JPS59157098A - 10,11−ジヒドロ−23−デマイシノシル−23−デオキシ−11,23−ビス(フエニルチオ)−デスマイコシン - Google Patents
10,11−ジヒドロ−23−デマイシノシル−23−デオキシ−11,23−ビス(フエニルチオ)−デスマイコシンInfo
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- JPS59157098A JPS59157098A JP58031500A JP3150083A JPS59157098A JP S59157098 A JPS59157098 A JP S59157098A JP 58031500 A JP58031500 A JP 58031500A JP 3150083 A JP3150083 A JP 3150083A JP S59157098 A JPS59157098 A JP S59157098A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なデスマイコノン(4′−デマイカロプル
タイロ/ン)誘導体およびその製法に関する。さらに詳
しくは、式 で表わされる化合物、即ち10,11.−7ヒドロー2
3−テマインノシルー23−チオキシ−11゜23−ビ
ス(フェニルチオ)−テスマイコ7ノ寸たはその塩であ
る。本発明は、丑だ式 R11およびR1□は各々低級アルキル基を示し、R2
は水酸基の保護基を示す)で表わされる化合物に含水有
機溶媒中、弱アルカリ性条件下でチオフェノールを反応
させて、式 (式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有する)る
式〔1〕で表わされる化合物またはその塩の製造法も包
含される。
タイロ/ン)誘導体およびその製法に関する。さらに詳
しくは、式 で表わされる化合物、即ち10,11.−7ヒドロー2
3−テマインノシルー23−チオキシ−11゜23−ビ
ス(フェニルチオ)−テスマイコ7ノ寸たはその塩であ
る。本発明は、丑だ式 R11およびR1□は各々低級アルキル基を示し、R2
は水酸基の保護基を示す)で表わされる化合物に含水有
機溶媒中、弱アルカリ性条件下でチオフェノールを反応
させて、式 (式中、R1およびR2は前記と同じ意味を有する)る
式〔1〕で表わされる化合物またはその塩の製造法も包
含される。
上記の塩としては医薬上許容できる塩である。
このような適当な塩としては、塩酸、硫酸、リン酸など
の無機酸との塩、酢酸、グロピオン酸、酒石酸、クエン
酸、コハク酸、リンゴ酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸などの有機酸との塩が包含される。その他の非毒性塩
も包含される。
の無機酸との塩、酢酸、グロピオン酸、酒石酸、クエン
酸、コハク酸、リンゴ酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸などの有機酸との塩が包含される。その他の非毒性塩
も包含される。
上記の新規化合物〔1〕は、ダラム陽性菌に対して既知
のエリスロマイ/ン、タイロシンよりも強い抗菌活性を
有するばかりでなく、耐性菌に対しても強い抗菌活性を
有しており、生体内でも安定であるので、臨床上優れた
感染治療効果の期待される抗菌剤である。また、動物用
感染治療剤、感染予防あるいは生育促進のだめの飼料添
加剤としても有用である。
のエリスロマイ/ン、タイロシンよりも強い抗菌活性を
有するばかりでなく、耐性菌に対しても強い抗菌活性を
有しており、生体内でも安定であるので、臨床上優れた
感染治療効果の期待される抗菌剤である。また、動物用
感染治療剤、感染予防あるいは生育促進のだめの飼料添
加剤としても有用である。
本発明で使用される出発物質〔6〕は、式て表わされる
化合物、即ち23−デマイ/ノフルテス’vイ:+ ’
y ン(Tetrahedron Letters 、
4737(1970))をその2′位および4′位の
水酸基を適当な保護基で保護し、場合によりさらにその
アルデヒド基をアセタール化により保護した式(式中、
R1およびR2は前記と同じ意味を有する化合物を式 %式%) (式中、It3はトリル基寸たはニトロフェニル基、X
は・・ロゲン原子を示す)で表わされるスルホニルハラ
イドで23位の水酸基をスルホニル化し、得られた式 (式中、RIXR2およびR3は前記と同じ意味を有す
る)で表わされるスルホニル化合物をチオフェノールと
反応させることにより得られる(特願昭57−2079
50号)。
化合物、即ち23−デマイ/ノフルテス’vイ:+ ’
y ン(Tetrahedron Letters 、
4737(1970))をその2′位および4′位の
水酸基を適当な保護基で保護し、場合によりさらにその
アルデヒド基をアセタール化により保護した式(式中、
R1およびR2は前記と同じ意味を有する化合物を式 %式%) (式中、It3はトリル基寸たはニトロフェニル基、X
は・・ロゲン原子を示す)で表わされるスルホニルハラ
イドで23位の水酸基をスルホニル化し、得られた式 (式中、RIXR2およびR3は前記と同じ意味を有す
る)で表わされるスルホニル化合物をチオフェノールと
反応させることにより得られる(特願昭57−2079
50号)。
」二記の保護基としては、アセチル、プロピオニル、ブ
チリルなどの低級アルカノイル基、クロ20アセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロ
アセチルなとのノ・ロケン化アセチル基などが挙げられ
るが、特にアセチル基が好ましい。
チリルなどの低級アルカノイル基、クロ20アセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロ
アセチルなとのノ・ロケン化アセチル基などが挙げられ
るが、特にアセチル基が好ましい。
上記アセチル基の導入は、上記23−テマインノ/ルデ
スマイコノン誘導体〔2〕に不活性有機溶媒中無水酢酸
を反応させることにより行われる。
スマイコノン誘導体〔2〕に不活性有機溶媒中無水酢酸
を反応させることにより行われる。
不活性有機溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホル
ム、ジクロロエタン、アセトン;&とカ好tしい。反応
は室温で充分に進行する。反応経過はソリ力ゲルなとの
薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマト
グラフィー(HPLC,)などにより追跡できるので、
前記化合物〔2〕の消失を待って、適宜反応を終了すれ
はよい。
ム、ジクロロエタン、アセトン;&とカ好tしい。反応
は室温で充分に進行する。反応経過はソリ力ゲルなとの
薄層クロマトグラフィー(TLC)、高速液体クロマト
グラフィー(HPLC,)などにより追跡できるので、
前記化合物〔2〕の消失を待って、適宜反応を終了すれ
はよい。
反′応液から反応生成物の式
で表わされるアシル誘導体(R□が−cHo基である化
合物〔3〕)を採取するには、反応液に水を加え、pH
8〜9.5のアルカリ性下、非親水性有機溶媒、例えば
り。コロ。ホルム、ジクロロエタン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することに
より行われる。さらに精製を必要とする場合には、シリ
カゲル、活性アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いて
、適当な溶媒、例エバー<ンゼンーアセトン系溶媒、ク
ロロホルム−メタノール系溶媒などで溶出するカラムク
ロマトグラフィーにより精製することができる。
合物〔3〕)を採取するには、反応液に水を加え、pH
8〜9.5のアルカリ性下、非親水性有機溶媒、例えば
り。コロ。ホルム、ジクロロエタン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することに
より行われる。さらに精製を必要とする場合には、シリ
カゲル、活性アルミナ、吸着樹脂などの吸着剤を用いて
、適当な溶媒、例エバー<ンゼンーアセトン系溶媒、ク
ロロホルム−メタノール系溶媒などで溶出するカラムク
ロマトグラフィーにより精製することができる。
上記のアセタール化は、アシル誘導体〔3′〕を公知の
アセタール化法により行われる。例えばトリフルオロ酢
酸、トリクロロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、ナトノ
酸の存在下、メタノール、エタノールなどの低級アルコ
ールを反応させることにより行われる。得られたアセタ
ール誘導体、即ち採取するには、前記のアシル誘導体〔
3′〕を採取する方法と同様にして行うことができ、さ
らに必要に応じて精製する場合にも、前記と同様な方法
で精製することができる。
アセタール化法により行われる。例えばトリフルオロ酢
酸、トリクロロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、ナトノ
酸の存在下、メタノール、エタノールなどの低級アルコ
ールを反応させることにより行われる。得られたアセタ
ール誘導体、即ち採取するには、前記のアシル誘導体〔
3′〕を採取する方法と同様にして行うことができ、さ
らに必要に応じて精製する場合にも、前記と同様な方法
で精製することができる。
化合物〔3〕の23位の水酸基のスルボニル化は、化合
物〔3〕を有機溶媒中塩基の存在下スルボニルハライド
〔4〕を反応させることにより行われる。
物〔3〕を有機溶媒中塩基の存在下スルボニルハライド
〔4〕を反応させることにより行われる。
スルホニルハライド(4) 、!: してバドルエンス
ルボニルハライト、例工ばp−)ルエンスルポニルクロ
ライド、p−トルエンスルボニルブロマイド、ニトロベ
ンゼンスルホニルハライド、例5t ハp −ニトロベ
ンゼンスルホニルクロライド、p−ニトロベンゼンスル
ホニルブロマイドなどが挙ケラレる。塩基としては公知
の第3縁布機アミンが用いられる。有機溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ベン
ゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙けられ
るが、ヒリジンは塩基としても共用できる。上記のスル
ホニル化は通常室温で充分に進行するので、TLC。
ルボニルハライト、例工ばp−)ルエンスルポニルクロ
ライド、p−トルエンスルボニルブロマイド、ニトロベ
ンゼンスルホニルハライド、例5t ハp −ニトロベ
ンゼンスルホニルクロライド、p−ニトロベンゼンスル
ホニルブロマイドなどが挙ケラレる。塩基としては公知
の第3縁布機アミンが用いられる。有機溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ベン
ゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙けられ
るが、ヒリジンは塩基としても共用できる。上記のスル
ホニル化は通常室温で充分に進行するので、TLC。
Hi、) L Cなとにより反応を追跡するりとにより
化合物〔3〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい
。反応液から生成したスルホニル化合物〔5〕を採取し
、さらに必要に応じ精製する場合には、前記のアシル誘
導体〔3′〕を採取する方法および精製方法と同様にし
て行う゛ことができる。
化合物〔3〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい
。反応液から生成したスルホニル化合物〔5〕を採取し
、さらに必要に応じ精製する場合には、前記のアシル誘
導体〔3′〕を採取する方法および精製方法と同様にし
て行う゛ことができる。
スルホニル化合物L5)から23−フェニルチオ化合物
〔6〕を得るには、スルホニル化合物〔5〕ニチオフエ
ノールを反応させればよい。
〔6〕を得るには、スルホニル化合物〔5〕ニチオフエ
ノールを反応させればよい。
上記の反応は通常有機溶媒中塩基の存在下で行われる。
有機溶媒としては、アセトニトリル、アセトン、含水ア
セトンなどが挙げられる。塩基としては、炭酸水素すト
リウム、炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリ、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリが挙げ
られる。反応は室温ないし加熱下で行われる。反応経過
はTLC。
セトンなどが挙げられる。塩基としては、炭酸水素すト
リウム、炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリ、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリが挙げ
られる。反応は室温ないし加熱下で行われる。反応経過
はTLC。
HPLCなどにより追跡できるので、スルホニル化合物
〔5〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい。反応
液から反応生成物〔りを採取するには前記と同様な方法
で行うことができる。
〔5〕の消失を待って適宜反応を終了すれはよい。反応
液から反応生成物〔りを採取するには前記と同様な方法
で行うことができる。
次に、23−フェニルチオ化合物〔6〕から11位もフ
ェニルチオ化された化合物〔7〕を得るには、23−フ
ェニルチオ化合物〔りに含水有機溶媒中、弱アルカリ性
条件下でチオフェノールを反応させることにより行われ
る。
ェニルチオ化された化合物〔7〕を得るには、23−フ
ェニルチオ化合物〔りに含水有機溶媒中、弱アルカリ性
条件下でチオフェノールを反応させることにより行われ
る。
上記の有機溶媒としては、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキッドなどの親水性有機溶媒が挙げられる。上記
の11−フェニルチオ化は、通常炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリの存在下で行
うのが好捷しい。
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキッドなどの親水性有機溶媒が挙げられる。上記
の11−フェニルチオ化は、通常炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリの存在下で行
うのが好捷しい。
反応は室温でも進行するが、通常50〜60℃程度に加
温するのが好ましい。反応経過はTLC1HPLCなど
に。より追跡できるので、生成物〔7〕が最大に生成す
るのを待って適宜反応を終了すればよい。反応液から反
応生成物〔7〕を採取し、さらに必要に応じ精製する場
合には、前記のアンル誘導体〔3′〕を採取する方法お
よび精製方法と同様にして行うことができる。
温するのが好ましい。反応経過はTLC1HPLCなど
に。より追跡できるので、生成物〔7〕が最大に生成す
るのを待って適宜反応を終了すればよい。反応液から反
応生成物〔7〕を採取し、さらに必要に応じ精製する場
合には、前記のアンル誘導体〔3′〕を採取する方法お
よび精製方法と同様にして行うことができる。
次に、反応生成物〔7〕の2′位および4′位の水酸基
の保護基、特にアセチル基を脱離化するのであるが、こ
の脱離化は含水していてもよい低級アルコール中で加熱
処理することにより行われる。低級アルコールとしては
メタノール、エタノールなどが挙げられるが、特にメタ
ノ−7′シか好ましい。
の保護基、特にアセチル基を脱離化するのであるが、こ
の脱離化は含水していてもよい低級アルコール中で加熱
処理することにより行われる。低級アルコールとしては
メタノール、エタノールなどが挙げられるが、特にメタ
ノ−7′シか好ましい。
」二記の反応はTLC,HPLCなどにより追跡できる
ので、化合物〔7〕の消失を待って適宜反応を終了すれ
ばよい。
ので、化合物〔7〕の消失を待って適宜反応を終了すれ
ばよい。
このようにして得られた反応生成物を反応液から採取す
るには、低級アルコールを留去し、pH8〜9.5のア
ルカリ性下非親水性有機溶媒、例えハクロロホルム、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することにより
行われる。
るには、低級アルコールを留去し、pH8〜9.5のア
ルカリ性下非親水性有機溶媒、例えハクロロホルム、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチルなとで抽出することにより
行われる。
上記反応生成物はその′アルデヒド基がアセターできる
。得られた反応生成物は、上記と同様に反応液から採取
することができる。
。得られた反応生成物は、上記と同様に反応液から採取
することができる。
上記の脱アセタール化は、前記の水酸基の保護基の脱離
化する工程の前に行ってもよい。
化する工程の前に行ってもよい。
このようにして得られた目的化合物〔1〕は、さらに精
製を必要とする場合には、/す力ゲル、活性アルミナ、
吸着樹脂などの吸着剤を用いるカラムクロマトグラフィ
ーの手段を用いることにより精製することができる。
製を必要とする場合には、/す力ゲル、活性アルミナ、
吸着樹脂などの吸着剤を用いるカラムクロマトグラフィ
ーの手段を用いることにより精製することができる。
上記目的化合物〔1〕には、その11位における2種類
の異性体、即ち(R)−および(S)−エピマーが存在
する。従って、本発明においては、これら各異性体およ
びその混合物も包含されるものである。
の異性体、即ち(R)−および(S)−エピマーが存在
する。従って、本発明においては、これら各異性体およ
びその混合物も包含されるものである。
尚、本発明においては、本目的化合物〔1〕および反応
生成物〔7〕のシリカゲル(メルク社製。
生成物〔7〕のシリカゲル(メルク社製。
、Art57]、’5)薄層クロマトグラフィーにおい
て、H開溶J$ベンゼンーアセトン(3:1)またはク
ロロホルム−メタノール−濃アンモニア水(150:1
0:1)で展開した場合、高Rf値を示すエピマー4−
A、低11’L f値を示すエピマーをBと記号化して
明記する。
て、H開溶J$ベンゼンーアセトン(3:1)またはク
ロロホルム−メタノール−濃アンモニア水(150:1
0:1)で展開した場合、高Rf値を示すエピマー4−
A、低11’L f値を示すエピマーをBと記号化して
明記する。
次に、本目的化合物〔IA)の微生物生育最少阻止濃度
(M I C) (tt”i//me )を測定した結
果は次表の通りである *:マクロライド耐性A群菌(エリスロマイシン、オレ
アンドマイシン、16員環マク白ライド系抗生物質耐性
患者分離株) EM;エリスロマイシン 次に、参考例および実施例を挙げて本発明の製造例を具
体的に説明する。伺、参考例および実施例中のRf値は
、特記しない限り次の担体および展開溶媒を用いるE’
L Cにより測定したものである。
(M I C) (tt”i//me )を測定した結
果は次表の通りである *:マクロライド耐性A群菌(エリスロマイシン、オレ
アンドマイシン、16員環マク白ライド系抗生物質耐性
患者分離株) EM;エリスロマイシン 次に、参考例および実施例を挙げて本発明の製造例を具
体的に説明する。伺、参考例および実施例中のRf値は
、特記しない限り次の担体および展開溶媒を用いるE’
L Cにより測定したものである。
担体;メルク社製D C−Fertigplal te
nkiesel gel 60F254 、 Art5
715展開溶媒; a;ベンゼン−アセトン(3、: 1 )b;ベンゼン
−アセトン(5:1) C;り00ホルム−メタノール−濃アンモニア水(15
0’:10:1 ) 参考例 1 2.4−ジーO−アセチルー23−デマインノシルー2
3−O−(111+−二トロペンセンスルホニル)デス
マイコノン ジメチルアセターノー 21、47−ジーO−アセチル−23−デマイシノシル
デスマイコシ/ ジメチルアセタール2?(2,748
mM)をピリジン10m1!に溶かし、これに水冷下p
−ニトロベンゼンスルホニルクロライド91’Omg(
1,5M量)を加えた後、1時間攪拌した。
nkiesel gel 60F254 、 Art5
715展開溶媒; a;ベンゼン−アセトン(3、: 1 )b;ベンゼン
−アセトン(5:1) C;り00ホルム−メタノール−濃アンモニア水(15
0’:10:1 ) 参考例 1 2.4−ジーO−アセチルー23−デマインノシルー2
3−O−(111+−二トロペンセンスルホニル)デス
マイコノン ジメチルアセターノー 21、47−ジーO−アセチル−23−デマイシノシル
デスマイコシ/ ジメチルアセタール2?(2,748
mM)をピリジン10m1!に溶かし、これに水冷下p
−ニトロベンゼンスルホニルクロライド91’Omg(
1,5M量)を加えた後、1時間攪拌した。
サラに:、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド3
00mpを追加し、さらに1時間攪拌した。反応液を食
塩飽和の冷7%アンモニア水に注ぎ、析出した橙色沈澱
物を戸数した後、クロロホルムに溶がした。クロロホル
ム溶液を水洗し、ワットマン1゛PSF紙に通した後、
減圧濃縮した。残渣をシリカゲル(メルク社製、 Ar
t 7734) 25 ft7J)カラムにチャージし
、ベンゼン−アセトン(5:1)で溶出するカラムクロ
マトグラフィーを行った。
00mpを追加し、さらに1時間攪拌した。反応液を食
塩飽和の冷7%アンモニア水に注ぎ、析出した橙色沈澱
物を戸数した後、クロロホルムに溶がした。クロロホル
ム溶液を水洗し、ワットマン1゛PSF紙に通した後、
減圧濃縮した。残渣をシリカゲル(メルク社製、 Ar
t 7734) 25 ft7J)カラムにチャージし
、ベンゼン−アセトン(5:1)で溶出するカラムクロ
マトグラフィーを行った。
FL?’b=0.38付近のフラクションを集め、減圧
乾固して泡状固体の27 、47−ジー〇−アセチル−
23ン ジメチルアセタール1.41 pi得た。
乾固して泡状固体の27 、47−ジー〇−アセチル−
23ン ジメチルアセタール1.41 pi得た。
参考例 2
2/、 4/−ジーO−アセチルー23−フェニルチ
オ−23−テマイシノシルー28−7’オキンデスマイ
コシン ジメチルアセター ル参考例1で得たジメチル
アセタール912m9(1mM)およびチオフェノール
510μl(5当量)をアセトニトリル10m1に溶か
し、これにKF−Al5O12,5yを加え室温で3時
間攪拌した。反応混合物を濾過し、不溶物をジエチルエ
ーテルでr液を洗液と合せて減圧濃縮して黄色油状物1
.19 fを得だ。これをシリカゲル(メルク社製、A
rt7734)2 Ofのカラムにチャージし、ベンゼ
ン−アセトン(10°1)で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行った。チオフェノールを含まないスシクン
ヨンを集めて減圧乾固して粗生成物516m!7を得た
。これを7リカゲル(メルク社製。
オ−23−テマイシノシルー28−7’オキンデスマイ
コシン ジメチルアセター ル参考例1で得たジメチル
アセタール912m9(1mM)およびチオフェノール
510μl(5当量)をアセトニトリル10m1に溶か
し、これにKF−Al5O12,5yを加え室温で3時
間攪拌した。反応混合物を濾過し、不溶物をジエチルエ
ーテルでr液を洗液と合せて減圧濃縮して黄色油状物1
.19 fを得だ。これをシリカゲル(メルク社製、A
rt7734)2 Ofのカラムにチャージし、ベンゼ
ン−アセトン(10°1)で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行った。チオフェノールを含まないスシクン
ヨンを集めて減圧乾固して粗生成物516m!7を得た
。これを7リカゲル(メルク社製。
Art 9385) 25 ?のカラムにチャージし、
ベンゼン−アセトン(10: 1)で溶出するフラッシ
ュクロマトグラフィーを行った。Rfb=0.45付近
のみのフラクションを集め、減圧乾固して2′。
ベンゼン−アセトン(10: 1)で溶出するフラッシ
ュクロマトグラフィーを行った。Rfb=0.45付近
のみのフラクションを集め、減圧乾固して2′。
4′−ジーO−アセチルー23−フェニルチオ−23−
fマイ7ノシルー23−デオキシデスマイコシン ジメ
チルアセタール159mgを得た。
fマイ7ノシルー23−デオキシデスマイコシン ジメ
チルアセタール159mgを得た。
実施例 1
2.4−ジーO−アセチルー10.11−ジヒドロ−2
3−デマイシノフルー23−デオキシ−11,23−ビ
ス(フェニルチオ)−デスマイコノン ジメチルアセク
ールのエピマーAおよびエピマーB 2’、’4’−ジーO−アセチルー23−フェニルチオ
−23−デマイシノシルー23−テオキ/デスマイコシ
ン ジメチルアセタール342m9(0,42mM)、
チオ7m/−ル0.213m1 (5倍モル)’および
炭酸水素ナトリウム175my(5倍モル)を10%含
水アセトン5 mlに溶かし、50°Cで19時間攪拌
した。反応液をクロロホルムで抽出し、抽出液を7チア
ンモニア水で洗浄し、次いでワットマンI P SP紙
に通した後、減圧濃縮して油状物670 mgを得た。
3−デマイシノフルー23−デオキシ−11,23−ビ
ス(フェニルチオ)−デスマイコノン ジメチルアセク
ールのエピマーAおよびエピマーB 2’、’4’−ジーO−アセチルー23−フェニルチオ
−23−デマイシノシルー23−テオキ/デスマイコシ
ン ジメチルアセタール342m9(0,42mM)、
チオ7m/−ル0.213m1 (5倍モル)’および
炭酸水素ナトリウム175my(5倍モル)を10%含
水アセトン5 mlに溶かし、50°Cで19時間攪拌
した。反応液をクロロホルムで抽出し、抽出液を7チア
ンモニア水で洗浄し、次いでワットマンI P SP紙
に通した後、減圧濃縮して油状物670 mgを得た。
乙の油状物はTLC上ではしfa−0,47,0,51
および0.56o :d種類ノ成分カ含有することを示
しだ。これをシリカゲル(メルク社製、 Art 93
85) 15 flのカラムにチャージし、ベンゼン−
アセトン(3:1)で溶出するカラムクロマトグラフィ
ーを行い、Rf、−0,56のエピ。
および0.56o :d種類ノ成分カ含有することを示
しだ。これをシリカゲル(メルク社製、 Art 93
85) 15 flのカラムにチャージし、ベンゼン−
アセトン(3:1)で溶出するカラムクロマトグラフィ
ーを行い、Rf、−0,56のエピ。
マーAのみを含むフラクション、および、Rf =0
047のエピマーBを主成分とするフラクションを減圧
乾固して、各々エピマーA34m9、およびエピマーB
を主成分とする生成物148〜9を得た。
047のエピマーBを主成分とするフラクションを減圧
乾固して、各々エピマーA34m9、およびエピマーB
を主成分とする生成物148〜9を得た。
R,f 〜0.47の生成物をシリカゲル(メルり社製
、A目7747)10 fのカラムにチャーンし、ベン
ゼン−アセトン(8:1)で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行い、Rfa二0.47のみを含むフラクシ
ョンを集めて減圧乾固してエピマー8,13m夕を得た
。
、A目7747)10 fのカラムにチャーンし、ベン
ゼン−アセトン(8:1)で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーを行い、Rfa二0.47のみを含むフラクシ
ョンを集めて減圧乾固してエピマー8,13m夕を得た
。
′実施例 2
10.11−ジヒドロ−23−デフイソノンルー23−
チオキシ−11,21−ビス(フェニルチオ)−fスフ
1゛コシンのエピ0マーA(IA) 実施例1で得たR fa=Q、56を示すエピ→−A5
4mgをメタノ−# 5 mlに溶かし、55℃で6.
5時間攪拌して脱2’、 4’−ジーO−アセチル化し
た後、反応液を減圧濃縮した。残渣を氷冷下10%含水
トリクロロ酢酸1 mlに溶かし、15分間攪拌して脱
アセタール化した。反応液を水に注き、アンモニア水で
p、Hを8〜9に調節しながらクロロホルムで3回抽出
した。抽出液をワットマンIPSF紙に通して乾燥した
後、減圧乾固して標記化合物のエピマー〔IA〕を得た
。収量43mgTLC;Rfc=0.34 NhiR(100MHz 、CDC63)δppm
; 1.59(s、 、 12−CH5)、2.51
(s、、、 −N (CI43)2 )、4、28 (
d、 、 )1−1’)、4.93(m、 、 H−1
8,H−15)、7.1〜7.5(m。、 71’=ル
X 2)、9.72(S。。
チオキシ−11,21−ビス(フェニルチオ)−fスフ
1゛コシンのエピ0マーA(IA) 実施例1で得たR fa=Q、56を示すエピ→−A5
4mgをメタノ−# 5 mlに溶かし、55℃で6.
5時間攪拌して脱2’、 4’−ジーO−アセチル化し
た後、反応液を減圧濃縮した。残渣を氷冷下10%含水
トリクロロ酢酸1 mlに溶かし、15分間攪拌して脱
アセタール化した。反応液を水に注き、アンモニア水で
p、Hを8〜9に調節しながらクロロホルムで3回抽出
した。抽出液をワットマンIPSF紙に通して乾燥した
後、減圧乾固して標記化合物のエピマー〔IA〕を得た
。収量43mgTLC;Rfc=0.34 NhiR(100MHz 、CDC63)δppm
; 1.59(s、 、 12−CH5)、2.51
(s、、、 −N (CI43)2 )、4、28 (
d、 、 )1−1’)、4.93(m、 、 H−1
8,H−15)、7.1〜7.5(m。、 71’=ル
X 2)、9.72(S。。
CHO)
実施例 3
10.11−ジヒドロ−23−テマイ/ノシルー23−
デオキシ−11,23−ビ、ス(フェニルチオ)−テス
マイコシンのエピマーB(IB) 実施例1で得たRfa−0,47を示すエピマーB13
1n9を実施例2に記載と同様にして脱2/、 4/−
ジ、−〇−アセチル化および脱アセタール化を行って、
標記化合物のエピマーB(IB)を得た。収量11mノ TL C; nfo=OJO N λ4 R(100MI(z、 CDCl3
) δ ppm ; 1,76(s、 、 1
2−CH5)、2.49 (s、 、 −N (CH3
)2 )、4.33(d。、H−白、4.8〜5.2’
(m、 、 H−13゜H−15)、7.1〜7.5
(m、 、 7 工=ルX2 )、9.70(s、
、 C)to’) 特許出願人 東洋醸造株式会社 代表者伊東冨士馬 手続補正書 昭和59年31 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 /、 事件の表示 昭和5g年特許願第37300号 ス 発明の名称 IO,//−ジヒドロ−23−デマイシノラ シル−23−デオキシ−//、23−ビス(フェニルチ
オ)−デヌマイコンン 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 グ よ 乙 補正の内容 明細書第2グ頁第λ行の 1トリクロロ酢酸」を 「トリフルオロ酢眩」と訂正する。
デオキシ−11,23−ビ、ス(フェニルチオ)−テス
マイコシンのエピマーB(IB) 実施例1で得たRfa−0,47を示すエピマーB13
1n9を実施例2に記載と同様にして脱2/、 4/−
ジ、−〇−アセチル化および脱アセタール化を行って、
標記化合物のエピマーB(IB)を得た。収量11mノ TL C; nfo=OJO N λ4 R(100MI(z、 CDCl3
) δ ppm ; 1,76(s、 、 1
2−CH5)、2.49 (s、 、 −N (CH3
)2 )、4.33(d。、H−白、4.8〜5.2’
(m、 、 H−13゜H−15)、7.1〜7.5
(m、 、 7 工=ルX2 )、9.70(s、
、 C)to’) 特許出願人 東洋醸造株式会社 代表者伊東冨士馬 手続補正書 昭和59年31 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 /、 事件の表示 昭和5g年特許願第37300号 ス 発明の名称 IO,//−ジヒドロ−23−デマイシノラ シル−23−デオキシ−//、23−ビス(フェニルチ
オ)−デヌマイコンン 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 グ よ 乙 補正の内容 明細書第2グ頁第λ行の 1トリクロロ酢酸」を 「トリフルオロ酢眩」と訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)、式 で表わされる化合物またはその塩。 (2)、1.1− (R)異性体である特許請求の範囲
第1項記載の化合物またはその塩。 (3)、11−(S)異性体である特許請求の範囲第1
項記載の化合物またはその塩。 (4)、11−(R)異性体と11−(S)異性体の混
合物である特許請求の範囲第1項記載の化合物寸たはそ
の塩。 基、R,、およびR12は各々低級アルキル基を示し、
R2は水酸基の保護基を示す)で表わされる化合物に含
水有機溶媒中、弱アルカリ性条件下でチオフェノールを
反応させ、で、式 (式中、■(,1およびR2は前記と同じ意味を有する
)で表わされる化合物を得、次いて該化合物基である場
合にdl、脱アセター4し化することをて表わされる化
合物またはその塩の製造法。 (6)、水酸基の保護基が低級アルカノイル基捷たはハ
ロゲン化アセチル基である特許請求の範囲第へ項記載の
製造法。 (7)、低級アルカノイル基がアセチル基である特許請
求の範囲第鶏項記載の製造法。 (8)、脱離化を含4りしていてもよい低級アルカノー
ル中て加熱処理により行う特許請求の範囲第宛々 囲第交項記載の製造法っ り (+0、脱アセタール化を酸性水で加水分解することに
より行う特許請求の範囲第認項記載の製造法1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58031500A JPS59157098A (ja) | 1983-02-25 | 1983-02-25 | 10,11−ジヒドロ−23−デマイシノシル−23−デオキシ−11,23−ビス(フエニルチオ)−デスマイコシン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58031500A JPS59157098A (ja) | 1983-02-25 | 1983-02-25 | 10,11−ジヒドロ−23−デマイシノシル−23−デオキシ−11,23−ビス(フエニルチオ)−デスマイコシン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59157098A true JPS59157098A (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=12332949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58031500A Pending JPS59157098A (ja) | 1983-02-25 | 1983-02-25 | 10,11−ジヒドロ−23−デマイシノシル−23−デオキシ−11,23−ビス(フエニルチオ)−デスマイコシン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59157098A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0154495A2 (en) * | 1984-02-27 | 1985-09-11 | Satoshi Omura | Improvements in or relating to thioether macrolide derivatives |
-
1983
- 1983-02-25 JP JP58031500A patent/JPS59157098A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0154495A2 (en) * | 1984-02-27 | 1985-09-11 | Satoshi Omura | Improvements in or relating to thioether macrolide derivatives |
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