JPS59146872A - 感熱記録ヘツドの発熱体修正方法 - Google Patents

感熱記録ヘツドの発熱体修正方法

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Publication number
JPS59146872A
JPS59146872A JP58021605A JP2160583A JPS59146872A JP S59146872 A JPS59146872 A JP S59146872A JP 58021605 A JP58021605 A JP 58021605A JP 2160583 A JP2160583 A JP 2160583A JP S59146872 A JPS59146872 A JP S59146872A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording head
thermal recording
photoresist film
film
exposed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58021605A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanobu Ito
正信 伊藤
Kenichi Araki
健一 荒木
Kaoru Ootsubo
大坪 かおる
Takeaki Nakada
仲田 威昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP58021605A priority Critical patent/JPS59146872A/ja
Publication of JPS59146872A publication Critical patent/JPS59146872A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/345Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads characterised by the arrangement of resistors or conductors

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、感熱記録ヘッド上に列状又はマ) IJクス
状に多数配列された発熱抵抗体において、製造工程で発
生した断線及び欠は箇所の修正方法に関するものである
(背景技術) 従来の、例えばB4判印字用の感熱記録ヘッドで8本/
 mm以上の高分解能を有する場合、列状に2000本
以上の発熱抵抗体が配列される。この発熱抵抗体の形成
には、フォトエツチング技術が使用されるが、その際、
フォトマスクの欠陥あるいはフォトレジスト中のゴミの
混入により、発熱抵抗部や電極に断線や断線に至っては
いないが幅が細くなり、電流を流すと焼損するおそれの
ある欠け、あるいはパターンショートが発生したりする
。パターンショートの場合、レーザートリマ等テショー
ト部分を切断し、修正は可能である。次に断線もしくは
断線に近い欠けの修正の場合、電極部分はワイヤーボン
ディング等で修正可能であるが、発熱抵抗体の場合、そ
の基板は不良品となり廃棄さえしていた。
(発明の目的) 本発明の目的は、これらの欠点を解決するため、従来困
難とされていた発熱抵抗体の修正を行ない、不良品とし
て扱っていた基板を生かすようにし、信頼性の高い、感
熱記録ヘッドの発熱抵抗体の断線、欠けの修正方法を提
供するものである。以下、図面により実施例を詳細に説
明する。
(発明の構成及び作用) 第1図、第2図及び第3図は、本発明による感熱記録ヘ
ッドの発熱体修正方法の一実施例を示す図である。第1
図は修正箇所を示す発熱抵抗部の平面図、第2図は修正
工程の断面図、及び第3図は修正後の拡大平面図である
。第1図において、1は感熱記録ヘッド上に列状又はマ
) IJクス状に多数配列された発熱抵抗体の1つ、2
はアルミニウム等で形成される電極で、その下地として
Ni−Cr膜が形成されている。3は発熱抵抗体]の断
線と欠は箇所を示している。
断線箇所3の修正工程として、まず感熱記録ヘッド全面
にフォトレジスト4を塗布し、断線及び欠は箇所にスポ
ット露光し現像すると第2図に示すような断面図になり
、この後全面に任意の修正金属膜を無力Ω熱蒸着する。
次に全面が修正金属膜で覆われた基板をフォトレジスト
剥離液、例えばアセトンあるいはAzリムーバー等でフ
ォトレジスト4を除去することにより、第3図に示すよ
うに発熱抵抗体の断線及び欠は箇所3に任意の修正金属
膜6が埋められた状態で修正される。
ここでスポット露光では、フォトマスク製作時の欠陥修
正に多ぐ使用され、極めて微細な加工を要する時に利用
されるフォ) IJソ技術の一種を用いることができる
。一般には光学系と露光系が一体となっており、微細な
加工を要する場所を光学系によって手動あるいは自動的
に探し、加工する部分のみ露光することができる。
また、前記任意の修正金属の選択基進は、基板5に対し
て接着性が良いことである。例えばCr。
Cr−8i、Ni−Cr、Ta−8i、Zr−N、Zr
−8i及びその他の金属が挙げられる。
例えば、Cr−8i膜を用いた場合の蒸着方法は一般に
使用されている蒸着装置ならどれでもよく、スパッタ法
を用いてもよい。このCr−8i膜は基板との接着はも
ちろんTa2Nとの接着もよく、電気的なオーミックも
とり易い。しかもTa2Nの固有抵抗300(μΩ−C
rrL)に近い1000(μΩ−cTt)から30 X
 10−”(Ω−CTL)と広範囲である。また’r(
lはTa2Nの−200X 1.0−’ (/℃)に対
し−50X 1O−6(/℃)と両方共マイナスの値を
持つ共通性がある。このようなCr−8i膜で発熱抵抗
体の断線及び欠は箇所を修正する場合、実用的なCr−
8i膜中のCrの比率は約40〜90(wt%)であり
、40(wt%)以下であると接着力及び電気的なオー
ミックが著しく低下する。
また90(wt%)以上であると、はとんどCr膜と同
じ特性を示す。
このようにして修正された発熱抵抗体と無修正の発熱抵
抗体とを比較した結果、抵抗値は実験値で無修正より1
0(%)、50(Ω)高かった。この修正した発熱体で
印字試験し、印字濃度の最大値の電力の値と、ステンブ
ス、ドレス試験での破壊電力の値を比較した結果、約1
.5倍以上ステップストレス試験での破壊電力の値が勝
ったことからも、十分発熱抵抗体の修正材料として使用
することができる。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば従来困難とされて
いた感熱記録ヘッド用発熱抵抗体の断線及び欠は部分を
確実に修正することができ、しかもその修正箇所の信頼
性は高い。そして従来不良品として廃棄されていた抵抗
基板を生かして有効に使用することができるので、経済
的メリットが極めて大きい。更に、工程中にエツチング
工程を含まないので、任意の修正金属をエツチングする
ためのエッチャントが不要であり、かつ修正のためのフ
ォ) IJソ工程も一度で済むことから、修正のための
工数及び歩留りにも多大な効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は修正箇所を示す発熱抵抗部の平面図、第2図は
修正工程の断面図、及び第3図は修正後の拡大平面図で
ある。 1・・・・・・発熱抵抗体 2・・・・・・電極 3・・・・・・断線及び欠は箇所 4・・・・・・フォトレジスト 5・・・・・・グレーズアルミナ基板 6・・・・・・修正金属膜 特許出願人 沖電気工業株式会社 特許出願代理人 弁理士   山  本  恵  − (7) 泉/図 孔2 図 / 菓3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 感熱記録ヘッド上に列状又はマ) IJクス状に多数配
    列される発熱抵抗体の修正方法において、フォトレジス
    ト膜を前記感熱記録ヘッド全面に形成し、しかる後に発
    熱抵抗体上の断線及び欠は箇所をスポット露光し、続い
    て現像し露光部のフォトレジスト膜を除去した後に金属
    膜を前記感熱記録ヘッド全面に形成し、その後フォトレ
    ジスト膜を除去することを特徴とする感熱記録ヘッドの
    発熱体修正方法。
JP58021605A 1983-02-14 1983-02-14 感熱記録ヘツドの発熱体修正方法 Pending JPS59146872A (ja)

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JP58021605A JPS59146872A (ja) 1983-02-14 1983-02-14 感熱記録ヘツドの発熱体修正方法

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JP58021605A JPS59146872A (ja) 1983-02-14 1983-02-14 感熱記録ヘツドの発熱体修正方法

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JPS59146872A true JPS59146872A (ja) 1984-08-22

Family

ID=12059663

Family Applications (1)

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JP58021605A Pending JPS59146872A (ja) 1983-02-14 1983-02-14 感熱記録ヘツドの発熱体修正方法

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