＣ。
ＨＰＬＣなどにより追跡できるので、スルホニル化合物
〔５〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい。反応
液から反応生成物〔りを採取するには前記と同様な方法
で行うことができる。
〔５〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい。反応
液から反応生成物〔りを採取するには前記と同様な方法
で行うことができる。
次に、２３−フェニルチオ化合物〔６〕から１１位もフ
ェニルチオ化された化合物〔７〕を得るには、２３−フ
ェニルチオ化合物〔りに含水有機溶媒中、弱アルカリ性
条件下でチオフェノールを反応させることにより行われ
る。
ェニルチオ化された化合物〔７〕を得るには、２３−フ
ェニルチオ化合物〔りに含水有機溶媒中、弱アルカリ性
条件下でチオフェノールを反応させることにより行われ
る。
上記の有機溶媒としては、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキッドなどの親水性有機溶媒が挙げられる。上記
の１１−フェニルチオ化は、通常炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリの存在下で行
うのが好捷しい。
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキッドなどの親水性有機溶媒が挙げられる。上記
の１１−フェニルチオ化は、通常炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリの存在下で行
うのが好捷しい。
反応は室温でも進行するが、通常５０〜６０℃程度に加
温するのが好ましい。反応経過はＴＬＣ１ＨＰＬＣなど
に。より追跡できるので、生成物〔７〕が最大に生成す
るのを待って適宜反応を終了すればよい。反応液から反
応生成物〔７〕を採取し、さらに必要に応じ精製する場
合には、前記のアンル誘導体〔３′〕を採取する方法お
よび精製方法と同様にして行うことができる。
温するのが好ましい。反応経過はＴＬＣ１ＨＰＬＣなど
に。より追跡できるので、生成物〔７〕が最大に生成す
るのを待って適宜反応を終了すればよい。反応液から反
応生成物〔７〕を採取し、さらに必要に応じ精製する場
合には、前記のアンル誘導体〔３′〕を採取する方法お
よび精製方法と同様にして行うことができる。
次に、反応生成物〔７〕の２′位および４′位の水酸基
の保護基、特にアセチル基を脱離化するのであるが、こ
の脱離化は含水していてもよい低級アルコール中で加熱
処理することにより行われる。低級アルコールとしては
メタノール、エタノールなどが挙げられるが、特にメタ
ノ−７′シか好ましい。
の保護基、特にアセチル基を脱離化するのであるが、こ
の脱離化は含水していてもよい低級アルコール中で加熱
処理することにより行われる。低級アルコールとしては
メタノール、エタノールなどが挙げられるが、特にメタ
ノ−７′シか好ましい。
」二記の反応はＴＬＣ，ＨＰＬＣなどにより追跡できる
ので、化合物〔７〕の消失を待って適宜反応を終了すれ
ばよい。
ので、化合物〔７〕の消失を待って適宜反応を終了すれ
ばよい。
このようにして得られた反応生成物を反応液から採取す
るには、低級アルコールを留去し、ｐＨ８〜９．５のア
ルカリ性下非親水性有機溶媒、例えハクロロホルム、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することにより
行われる。
るには、低級アルコールを留去し、ｐＨ８〜９．５のア
ルカリ性下非親水性有機溶媒、例えハクロロホルム、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することにより
行われる。
上記反応生成物はその′アルデヒド基がアセターできる
。得られた反応生成物は、上記と同様に反応液から採取
することができる。
。得られた反応生成物は、上記と同様に反応液から採取
することができる。
上記の脱アセタール化は、前記の水酸基の保護基の脱離
化する工程の前に行ってもよい。
化する工程の前に行ってもよい。
このようにして得られた目的化合物〔１〕は、さらに精
製を必要とする場合には、／す力ゲル、活性アルミナ、
吸着樹脂などの吸着剤を用いるカラムクロマトグラフィ
ーの手段を用いることにより精製することができる。
製を必要とする場合には、／す力ゲル、活性アルミナ、
吸着樹脂などの吸着剤を用いるカラムクロマトグラフィ
ーの手段を用いることにより精製することができる。
上記目的化合物〔１〕には、その１１位における２種類
の異性体、即ち（Ｒ）−および（Ｓ）−エピマーが存在
する。従って、本発明においては、これら各異性体およ
びその混合物も包含されるものである。
の異性体、即ち（Ｒ）−および（Ｓ）−エピマーが存在
する。従って、本発明においては、これら各異性体およ
びその混合物も包含されるものである。
尚、本発明においては、本目的化合物〔１〕および反応
生成物〔７〕のシリカゲル（メルク社製。
生成物〔７〕のシリカゲル（メルク社製。
、Ａｒｔ５７］、’５）薄層クロマトグラフィーにおい
て、Ｈ開溶Ｊ＄ベンゼンーアセトン（３：１）またはク
ロロホルム−メタノール−濃アンモニア水（１５０：１
０：１）で展開した場合、高Ｒｆ値を示すエピマー４−
Ａ、低１１’Ｌ ｆ値を示すエピマーをＢと記号化して
明記する。
て、Ｈ開溶Ｊ＄ベンゼンーアセトン（３：１）またはク
ロロホルム−メタノール−濃アンモニア水（１５０：１
０：１）で展開した場合、高Ｒｆ値を示すエピマー４−
Ａ、低１１’Ｌ ｆ値を示すエピマーをＢと記号化して
明記する。
次に、本目的化合物〔ＩＡ）の微生物生育最少阻止濃度
（Ｍ Ｉ Ｃ） （ｔｔ”ｉ／／ｍｅ ）を測定した結
果は次表の通りである ＊：マクロライド耐性Ａ群菌（エリスロマイシン、オレ
アンドマイシン、１６員環マク白ライド系抗生物質耐性
患者分離株） ＥＭ；エリスロマイシン 次に、参考例および実施例を挙げて本発明の製造例を具
体的に説明する。伺、参考例および実施例中のＲｆ値は
、特記しない限り次の担体および展開溶媒を用いるＥ’
Ｌ Ｃにより測定したものである。
（Ｍ Ｉ Ｃ） （ｔｔ”ｉ／／ｍｅ ）を測定した結
果は次表の通りである ＊：マクロライド耐性Ａ群菌（エリスロマイシン、オレ
アンドマイシン、１６員環マク白ライド系抗生物質耐性
患者分離株） ＥＭ；エリスロマイシン 次に、参考例および実施例を挙げて本発明の製造例を具
体的に説明する。伺、参考例および実施例中のＲｆ値は
、特記しない限り次の担体および展開溶媒を用いるＥ’
Ｌ Ｃにより測定したものである。
担体；メルク社製Ｄ Ｃ−Ｆｅｒｔｉｇｐｌａｌ ｔｅ
ｎｋｉｅｓｅｌ ｇｅｌ ６０Ｆ２５４ 、 Ａｒｔ５
７１５展開溶媒； ａ；ベンゼン−アセトン（３、： １ ）ｂ；ベンゼン
−アセトン（５：１） Ｃ；り００ホルム−メタノール−濃アンモニア水（１５
０’：１０：１ ） 参考例 １ ２．４−ジーＯ−アセチルー２３−デマインノシルー２
３−Ｏ−（１１１＋−二トロペンセンスルホニル）デス
マイコノン ジメチルアセターノー ２１、４７−ジーＯ−アセチル−２３−デマイシノシル
デスマイコシ／ ジメチルアセタール２？（２，７４８
ｍＭ）をピリジン１０ｍ１！に溶かし、これに水冷下ｐ
−ニトロベンゼンスルホニルクロライド９１’Ｏｍｇ（
１，５Ｍ量）を加えた後、１時間攪拌した。
ｎｋｉｅｓｅｌ ｇｅｌ ６０Ｆ２５４ 、 Ａｒｔ５
７１５展開溶媒； ａ；ベンゼン−アセトン（３、： １ ）ｂ；ベンゼン
−アセトン（５：１） Ｃ；り００ホルム−メタノール−濃アンモニア水（１５
０’：１０：１ ） 参考例 １ ２．４−ジーＯ−アセチルー２３−デマインノシルー２
３−Ｏ−（１１１＋−二トロペンセンスルホニル）デス
マイコノン ジメチルアセターノー ２１、４７−ジーＯ−アセチル−２３−デマイシノシル
デスマイコシ／ ジメチルアセタール２？（２，７４８
ｍＭ）をピリジン１０ｍ１！に溶かし、これに水冷下ｐ
−ニトロベンゼンスルホニルクロライド９１’Ｏｍｇ（
１，５Ｍ量）を加えた後、１時間攪拌した。
サラに：、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロライド３
００ｍｐを追加し、さらに１時間攪拌した。反応液を食
塩飽和の冷７％アンモニア水に注ぎ、析出した橙色沈澱
物を戸数した後、クロロホルムに溶がした。クロロホル
ム溶液を水洗し、ワットマン１゛ＰＳＦ紙に通した後、
減圧濃縮した。残渣をシリカゲル（メルク社製、 Ａｒ
ｔ ７７３４） ２５ ｆｔ７Ｊ）カラムにチャージし
、ベンゼン−アセトン（５：１）で溶出するカラムクロ
マトグラフィーを行った。
００ｍｐを追加し、さらに１時間攪拌した。反応液を食
塩飽和の冷７％アンモニア水に注ぎ、析出した橙色沈澱
物を戸数した後、クロロホルムに溶がした。クロロホル
ム溶液を水洗し、ワットマン１゛ＰＳＦ紙に通した後、
減圧濃縮した。残渣をシリカゲル（メルク社製、 Ａｒ
ｔ ７７３４） ２５ ｆｔ７Ｊ）カラムにチャージし
、ベンゼン−アセトン（５：１）で溶出するカラムクロ
マトグラフィーを行った。
ＦＬ？’ｂ＝０．３８付近のフラクションを集め、減圧
乾固して泡状固体の２７ 、４７−ジー〇−アセチル−
２３ン ジメチルアセタール１．４１ ｐｉ得た。
乾固して泡状固体の２７ 、４７−ジー〇−アセチル−
２３ン ジメチルアセタール１．４１ ｐｉ得た。
参考例 ２
２／、 ４／−ジーＯ−アセチルー２３−フェニルチ
オ−２３−テマイシノシルー２８−７’オキンデスマイ
コシン ジメチルアセター ル参考例１で得たジメチル
アセタール９１２ｍ９（１ｍＭ）およびチオフェノール
５１０μｌ（５当量）をアセトニトリル１０ｍ１に溶か
し、これにＫＦ−Ａｌ５Ｏ１２，５ｙを加え室温で３時
間攪拌した。反応混合物を濾過し、不溶物をジエチルエ
ーテルでｒ液を洗液と合せて減圧濃縮して黄色油状物１
．１９ ｆを得だ。これをシリカゲル（メルク社製、Ａ
ｒｔ７７３４）２ Ｏｆのカラムにチャージし、ベンゼ
ン−アセトン（１０°１）で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行った。チオフェノールを含まないスシクン
ヨンを集めて減圧乾固して粗生成物５１６ｍ！７を得た
。これを７リカゲル（メルク社製。
オ−２３−テマイシノシルー２８−７’オキンデスマイ
コシン ジメチルアセター ル参考例１で得たジメチル
アセタール９１２ｍ９（１ｍＭ）およびチオフェノール
５１０μｌ（５当量）をアセトニトリル１０ｍ１に溶か
し、これにＫＦ−Ａｌ５Ｏ１２，５ｙを加え室温で３時
間攪拌した。反応混合物を濾過し、不溶物をジエチルエ
ーテルでｒ液を洗液と合せて減圧濃縮して黄色油状物１
．１９ ｆを得だ。これをシリカゲル（メルク社製、Ａ
ｒｔ７７３４）２ Ｏｆのカラムにチャージし、ベンゼ
ン−アセトン（１０°１）で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行った。チオフェノールを含まないスシクン
ヨンを集めて減圧乾固して粗生成物５１６ｍ！７を得た
。これを７リカゲル（メルク社製。
Ａｒｔ ９３８５） ２５ ？のカラムにチャージし、
ベンゼン−アセトン（１０： １）で溶出するフラッシ
ュクロマトグラフィーを行った。Ｒｆｂ＝０．４５付近
のみのフラクションを集め、減圧乾固して２′。
ベンゼン−アセトン（１０： １）で溶出するフラッシ
ュクロマトグラフィーを行った。Ｒｆｂ＝０．４５付近
のみのフラクションを集め、減圧乾固して２′。
４′−ジーＯ−アセチルー２３−フェニルチオ−２３−
ｆマイ７ノシルー２３−デオキシデスマイコシン ジメ
チルアセタール１５９ｍｇを得た。
ｆマイ７ノシルー２３−デオキシデスマイコシン ジメ
チルアセタール１５９ｍｇを得た。
実施例 １
２．４−ジーＯ−アセチルー１０．１１−ジヒドロ−２
３−デマイシノフルー２３−デオキシ−１１，２３−ビ
ス（フェニルチオ）−デスマイコノン ジメチルアセク
ールのエピマーＡおよびエピマーＢ ２’、’４’−ジーＯ−アセチルー２３−フェニルチオ
−２３−デマイシノシルー２３−テオキ／デスマイコシ
ン ジメチルアセタール３４２ｍ９（０，４２ｍＭ）、
チオ７ｍ／−ル０．２１３ｍ１ （５倍モル）’および
炭酸水素ナトリウム１７５ｍｙ（５倍モル）を１０％含
水アセトン５ ｍｌに溶かし、５０°Ｃで１９時間攪拌
した。反応液をクロロホルムで抽出し、抽出液を７チア
ンモニア水で洗浄し、次いでワットマンＩ Ｐ ＳＰ紙
に通した後、減圧濃縮して油状物６７０ ｍｇを得た。
３−デマイシノフルー２３−デオキシ−１１，２３−ビ
ス（フェニルチオ）−デスマイコノン ジメチルアセク
ールのエピマーＡおよびエピマーＢ ２’、’４’−ジーＯ−アセチルー２３−フェニルチオ
−２３−デマイシノシルー２３−テオキ／デスマイコシ
ン ジメチルアセタール３４２ｍ９（０，４２ｍＭ）、
チオ７ｍ／−ル０．２１３ｍ１ （５倍モル）’および
炭酸水素ナトリウム１７５ｍｙ（５倍モル）を１０％含
水アセトン５ ｍｌに溶かし、５０°Ｃで１９時間攪拌
した。反応液をクロロホルムで抽出し、抽出液を７チア
ンモニア水で洗浄し、次いでワットマンＩ Ｐ ＳＰ紙
に通した後、減圧濃縮して油状物６７０ ｍｇを得た。
乙の油状物はＴＬＣ上ではしｆａ−０，４７，０，５１
および０．５６ｏ ：ｄ種類ノ成分カ含有することを示
しだ。これをシリカゲル（メルク社製、 Ａｒｔ ９３
８５） １５ ｆｌのカラムにチャージし、ベンゼン−
アセトン（３：１）で溶出するカラムクロマトグラフィ
ーを行い、Ｒｆ、−０，５６のエピ。
および０．５６ｏ ：ｄ種類ノ成分カ含有することを示
しだ。これをシリカゲル（メルク社製、 Ａｒｔ ９３
８５） １５ ｆｌのカラムにチャージし、ベンゼン−
アセトン（３：１）で溶出するカラムクロマトグラフィ
ーを行い、Ｒｆ、−０，５６のエピ。
マーＡのみを含むフラクション、および、Ｒｆ ＝０
０４７のエピマーＢを主成分とするフラクションを減圧
乾固して、各々エピマーＡ３４ｍ９、およびエピマーＢ
を主成分とする生成物１４８〜９を得た。
０４７のエピマーＢを主成分とするフラクションを減圧
乾固して、各々エピマーＡ３４ｍ９、およびエピマーＢ
を主成分とする生成物１４８〜９を得た。
Ｒ，ｆ 〜０．４７の生成物をシリカゲル（メルり社製
、Ａ目７７４７）１０ ｆのカラムにチャーンし、ベン
ゼン−アセトン（８：１）で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行い、Ｒｆａ二０．４７のみを含むフラクシ
ョンを集めて減圧乾固してエピマー８，１３ｍ夕を得た
。
、Ａ目７７４７）１０ ｆのカラムにチャーンし、ベン
ゼン−アセトン（８：１）で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行い、Ｒｆａ二０．４７のみを含むフラクシ
ョンを集めて減圧乾固してエピマー８，１３ｍ夕を得た
。
′実施例 ２
１０．１１−ジヒドロ−２３−デフイソノンルー２３−
チオキシ−１１，２１−ビス（フェニルチオ）−ｆスフ
１゛コシンのエピ０マーＡ（ＩＡ） 実施例１で得たＲ ｆａ＝Ｑ、５６を示すエピ→−Ａ５
４ｍｇをメタノ−＃ ５ ｍｌに溶かし、５５℃で６．
５時間攪拌して脱２’、 ４’−ジーＯ−アセチル化し
た後、反応液を減圧濃縮した。残渣を氷冷下１０％含水
トリクロロ酢酸１ ｍｌに溶かし、１５分間攪拌して脱
アセタール化した。反応液を水に注き、アンモニア水で
ｐ、Ｈを８〜９に調節しながらクロロホルムで３回抽出
した。抽出液をワットマンＩＰＳＦ紙に通して乾燥した
後、減圧乾固して標記化合物のエピマー〔ＩＡ〕を得た
。収量４３ｍｇＴＬＣ；Ｒｆｃ＝０．３４ ＮｈｉＲ（１００ＭＨｚ 、ＣＤＣ６３）δｐｐｍ
； １．５９（ｓ、 、 １２−ＣＨ５）、２．５１
（ｓ、、、 −Ｎ （ＣＩ４３）２ ）、４、２８ （
ｄ、 、 ）１−１’）、４．９３（ｍ、 、 Ｈ−１
８，Ｈ−１５）、７．１〜７．５（ｍ。、 ７１’＝ル
Ｘ ２）、９．７２（Ｓ。。
チオキシ−１１，２１−ビス（フェニルチオ）−ｆスフ
１゛コシンのエピ０マーＡ（ＩＡ） 実施例１で得たＲ ｆａ＝Ｑ、５６を示すエピ→−Ａ５
４ｍｇをメタノ−＃ ５ ｍｌに溶かし、５５℃で６．
５時間攪拌して脱２’、 ４’−ジーＯ−アセチル化し
た後、反応液を減圧濃縮した。残渣を氷冷下１０％含水
トリクロロ酢酸１ ｍｌに溶かし、１５分間攪拌して脱
アセタール化した。反応液を水に注き、アンモニア水で
ｐ、Ｈを８〜９に調節しながらクロロホルムで３回抽出
した。抽出液をワットマンＩＰＳＦ紙に通して乾燥した
後、減圧乾固して標記化合物のエピマー〔ＩＡ〕を得た
。収量４３ｍｇＴＬＣ；Ｒｆｃ＝０．３４ ＮｈｉＲ（１００ＭＨｚ 、ＣＤＣ６３）δｐｐｍ
； １．５９（ｓ、 、 １２−ＣＨ５）、２．５１
（ｓ、、、 −Ｎ （ＣＩ４３）２ ）、４、２８ （
ｄ、 、 ）１−１’）、４．９３（ｍ、 、 Ｈ−１
８，Ｈ−１５）、７．１〜７．５（ｍ。、 ７１’＝ル
Ｘ ２）、９．７２（Ｓ。。
ＣＨＯ）
実施例 ３
１０．１１−ジヒドロ−２３−テマイ／ノシルー２３−
デオキシ−１１，２３−ビ、ス（フェニルチオ）−テス
マイコシンのエピマーＢ（ＩＢ） 実施例１で得たＲｆａ−０，４７を示すエピマーＢ１３
１ｎ９を実施例２に記載と同様にして脱２／、 ４／−
ジ、−〇−アセチル化および脱アセタール化を行って、
標記化合物のエピマーＢ（ＩＢ）を得た。収量１１ｍノ ＴＬ Ｃ； ｎｆｏ＝ＯＪＯ Ｎ λ４ Ｒ（１００ＭＩ（ｚ、 ＣＤＣｌ３
） δ ｐｐｍ ； １，７６（ｓ、 、 １
２−ＣＨ５）、２．４９ （ｓ、 、 −Ｎ （ＣＨ３
）２ ）、４．３３（ｄ。、Ｈ−白、４．８〜５．２’
（ｍ、 、 Ｈ−１３゜Ｈ−１５）、７．１〜７．５
（ｍ、 、 ７ 工＝ルＸ２ ）、９．７０（ｓ、
、 Ｃ）ｔｏ’） 特許出願人 東洋醸造株式会社 代表者伊東冨士馬 手続補正書 昭和５９年３１ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 ／、 事件の表示 昭和５ｇ年特許願第３７３００号 ス 発明の名称 ＩＯ，／／−ジヒドロ−２３−デマイシノラ シル−２３−デオキシ−／／、２３−ビス（フェニルチ
オ）−デヌマイコンン ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 グ よ 乙 補正の内容 明細書第２グ頁第λ行の １トリクロロ酢酸」を 「トリフルオロ酢眩」と訂正する。
デオキシ−１１，２３−ビ、ス（フェニルチオ）−テス
マイコシンのエピマーＢ（ＩＢ） 実施例１で得たＲｆａ−０，４７を示すエピマーＢ１３
１ｎ９を実施例２に記載と同様にして脱２／、 ４／−
ジ、−〇−アセチル化および脱アセタール化を行って、
標記化合物のエピマーＢ（ＩＢ）を得た。収量１１ｍノ ＴＬ Ｃ； ｎｆｏ＝ＯＪＯ Ｎ λ４ Ｒ（１００ＭＩ（ｚ、 ＣＤＣｌ３
） δ ｐｐｍ ； １，７６（ｓ、 、 １
２−ＣＨ５）、２．４９ （ｓ、 、 −Ｎ （ＣＨ３
）２ ）、４．３３（ｄ。、Ｈ−白、４．８〜５．２’
（ｍ、 、 Ｈ−１３゜Ｈ−１５）、７．１〜７．５
（ｍ、 、 ７ 工＝ルＸ２ ）、９．７０（ｓ、
、 Ｃ）ｔｏ’） 特許出願人 東洋醸造株式会社 代表者伊東冨士馬 手続補正書 昭和５９年３１ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 ／、 事件の表示 昭和５ｇ年特許願第３７３００号 ス 発明の名称 ＩＯ，／／−ジヒドロ−２３−デマイシノラ シル−２３−デオキシ−／／、２３−ビス（フェニルチ
オ）−デヌマイコンン ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 グ よ 乙 補正の内容 明細書第２グ頁第λ行の １トリクロロ酢酸」を 「トリフルオロ酢眩」と訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）、式 で表わされる化合物またはその塩。 （２）、１．１− （Ｒ）異性体である特許請求の範囲
第１項記載の化合物またはその塩。 （３）、１１−（Ｓ）異性体である特許請求の範囲第１
項記載の化合物またはその塩。 （４）、１１−（Ｒ）異性体と１１−（Ｓ）異性体の混
合物である特許請求の範囲第１項記載の化合物寸たはそ
の塩。 基、Ｒ，、およびＲ１２は各々低級アルキル基を示し、
Ｒ２は水酸基の保護基を示す）で表わされる化合物に含
水有機溶媒中、弱アルカリ性条件下でチオフェノールを
反応させ、で、式 （式中、■（，１およびＲ２は前記と同じ意味を有する
）で表わされる化合物を得、次いて該化合物基である場
合にｄｌ、脱アセター４し化することをて表わされる化
合物またはその塩の製造法。 （６）、水酸基の保護基が低級アルカノイル基捷たはハ
ロゲン化アセチル基である特許請求の範囲第へ項記載の
製造法。 （７）、低級アルカノイル基がアセチル基である特許請
求の範囲第鶏項記載の製造法。 （８）、脱離化を含４りしていてもよい低級アルカノー
ル中て加熱処理により行う特許請求の範囲第宛々 囲第交項記載の製造法っ り （＋０、脱アセタール化を酸性水で加水分解することに
より行う特許請求の範囲第認項記載の製造法１
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58031500A JPS59157098A (ja) | 1983-02-25 | 1983-02-25 | １０，１１−ジヒドロ−２３−デマイシノシル−２３−デオキシ−１１，２３−ビス（フエニルチオ）−デスマイコシン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58031500A JPS59157098A (ja) | 1983-02-25 | 1983-02-25 | １０，１１−ジヒドロ−２３−デマイシノシル−２３−デオキシ−１１，２３−ビス（フエニルチオ）−デスマイコシン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59157098A true JPS59157098A (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=12332949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58031500A Pending JPS59157098A (ja) | 1983-02-25 | 1983-02-25 | １０，１１−ジヒドロ−２３−デマイシノシル−２３−デオキシ−１１，２３−ビス（フエニルチオ）−デスマイコシン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59157098A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0154495A2 (en) * | 1984-02-27 | 1985-09-11 | Satoshi Omura | Improvements in or relating to thioether macrolide derivatives |
-
1983
- 1983-02-25 JP JP58031500A patent/JPS59157098A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0154495A2 (en) * | 1984-02-27 | 1985-09-11 | Satoshi Omura | Improvements in or relating to thioether macrolide derivatives |
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