JPS591464A - β−ラクタム化合物及びその製法 - Google Patents
β−ラクタム化合物及びその製法Info
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- JPS591464A JPS591464A JP57110335A JP11033582A JPS591464A JP S591464 A JPS591464 A JP S591464A JP 57110335 A JP57110335 A JP 57110335A JP 11033582 A JP11033582 A JP 11033582A JP S591464 A JPS591464 A JP S591464A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発8Aは一般式
な有する強力な抗菌活性を有するペネム誘導体の中間体
として有用である新規なβ−ラクタム化合物及びその製
法に関するものである。
として有用である新規なβ−ラクタム化合物及びその製
法に関するものである。
上記式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2
は水酸基の保護基を示し、R6は弗素原子で置換さt″
した直鎖または分岐状の低級アルキル基ン示す。
は水酸基の保護基を示し、R6は弗素原子で置換さt″
した直鎖または分岐状の低級アルキル基ン示す。
前記一般式(1)において、R2が示す水酸基の保M基
としては、例えばp−ニトロベンジルオキシカルボニル
、0−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンジルオキ
シカルボニルのような置換きれてもよいベンジルオキシ
カルボニル基ニアセチル、プロピオニル、ブチリルのよ
うな低級アルカノイル基;トリエチルシリル、tert
−ブチルジメチルシリル、ジフェニルむθrt−ブチ
ルシリルのようなトリ低級アルキル若しくはジアリール
低級アルキルシリル基;メトキシメチル、1−エトキシ
エチル、1−メチル−1−メトキシエチル、2−メトキ
シエトキシメチル、2.2.2−1リクロロエトキシメ
チルのような低級アルコキシ基若し゛〈はハロゲン原子
で置換されてもよい低級アルコキシ低級アルキル基;ベ
ンゾイルオキシメチルのようなアリールヵルホ゛ニルオ
ギシメチル基′!1′たはエトキシカルボニル、n−プ
ロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、2,2
.2−1リクロロエトキシカルボニルのようなハロゲン
原子で置換さ扛てもよい低級アルコキシカルボニル基を
あげることができるが、好適にはトリエチルシリル、t
ert−ブチルジメチルシリルまfCはジフェニルte
rt−プチルシリル基であり、特に好適にはtert−
ブチルジメチルシリル基である。R6が示す弗素原子で
置換さnた直鎖または分岐状の低級アルキル基としては
、例えば2−フルオロエテル、3−フルオロプロピル、
1−フルオロ−2−プロピル、4−フルオロブチル、1
,3−ジフルオロ−2−プロピル、2,2.2−)リフ
ルオロエチルのような弗素原子で置換された炭素数1乃
至4個のi1鎖状まfcは分岐状のアルキル基ンあげる
ことができるが、好適には2〜フルオロエチル、3−フ
ルオロプロピルま7’(は1−フルオロ−2−プロピル
基である。
としては、例えばp−ニトロベンジルオキシカルボニル
、0−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンジルオキ
シカルボニルのような置換きれてもよいベンジルオキシ
カルボニル基ニアセチル、プロピオニル、ブチリルのよ
うな低級アルカノイル基;トリエチルシリル、tert
−ブチルジメチルシリル、ジフェニルむθrt−ブチ
ルシリルのようなトリ低級アルキル若しくはジアリール
低級アルキルシリル基;メトキシメチル、1−エトキシ
エチル、1−メチル−1−メトキシエチル、2−メトキ
シエトキシメチル、2.2.2−1リクロロエトキシメ
チルのような低級アルコキシ基若し゛〈はハロゲン原子
で置換されてもよい低級アルコキシ低級アルキル基;ベ
ンゾイルオキシメチルのようなアリールヵルホ゛ニルオ
ギシメチル基′!1′たはエトキシカルボニル、n−プ
ロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、2,2
.2−1リクロロエトキシカルボニルのようなハロゲン
原子で置換さ扛てもよい低級アルコキシカルボニル基を
あげることができるが、好適にはトリエチルシリル、t
ert−ブチルジメチルシリルまfCはジフェニルte
rt−プチルシリル基であり、特に好適にはtert−
ブチルジメチルシリル基である。R6が示す弗素原子で
置換さnた直鎖または分岐状の低級アルキル基としては
、例えば2−フルオロエテル、3−フルオロプロピル、
1−フルオロ−2−プロピル、4−フルオロブチル、1
,3−ジフルオロ−2−プロピル、2,2.2−)リフ
ルオロエチルのような弗素原子で置換された炭素数1乃
至4個のi1鎖状まfcは分岐状のアルキル基ンあげる
ことができるが、好適には2〜フルオロエチル、3−フ
ルオロプロピルま7’(は1−フルオロ−2−プロピル
基である。
また前記一般式(1)において、好適には以下に示す化
合物をあげることができる。
合物をあげることができる。
C13R4が水系原子であり、R2が水酸基の保護基で
あり、R5が弗素原子1個で置換された直鎖またに分岐
状の低級アルキル基である化合物。
あり、R5が弗素原子1個で置換された直鎖またに分岐
状の低級アルキル基である化合物。
(27Rが水素原子であり、R2が水酸基の保護基であ
り、礼が2−フルオロエチル、1−フルオロ−2−プロ
ピルまたは3−フルオロプロピル基である化合物。
り、礼が2−フルオロエチル、1−フルオロ−2−プロ
ピルまたは3−フルオロプロピル基である化合物。
(3〕 馬が水系原子であり、R2がトリエチルシリ
ル基、tert−ブチルジメチルシリル基またはジフェ
ニルtart−ブナルシリル基であり、R3が’2−フ
ルオロエチル、1−フルオロ−2−プロピルまたは3−
フルオロプロピル基である化合物っ (4〕Rが水素原子であり、R2がジメチル−tert
一ブテルシリル基であり、R5か2−フルオロエチル、
1−フルオロプロピルまたは3−フルオロプロピル基で
ある化合物。
ル基、tert−ブチルジメチルシリル基またはジフェ
ニルtart−ブナルシリル基であり、R3が’2−フ
ルオロエチル、1−フルオロ−2−プロピルまたは3−
フルオロプロピル基である化合物っ (4〕Rが水素原子であり、R2がジメチル−tert
一ブテルシリル基であり、R5か2−フルオロエチル、
1−フルオロプロピルまたは3−フルオロプロピル基で
ある化合物。
また、本発明によって得られる前記一般式(1〕を有す
る化合物においてげアゼチジノン環の3述したものと同
意義ン示す。)の不斉炭素におけ心配位によって種々の
立体異性体が存在する。
る化合物においてげアゼチジノン環の3述したものと同
意義ン示す。)の不斉炭素におけ心配位によって種々の
立体異性体が存在する。
前記一般式(1〕においてに、これらの異性体およびこ
れらの異性体の混合物がすべて率−の式で示芒nている
が、これにエリ本発明の記載の範囲は限定されるもので
はない。しかしながら、特に好適には(3E1.4Fl
) 配位を有する化合物をあげることができる。
れらの異性体の混合物がすべて率−の式で示芒nている
が、これにエリ本発明の記載の範囲は限定されるもので
はない。しかしながら、特に好適には(3E1.4Fl
) 配位を有する化合物をあげることができる。
近年耐性菌の著しい増加に伴ない、抗菌スペクトルが広
くしかも強い抗菌活性!有する化学治療剤が広く望まれ
ている。本発明者等は長年に亘り、ベネム誘導体の合成
とそれらの抗菌活性について鋭意研究ン重ねた結果、前
記一般式(1)で衣わされる新規な化合物がすぐれた抗
菌活性を有するベネム−3−カルボン酸誘導体の重をな
合成中間体であることおよび従来の方法に比べ、収率が
著しく向上した化合物(1〕の新規な合成方法を見出し
て、本発明を完成するに到つた。
くしかも強い抗菌活性!有する化学治療剤が広く望まれ
ている。本発明者等は長年に亘り、ベネム誘導体の合成
とそれらの抗菌活性について鋭意研究ン重ねた結果、前
記一般式(1)で衣わされる新規な化合物がすぐれた抗
菌活性を有するベネム−3−カルボン酸誘導体の重をな
合成中間体であることおよび従来の方法に比べ、収率が
著しく向上した化合物(1〕の新規な合成方法を見出し
て、本発明を完成するに到つた。
本発明に係る化合物(1〕の類似化合物は、例えば特開
昭55−105686号公報に開示されているが、同公
報記載の方法(製造例A [V印に従って、反応を行な
っても、目的とする化合物(1)は得られなかった。
昭55−105686号公報に開示されているが、同公
報記載の方法(製造例A [V印に従って、反応を行な
っても、目的とする化合物(1)は得られなかった。
本発明によって得られる前記一般式(1〕馨有する化合
物としては例えば以下に記載する化合物があげられる。
物としては例えば以下に記載する化合物があげられる。
1、 (38,4R,5R)−3−(1−tart−
ブチルジメチルシリルオキシエテル)−4−4(2−フ
ルオロエチルチオ)カルボッチオイルチオ]アゼチジン
−2−オン 2、 (38,4R,SR) −3−(1−’ter
t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−[(3
−フルオロプロピルチオ)カルボッチオイルチオ]アゼ
チジン−2−オン 3、 (38,4R,5R)−3−(1−tart−
ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−[(1−フ
ルオロ−2−プロピルチオ)カルボッチオイルチオ]ア
ゼチジン−2−オン 4、 (3B、4R,5R)−3−(1−アセトキシ
エチル)−4−[(2−フルオロエテルチオ)カルボッ
チオイルチオ」アゼチジン−2−オン 5、 (3B、4R,5B)−3−(1−プロビオニ
ルオキシエナル)−4−[(2−フルオロエチルチオ)
カルボノチオイルテオコアゼナジンー2−オン 6、 (38,4R,5R)−3−(1−ブチリルオ
キシエチル)−4−[(2−フルオロエテルチオ)カル
ボッチオイルチオ」アゼチジン−2−オン ?、 (38,4R,5R)−3−(1−エトキシカ
ルボニルオキシエチル)−4−[(2−フルオロエテル
チオ)カルボッチオイルチオ]アゼチジン−2−オン 8、 (3s、4n、5p)−3−(t−プロポキシ
カルボニルオキシエチル)−4−[(2−フルオロエテ
ル チオ)カルボノテオイルナオ]アゼチジン−2−オ
ン 9、 (3B、4R,5R)−3−(1−(2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)エテル]−
4−[(2−フルオロエテルチオ)カルボッチオイルチ
オ」アゼチジン−2−オン10、 (38,4Fl、
5R)−3−(1−p−ニトロベンジルオキ7カルボニ
ルオキシエチル)−4−[(2−フルオロエテルチオ)
カルボッチオイルチオ]アゼチジン−2−オン 11、 (38,4R,5R)−3−(1−o−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)−4−[(
2−フルオロエチルチオ)カルボッチオイルチオ]アゼ
チジン−2−オン 12、 (38,4丘、5R)−3−(1−イソブト
キシカルボニルオキシエテル)−4−[(2−フルオロ
エテル チオ)カルボッチオイルチオ〕本発明の前記一
般式(1〕馨有する化合物は以下に示す方法によって製
造することができる。
ブチルジメチルシリルオキシエテル)−4−4(2−フ
ルオロエチルチオ)カルボッチオイルチオ]アゼチジン
−2−オン 2、 (38,4R,SR) −3−(1−’ter
t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−[(3
−フルオロプロピルチオ)カルボッチオイルチオ]アゼ
チジン−2−オン 3、 (38,4R,5R)−3−(1−tart−
ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−[(1−フ
ルオロ−2−プロピルチオ)カルボッチオイルチオ]ア
ゼチジン−2−オン 4、 (3B、4R,5R)−3−(1−アセトキシ
エチル)−4−[(2−フルオロエテルチオ)カルボッ
チオイルチオ」アゼチジン−2−オン 5、 (3B、4R,5B)−3−(1−プロビオニ
ルオキシエナル)−4−[(2−フルオロエチルチオ)
カルボノチオイルテオコアゼナジンー2−オン 6、 (38,4R,5R)−3−(1−ブチリルオ
キシエチル)−4−[(2−フルオロエテルチオ)カル
ボッチオイルチオ」アゼチジン−2−オン ?、 (38,4R,5R)−3−(1−エトキシカ
ルボニルオキシエチル)−4−[(2−フルオロエテル
チオ)カルボッチオイルチオ]アゼチジン−2−オン 8、 (3s、4n、5p)−3−(t−プロポキシ
カルボニルオキシエチル)−4−[(2−フルオロエテ
ル チオ)カルボノテオイルナオ]アゼチジン−2−オ
ン 9、 (3B、4R,5R)−3−(1−(2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)エテル]−
4−[(2−フルオロエテルチオ)カルボッチオイルチ
オ」アゼチジン−2−オン10、 (38,4Fl、
5R)−3−(1−p−ニトロベンジルオキ7カルボニ
ルオキシエチル)−4−[(2−フルオロエテルチオ)
カルボッチオイルチオ]アゼチジン−2−オン 11、 (38,4R,5R)−3−(1−o−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)−4−[(
2−フルオロエチルチオ)カルボッチオイルチオ]アゼ
チジン−2−オン 12、 (38,4丘、5R)−3−(1−イソブト
キシカルボニルオキシエテル)−4−[(2−フルオロ
エテル チオ)カルボッチオイルチオ〕本発明の前記一
般式(1〕馨有する化合物は以下に示す方法によって製
造することができる。
第1工程 第2工程
上記式中、R,、R2およびR5は前述したものと同意
義を示し、R4はメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチルの工うな直鎖若しくは分岐状の低
級アルキル基またはフェニル のようなアリール基を示
すが、特に好適にはメチル基である。R5はメチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチルのよう
な低級アルキル基を示すが、特に好適にはメチル基であ
る。Mはナトリウム、カリウム、リチウムのようなアル
カリ金属を示すが、特に好適にはナトリウムである。Y
は、アセトキシ、プロピオニルオキシのような低級アル
カノイルオキシ基、メタンスルホニル、エクンスルホニ
ルカン のような低級ア、ルキ≠スルホニル基、ベンゼンスルホ
ニル、p−トルエンスルホニルのよウナアリールスルホ
ニル基または塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子ケ
示すが、好適にはアセトキシ基、メタンスルホニル基ま
たは塩素原子である。さらに特に好適にはアセトキシ基
である。
義を示し、R4はメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチルの工うな直鎖若しくは分岐状の低
級アルキル基またはフェニル のようなアリール基を示
すが、特に好適にはメチル基である。R5はメチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチルのよう
な低級アルキル基を示すが、特に好適にはメチル基であ
る。Mはナトリウム、カリウム、リチウムのようなアル
カリ金属を示すが、特に好適にはナトリウムである。Y
は、アセトキシ、プロピオニルオキシのような低級アル
カノイルオキシ基、メタンスルホニル、エクンスルホニ
ルカン のような低級ア、ルキ≠スルホニル基、ベンゼンスルホ
ニル、p−トルエンスルホニルのよウナアリールスルホ
ニル基または塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子ケ
示すが、好適にはアセトキシ基、メタンスルホニル基ま
たは塩素原子である。さらに特に好適にはアセトキシ基
である。
本発明の方法は一般式(薦)を有する化合物と一般式α
)Y有する化合物を反応させ、一般式R55M
(資) (式中、R5お工びMは前述したものと同意iRン示す
。)を有する化合物を反応液中に、製造し、次いで得ら
れた化合物(資)と二硫化炭素を反応させ、一般式(V
J’に有する化合物を反応液Φに、製造し、さらに得ら
れた化合物■〕と一般式(1)を有する化合物ン反応さ
せ、目的化合物(1)ヲ製造するものである。
)Y有する化合物を反応させ、一般式R55M
(資) (式中、R5お工びMは前述したものと同意iRン示す
。)を有する化合物を反応液中に、製造し、次いで得ら
れた化合物(資)と二硫化炭素を反応させ、一般式(V
J’に有する化合物を反応液Φに、製造し、さらに得ら
れた化合物■〕と一般式(1)を有する化合物ン反応さ
せ、目的化合物(1)ヲ製造するものである。
第1工程は化合物CM)から化合物(VJY製造する工
程で、不活性溶剤中、化合物(1)と化合物■ン反応爆
せ几後に二硫化炭素ン反応せることによって達成さ扛る
が、好適には化合物(1)と二値化炭素共存下に、化合
物σ〕を少量づつ添加することによって実施することが
できる。
程で、不活性溶剤中、化合物(1)と化合物■ン反応爆
せ几後に二硫化炭素ン反応せることによって達成さ扛る
が、好適には化合物(1)と二値化炭素共存下に、化合
物σ〕を少量づつ添加することによって実施することが
できる。
本工程に使用される不活性溶剤としては本反応に関与し
なければ特に限定されないが、メタノール、エタノール
のようなアルコール類またはエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類をあげることができる。溶剤と
してアルコール類を用いる場合は、通常アルコール残基
と同一のアルコキシド誘導体@)ヲ用いる。反応温度は
化合物(ロ)および化合物(V)の安定性によって異な
るが、通常−50℃乃至0℃であり、好適には一30℃
乃至−5℃である。反応時間は反応温度または原料化合
物若しくは溶剤の種類に工っで異なるが化合物CVD娑
製造する段階でに1分間乃至10分間であり、化合物(
VJ ’aj製造する段階では数分間乃至数時間である
。
なければ特に限定されないが、メタノール、エタノール
のようなアルコール類またはエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類をあげることができる。溶剤と
してアルコール類を用いる場合は、通常アルコール残基
と同一のアルコキシド誘導体@)ヲ用いる。反応温度は
化合物(ロ)および化合物(V)の安定性によって異な
るが、通常−50℃乃至0℃であり、好適には一30℃
乃至−5℃である。反応時間は反応温度または原料化合
物若しくは溶剤の種類に工っで異なるが化合物CVD娑
製造する段階でに1分間乃至10分間であり、化合物(
VJ ’aj製造する段階では数分間乃至数時間である
。
反応終了恢、本工程の目的化合物■〕は、取す出すこと
なく、低温に保ったまま第2工程の反応に用いられる。
なく、低温に保ったまま第2工程の反応に用いられる。
第2工程は化合物(1〕ヲ製造する工程で、不活性溶剤
中、化合物■〕と化合物(If) Y反応させることに
よって達成される。
中、化合物■〕と化合物(If) Y反応させることに
よって達成される。
使用埒れる溶剤としては本反応に関与しないものなら特
に限定されないが、好適には前記第一工程と同様な溶剤
が使用される。反応温度は通常−50℃乃至室温付近で
あり1反応に璧する時間は反応温度または原料化合物若
しくは溶剤の種類によって異なるが、数分間乃至48時
間である。
に限定されないが、好適には前記第一工程と同様な溶剤
が使用される。反応温度は通常−50℃乃至室温付近で
あり1反応に璧する時間は反応温度または原料化合物若
しくは溶剤の種類によって異なるが、数分間乃至48時
間である。
反応終了後、本工程の目的化合物(1〕は常法に従って
反応混合物から採取きれる。例えば反応混合物に水と混
智しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤ケ留去すること
によって得られる1゜得らnた目的化合物は会費ならば
常法、例えば再結晶、再沈澱またはクロマトグラフィー
などによって更に精製することができる。
反応混合物から採取きれる。例えば反応混合物に水と混
智しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤ケ留去すること
によって得られる1゜得らnた目的化合物は会費ならば
常法、例えば再結晶、再沈澱またはクロマトグラフィー
などによって更に精製することができる。
本発明の前記一般式(1)ヲ有する化合物から以下に示
す方法に従ってすぐれた抗菌活性な有するペネム−3−
カルボン酸誘導体(Xll)Y製造することができる。
す方法に従ってすぐれた抗菌活性な有するペネム−3−
カルボン酸誘導体(Xll)Y製造することができる。
(IX) (X)
(XI) (XI)上記式中、
R1* R2お工びR3は前述したものと同意義!示し
、■、はカルボン酸の保護基を示し、Xは塩素、臭累、
沃素のようなノAロゲン原子ヶ示1.2■はトリー。−
プf7゜オユオ=オのようなトリ低級アルキルホスホニ
オ基若しくハトリフェニルホスホニオのようなアリール
ホスホニオなどの三置換ホスホニオ基またはリチウム若
しくはナトリウムイオンを伴なったジエチルホスホノ基
のような陽イオンケ伴なったジを有するグリオキシ酸ニ
スデル誘導体を付加さることによって一般式(IX)Y
有する化合物を製造することができる(第2工程)。
R1* R2お工びR3は前述したものと同意義!示し
、■、はカルボン酸の保護基を示し、Xは塩素、臭累、
沃素のようなノAロゲン原子ヶ示1.2■はトリー。−
プf7゜オユオ=オのようなトリ低級アルキルホスホニ
オ基若しくハトリフェニルホスホニオのようなアリール
ホスホニオなどの三置換ホスホニオ基またはリチウム若
しくはナトリウムイオンを伴なったジエチルホスホノ基
のような陽イオンケ伴なったジを有するグリオキシ酸ニ
スデル誘導体を付加さることによって一般式(IX)Y
有する化合物を製造することができる(第2工程)。
第3工程は一般式(IX)を有する化合物ヲリンーイリ
ド化合物に変換する工程で、反応は化合物(IX)Y溶
剤の存在下にホスフィン化合物若しくは亜リン酸エステ
ル化合物および塩基と接触埒せることによって達成され
る。
ド化合物に変換する工程で、反応は化合物(IX)Y溶
剤の存在下にホスフィン化合物若しくは亜リン酸エステ
ル化合物および塩基と接触埒せることによって達成され
る。
第4工程は一般式(XI) Y有するペネム−3−カル
ボン酸−導体を製造する工程で、化合物(X)ン加熱し
て、閉環反応に付すことによって達成される。
ボン酸−導体を製造する工程で、化合物(X)ン加熱し
て、閉環反応に付すことによって達成される。
第5工程は化合物(Xl)における水酸基の保護基R2
およびカルボキシル基の保護基R6Y除去する工程であ
り、β−ラクタム系抗菌剤の合成に関する分野の通常の
方法、例えば特開昭51−22181号公報記載の方法
に従って行うことができる。
およびカルボキシル基の保護基R6Y除去する工程であ
り、β−ラクタム系抗菌剤の合成に関する分野の通常の
方法、例えば特開昭51−22181号公報記載の方法
に従って行うことができる。
以上の工程で製造場れた化合物(XI) において、R
1が水素原子であり、′R3が2−フルオロエチル基で
ある化合物(XI a)は黄色ブドウ状球菌、枯草菌な
どのダラム陽性菌および太陽菌、赤痢菌、肺炎桿菌、変
形菌などのダラム陰性菌を包含する広範囲の病原菌に対
してすぐ扛た抗菌活性ン示した。
1が水素原子であり、′R3が2−フルオロエチル基で
ある化合物(XI a)は黄色ブドウ状球菌、枯草菌な
どのダラム陽性菌および太陽菌、赤痢菌、肺炎桿菌、変
形菌などのダラム陰性菌を包含する広範囲の病原菌に対
してすぐ扛た抗菌活性ン示した。
従って、本発明はすぐ1rL7c抗菌作用を表わすペネ
ム−3−カルボン酸誘導体の重接合成中間体である化付
物(1)および従来の方法に比べ、収率が著しく向上し
た化合物(1〕の新規な合成方法を提供するものである
。
ム−3−カルボン酸誘導体の重接合成中間体である化付
物(1)および従来の方法に比べ、収率が著しく向上し
た化合物(1〕の新規な合成方法を提供するものである
。
次に実施例および参考例ンあげ本発明をさらに具体的に
説明する。
説明する。
実施例 1
2−フルオロエチルチオアセテート(2681n9)馨
無水メタノール4mtK溶解し約−15℃に冷却する。
無水メタノール4mtK溶解し約−15℃に冷却する。
窒素気流中、0.5Mナトリウムメトキシドのメタノー
ル溶液(4ml)乞滴下し約5分間攪拌しく132μl
)の二硫化炭素を加え、約−15℃で約15分間攪拌し
た。(3E]、4丘、5R)−3−(1−tθrt−ブ
チルジメチルシリルオキシエテル)−4−アセトキシア
ゼチジン−2−オン(604■)を加え −15°〜−
10℃で2.5時間、ζらに0°〜5℃で15分間攪拌
した後酢酸(o、zlmA)を加え、酢酸エチル、食塩
水を加えて抽出した。食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシュウムで乾燥し溶剤を留去した後残渣乞シリカゲ
ルヶ用い友カラムクロマトグラフィー(展開剤、ベンゼ
ン−酢酸エテル10:1)で精製すると、融点106−
107 ’C,ン有する目的化合物(3451119)
と原料化合物である( 3S、4R。
ル溶液(4ml)乞滴下し約5分間攪拌しく132μl
)の二硫化炭素を加え、約−15℃で約15分間攪拌し
た。(3E]、4丘、5R)−3−(1−tθrt−ブ
チルジメチルシリルオキシエテル)−4−アセトキシア
ゼチジン−2−オン(604■)を加え −15°〜−
10℃で2.5時間、ζらに0°〜5℃で15分間攪拌
した後酢酸(o、zlmA)を加え、酢酸エチル、食塩
水を加えて抽出した。食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシュウムで乾燥し溶剤を留去した後残渣乞シリカゲ
ルヶ用い友カラムクロマトグラフィー(展開剤、ベンゼ
ン−酢酸エテル10:1)で精製すると、融点106−
107 ’C,ン有する目的化合物(3451119)
と原料化合物である( 3S、4R。
5R) 3 (i tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエテル)−4−アセトキシアゼチジン−2−
オン(131■)が得られた。
リルオキシエテル)−4−アセトキシアゼチジン−2−
オン(131■)が得られた。
KBr −1。
赤外線吸収スペクトル νmaxan 、 3050
*1765、 1725゜ 核磁気共鳴吸収スペクトル δppm ODO16(
60MH2):0−89 (9H* e ) 、1−2
1 (3HId 、J =60H2)。
*1765、 1725゜ 核磁気共鳴吸収スペクトル δppm ODO16(
60MH2):0−89 (9H* e ) 、1−2
1 (3HId 、J =60H2)。
3.20(I H,t 、 、T=2.0Hz)、 3
.68(2H,at。
.68(2H,at。
J=21.0 、6.0H2) 、 4.00〜4.5
0(IH,m) 。
0(IH,m) 。
4.59(2H,4t、J=47.0,6.0Hz)、
5.65(I H* d −J ”” 2.OH2)
−6−65(I H、br)B法 (共存法) 2−フルオロエチルチオアセテート(268シ9)と二
値、化炭素(132μり乞無水メタノール(4鮮)に溶
解し約−15℃に冷却する。窒素気流中、0.5Mナト
リウムメトキシドのメタノール溶液(4mt)ン約15
分かかつてゆっくり滴下し 約−15°Gで30分間攪
拌しi。(3S、4R,5R)−3−(1−tart−
ブチルジメチルシリルオキシエテル)−4−アセトキシ
アゼチジン−2−オ/(604Iv)Y加え、−15°
〜−10℃で約1時間攪拌すると目的化合物の結晶が析
出しはじめる。反応液ンそのま1約−20℃の冷凍庫中
に1夜放置した俊A法と同様に処理、精製して目的化合
物(536■)を得た。
5.65(I H* d −J ”” 2.OH2)
−6−65(I H、br)B法 (共存法) 2−フルオロエチルチオアセテート(268シ9)と二
値、化炭素(132μり乞無水メタノール(4鮮)に溶
解し約−15℃に冷却する。窒素気流中、0.5Mナト
リウムメトキシドのメタノール溶液(4mt)ン約15
分かかつてゆっくり滴下し 約−15°Gで30分間攪
拌しi。(3S、4R,5R)−3−(1−tart−
ブチルジメチルシリルオキシエテル)−4−アセトキシ
アゼチジン−2−オ/(604Iv)Y加え、−15°
〜−10℃で約1時間攪拌すると目的化合物の結晶が析
出しはじめる。反応液ンそのま1約−20℃の冷凍庫中
に1夜放置した俊A法と同様に処理、精製して目的化合
物(536■)を得た。
実施例 2
3−フルオロプロピルチオールアセテート(5,4g)
と二硫化炭素(2,38ii7りケ無水メタノール(7
2rnty−溶解し、約−15℃に冷却する。
と二硫化炭素(2,38ii7りケ無水メタノール(7
2rnty−溶解し、約−15℃に冷却する。
窒素気流中、0.5Mナトリウムメトキシドのメタノー
ル溶液(72ml)5約−15℃に保ちながう20分間
でゆっくり滴下する。滴下後、−20℃〜−15℃で3
0分間攪拌し友。(3B、4R,5R)−3(1tar
tブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセトキ
シアゼチジン−2−オン(10,9g)’Y加え、約−
15℃で約1時間攪拌すると目的化合物の結晶が析出し
はじめる。反応液lその甘ま約−2θ℃の冷凍庫中に放
置した仮実施例1のA法と同様に処理、精製すると、融
点92〜93℃を有する目的化付物 9.469か得ら
れた。
ル溶液(72ml)5約−15℃に保ちながう20分間
でゆっくり滴下する。滴下後、−20℃〜−15℃で3
0分間攪拌し友。(3B、4R,5R)−3(1tar
tブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセトキ
シアゼチジン−2−オン(10,9g)’Y加え、約−
15℃で約1時間攪拌すると目的化合物の結晶が析出し
はじめる。反応液lその甘ま約−2θ℃の冷凍庫中に放
置した仮実施例1のA法と同様に処理、精製すると、融
点92〜93℃を有する目的化付物 9.469か得ら
れた。
Nujol −1。
赤外線吸収スペクトル νmax cm 、314
0*3080、 1765. 1730 核磁気共鳴スペクトル δppm CJDCI、 (6
0MH2):0.89(9H,s)、1.21(3H,
d、J=6.0Hz)。
0*3080、 1765. 1730 核磁気共鳴スペクトル δppm CJDCI、 (6
0MH2):0.89(9H,s)、1.21(3H,
d、J=6.0Hz)。
2.1 0(2H,d quintet、J=25.
0 .6.0H2)。
0 .6.0H2)。
3.20(1)(、t、、T=20H2)、3.48(
2H,tlJ=6.0Hz)、4.01〜4.41(I
H,m)、4.51(2H,dri、、T=47.0,
6.0H2)、5.67(IH。
2H,tlJ=6.0Hz)、4.01〜4.41(I
H,m)、4.51(2H,dri、、T=47.0,
6.0H2)、5.67(IH。
a、J=2.0 )、6.77(IH,br )実施
例 3 メチルシリルオキシエチル)4−[(2−7□ 2−フルオロプロピルチオールアセテート(2,e &
)と二硫化炭素(1,261117り馨無水メタノー
ル(401t6)に溶解し、約−15℃に冷却する。
例 3 メチルシリルオキシエチル)4−[(2−7□ 2−フルオロプロピルチオールアセテート(2,e &
)と二硫化炭素(1,261117り馨無水メタノー
ル(401t6)に溶解し、約−15℃に冷却する。
窒素気流中、0.5Mナトリウムメトキシドのメタノー
ル溶液(39vtl)’17約−20℃に保ちながら1
0分間で滴下する。滴下後−20℃で30分間攪拌した
。(3S 、 4 R、S R) −3−(1−ter
t−ブチルジメチルシリルオキシエテル)−4−アセト
キシアゼチジン−2−オン(5,9,!i’)Y加え、
約−20℃の冷凍庫に約20時間放置した後、冥施例1
のA法と同様に処理、精製すると、融点88〜90℃ン
有する目的化合物3.849が得られた。
ル溶液(39vtl)’17約−20℃に保ちながら1
0分間で滴下する。滴下後−20℃で30分間攪拌した
。(3S 、 4 R、S R) −3−(1−ter
t−ブチルジメチルシリルオキシエテル)−4−アセト
キシアゼチジン−2−オン(5,9,!i’)Y加え、
約−20℃の冷凍庫に約20時間放置した後、冥施例1
のA法と同様に処理、精製すると、融点88〜90℃ン
有する目的化合物3.849が得られた。
KBr −1゜
赤外線吸収スペクトル νmax cm −3140
゜3080、 1765. 173G。
゜3080、 1765. 173G。
核磁気共鳴吸収スペクトル δppm CD(M3(6
0MH2):0.89 (9H,e ) 、 1.22
(3H,(1,J=6.0Hz)s1.43 (3H、
ad 、、r=23.0Hz、J=6.0H2)。
0MH2):0.89 (9H,e ) 、 1.22
(3H,(1,J=6.0Hz)s1.43 (3H、
ad 、、r=23.0Hz、J=6.0H2)。
3.22(IH,t、、T=2.0Hz)、3.35〜
5.50(4HIm ) −5,63(I H−d 、
J” 2.OH2) +6.67(IH,br、s) 参考例 1 前記の実施例1で得fc(3s、4u、5R)−3−(
1−tθrt−ブチルジメチルシリルオキシエテル)−
4−[(2−フルオロエチルチオ)カルボッチオイルチ
オ]アゼチジン−2−オン(29,859)とグリオキ
シルHp−ニトロベンジルエステル水和物(35,33
9) Y乾燥ベンゼン1.4tfcf#!解し、油浴の
温度ケ約110℃に保ちながらベンゼンヶ留去する。残
留物を油浴温度約110°Cで約4時間攪拌した後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開剤:ベ
ンゼン:酢酸エテル−10:1)で#!製すると、目的
化合物38.159y油状物として得次。
5.50(4HIm ) −5,63(I H−d 、
J” 2.OH2) +6.67(IH,br、s) 参考例 1 前記の実施例1で得fc(3s、4u、5R)−3−(
1−tθrt−ブチルジメチルシリルオキシエテル)−
4−[(2−フルオロエチルチオ)カルボッチオイルチ
オ]アゼチジン−2−オン(29,859)とグリオキ
シルHp−ニトロベンジルエステル水和物(35,33
9) Y乾燥ベンゼン1.4tfcf#!解し、油浴の
温度ケ約110℃に保ちながらベンゼンヶ留去する。残
留物を油浴温度約110°Cで約4時間攪拌した後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開剤:ベ
ンゼン:酢酸エテル−10:1)で#!製すると、目的
化合物38.159y油状物として得次。
Liq −1
赤外線吸収スペクトル ν cm 、 3550゜
ax 1770、 1605 、 1520核磁気共鳴スペ
クトル δppm CDO/3(60MH2)’0.8
6(IIH,s)、1.20,1.23(3H,d、J
=6.0Hz)、3.21〜4.45(6H,m)、4
.58(2H。
ax 1770、 1605 、 1520核磁気共鳴スペ
クトル δppm CDO/3(60MH2)’0.8
6(IIH,s)、1.20,1.23(3H,d、J
=6.0Hz)、3.21〜4.45(6H,m)、4
.58(2H。
at、J=47.0 、6.0H2) 、 5.20
、5.33(2H。
、5.33(2H。
AB−q、J=14.0Hz)、6.17,6.21(
IH,d。
IH,d。
J=2.0H2)、7.49,8.20(4H,A2B
2.J=9.0H2) 参考例 2 一ボネート 参考例1で得た(3B、4R,5R)−2−フルオロエ
チル[1−(p−二トロペンジルオキシ力ルポニルーヒ
ドロキシメチル)−3−(1−Lθrt−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−2−オキソアゼチジン−4−
イル]トリチオカーボネート(38,1S&)Yテトラ
ヒドロフラン(350mA)に溶解し −20°〜−1
5℃に冷却する。2.6−ルチジン(8,95+nA)
ン加え、塩化チオニル(5,14mA)ケー15℃以下
でゆっくり力0えた後、−20°〜−15℃で30分攪
拌した。反応液ン氷−食塩水に注ぎ、酢酸エチルで抽出
、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。浴剤ン留去し、得られた粗(3S。
2.J=9.0H2) 参考例 2 一ボネート 参考例1で得た(3B、4R,5R)−2−フルオロエ
チル[1−(p−二トロペンジルオキシ力ルポニルーヒ
ドロキシメチル)−3−(1−Lθrt−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−2−オキソアゼチジン−4−
イル]トリチオカーボネート(38,1S&)Yテトラ
ヒドロフラン(350mA)に溶解し −20°〜−1
5℃に冷却する。2.6−ルチジン(8,95+nA)
ン加え、塩化チオニル(5,14mA)ケー15℃以下
でゆっくり力0えた後、−20°〜−15℃で30分攪
拌した。反応液ン氷−食塩水に注ぎ、酢酸エチルで抽出
、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。浴剤ン留去し、得られた粗(3S。
4R,5R)−2−フルオロエチル[1−(p−ニトロ
ペンジルオキシ力ルポニルークロルメテル)−3−(1
−tθrt−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2
−オキソアゼチジン−4−イル]トリチオカーボネート
奢テトラヒドロフラン(500mt)に溶解し、2,6
−ルチジン(11,93mε) とト’Jフェニルホス
フィン(zy、oz、9)Y加え、油浴温度75°〜8
0℃で42時間攪拌した。反応液を氷−食塩水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄 後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶剤ン留去後シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開剤:ベンゼン:酢酸エチル=
a : 1)で精製すると、黄色粉末状の目的化合物2
6.82.9が得らlrした。
ペンジルオキシ力ルポニルークロルメテル)−3−(1
−tθrt−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2
−オキソアゼチジン−4−イル]トリチオカーボネート
奢テトラヒドロフラン(500mt)に溶解し、2,6
−ルチジン(11,93mε) とト’Jフェニルホス
フィン(zy、oz、9)Y加え、油浴温度75°〜8
0℃で42時間攪拌した。反応液を氷−食塩水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄 後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶剤ン留去後シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開剤:ベンゼン:酢酸エチル=
a : 1)で精製すると、黄色粉末状の目的化合物2
6.82.9が得らlrした。
KBr −1。
赤外線吸収スペクトル ν m 、1750゜ax
1620、 1600. 1510
参考例 3
参考例2で得た(3B、41’t、5R)−2−フルオ
ロエテル[1−(p−二トロベンジルオキシ力ルポニル
ートリフェニルホスホラニルーメテル)−3−(1−t
8rt−ブチルジメチルシリルオキシエテル)−2−オ
キソアゼチジン−4−イル]トリチオカーボネート(3
,35g)を無水キシレン(22Gml)に溶解し、ハ
イドロキノン(65■)を加えて油浴温度120〜12
5℃で12時間加熱攪拌し友。溶剤X留去し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶剤ベンゼン:酢酸
エチル−10:1)で精製後、ローバーカラム(メルク
社製シリカゲル サイズB2本連結、展開溶剤:ベンゼ
ン 酢酸エチル=25:1)で精製すると、(58,6
8,8R)−2−(2−フルオロエチルチオ)−6−(
1−むθrt−プテルジメチルシリルオギシエチル)ペ
ネム−3−カルボンffp−ニトロベンジルエステル(
318■)と融点118〜120’Cを有する目的化合
物810〜が侍らf″L、7IC0参考例 4 と、 (SR,6S、8R)−2−(2−フルオロエチルチオ
)−6=(1−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル)ペネム−3−カルボンW p−ニトロベンジ
ルエステル(827Q)のテトラヒドロフラン溶液(2
1)に酢酸(86μl)とテトラブチルアンモニウムフ
ルオライドの1モルテトラヒドロフランf6液(o、s
o 4Ilit )ン加え、室温で一夜攪拌、30°
Cの油浴上10時間攪拌する。酢酸エチルで反応液を希
釈した後、飽和食塩水、5%重曹水、飽和食塩水で順次
洗浄し、溶剤ン留去して得られる残渣をローバーカラム
(メルク社製、ηイス゛A、展開溶剤:ベンゼン:酢酸
エチル−6s:35)i用いて精製すると目的化合物(
40〜)が得られた。
ロエテル[1−(p−二トロベンジルオキシ力ルポニル
ートリフェニルホスホラニルーメテル)−3−(1−t
8rt−ブチルジメチルシリルオキシエテル)−2−オ
キソアゼチジン−4−イル]トリチオカーボネート(3
,35g)を無水キシレン(22Gml)に溶解し、ハ
イドロキノン(65■)を加えて油浴温度120〜12
5℃で12時間加熱攪拌し友。溶剤X留去し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶剤ベンゼン:酢酸
エチル−10:1)で精製後、ローバーカラム(メルク
社製シリカゲル サイズB2本連結、展開溶剤:ベンゼ
ン 酢酸エチル=25:1)で精製すると、(58,6
8,8R)−2−(2−フルオロエチルチオ)−6−(
1−むθrt−プテルジメチルシリルオギシエチル)ペ
ネム−3−カルボンffp−ニトロベンジルエステル(
318■)と融点118〜120’Cを有する目的化合
物810〜が侍らf″L、7IC0参考例 4 と、 (SR,6S、8R)−2−(2−フルオロエチルチオ
)−6=(1−tert−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル)ペネム−3−カルボンW p−ニトロベンジ
ルエステル(827Q)のテトラヒドロフラン溶液(2
1)に酢酸(86μl)とテトラブチルアンモニウムフ
ルオライドの1モルテトラヒドロフランf6液(o、s
o 4Ilit )ン加え、室温で一夜攪拌、30°
Cの油浴上10時間攪拌する。酢酸エチルで反応液を希
釈した後、飽和食塩水、5%重曹水、飽和食塩水で順次
洗浄し、溶剤ン留去して得られる残渣をローバーカラム
(メルク社製、ηイス゛A、展開溶剤:ベンゼン:酢酸
エチル−6s:35)i用いて精製すると目的化合物(
40〜)が得られた。
融点168〜110℃
E七OH。
紫外線吸収スペクトル λ nm、・261aax
39
核磁気共鳴スペクト/’ (DMSO−46)δppm
:1.18(3H,d、J=6.0Hz)、2.9〜
3.7(2H。
:1.18(3H,d、J=6.0Hz)、2.9〜
3.7(2H。
m) 、 3.86(I H,ad 、 、r=6.0
、2.0H2) 、 3.8〜4.15(IH,m)
、4.66(2H,at、J=47.0゜6.0Hz)
、5.19(IH,a、、r=4.0Hz)、5.30
゜5.48(2H,AB−q、J=14.0Hz)、5
.77(IH。
、2.0H2) 、 3.8〜4.15(IH,m)
、4.66(2H,at、J=47.0゜6.0Hz)
、5.19(IH,a、、r=4.0Hz)、5.30
゜5.48(2H,AB−q、J=14.0Hz)、5
.77(IH。
d、J=2.0Hz)、−742,8,25(4H,A
2I]2 。
2I]2 。
J = 9.0 H2)
参考例 5
(SR,6B、8R) −2−(2−フルオロエテルテ
、t)−6−(t−ヒドロキシエチル)ペネム−3−カ
ルボン酸 p−ニトロベンジルエステル(39■)ヲテ
トラヒドロフラン(3ml )に溶かし、リン酸緩衝液
(pH=7.1 、3mt)および10%パラジウム炭
素(7B+y)ン加え、水系気流下、室温で2.5時間
攪拌する。触媒を戸去した後、酢酸エチルで洗浄し、水
層ン約2mlに゛まで減圧濃縮する6、これをダイアイ
オンHP−20AG(三菱化成工業製)のカラムに付し
、5チアセトン水で溶出される部分から、減圧濃縮、凍
結乾燥して白色粉末の目的化合物(171v)を得た。
、t)−6−(t−ヒドロキシエチル)ペネム−3−カ
ルボン酸 p−ニトロベンジルエステル(39■)ヲテ
トラヒドロフラン(3ml )に溶かし、リン酸緩衝液
(pH=7.1 、3mt)および10%パラジウム炭
素(7B+y)ン加え、水系気流下、室温で2.5時間
攪拌する。触媒を戸去した後、酢酸エチルで洗浄し、水
層ン約2mlに゛まで減圧濃縮する6、これをダイアイ
オンHP−20AG(三菱化成工業製)のカラムに付し
、5チアセトン水で溶出される部分から、減圧濃縮、凍
結乾燥して白色粉末の目的化合物(171v)を得た。
KBr−1゜
赤外線吸収スペクトル ν m 、3425゜ax
1765、 1600
紫外線吸収スペクトル λ、’、”、 nm : 25
2.5 #321、5 核磁気共鳴スペクトル(B20)δppm ’1.30
(3H,d、J==6.0H2)、2.9〜3.5(2
H。
2.5 #321、5 核磁気共鳴スペクトル(B20)δppm ’1.30
(3H,d、J==6.0H2)、2.9〜3.5(2
H。
m) 、 3.90(IH,aci、J=6.0 、2
.0Hz) 、 4.0〜4.45(IH,m)、4.
70’(2H,dt、J=47.0゜6.0H2)、5
.69(IH,d、J=2.0Hz)参考例 6 前記の実施例2で得た(38.4R,5R)−3−(1
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4
−[(3−フルオロプロ、ピルチオ)カルボッチオイル
チオ]アゼチジン−2−オン(s、4Sg)とグリオキ
サル酸p−ニトロベンジルエステル水利物(9,20,
9)Y乾燥ベンゼン(11)に溶解し油浴の温度を約1
10℃に保ちながらベンゼンン留去する。残留物を油浴
温度、約110℃で25時間攪拌した後、を吉例1t’
同様な処理、精製を行って目的化合物9.53g’&油
状物として得た。
.0Hz) 、 4.0〜4.45(IH,m)、4.
70’(2H,dt、J=47.0゜6.0H2)、5
.69(IH,d、J=2.0Hz)参考例 6 前記の実施例2で得た(38.4R,5R)−3−(1
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4
−[(3−フルオロプロ、ピルチオ)カルボッチオイル
チオ]アゼチジン−2−オン(s、4Sg)とグリオキ
サル酸p−ニトロベンジルエステル水利物(9,20,
9)Y乾燥ベンゼン(11)に溶解し油浴の温度を約1
10℃に保ちながらベンゼンン留去する。残留物を油浴
温度、約110℃で25時間攪拌した後、を吉例1t’
同様な処理、精製を行って目的化合物9.53g’&油
状物として得た。
Liq−1゜
赤外線吸収スペクトル ν cm 、3400゜a
x 1765、 1605. 1520 核磁気共鳴スペクトル δppm ODCj3(60M
Hz):0.85(9H,s)、1.20,1.22(
3H,d、、T=6゜GHz)、1.63〜2.56(
2H,m)、3.25〜4.45(6H1m ) 、4
−52 (2H* cl t −J ” 47.0.6
−0H2) 、 5.2T 、 5.35(2H,AB
−q 、 J=14.0Hz)。
x 1765、 1605. 1520 核磁気共鳴スペクトル δppm ODCj3(60M
Hz):0.85(9H,s)、1.20,1.22(
3H,d、、T=6゜GHz)、1.63〜2.56(
2H,m)、3.25〜4.45(6H1m ) 、4
−52 (2H* cl t −J ” 47.0.6
−0H2) 、 5.2T 、 5.35(2H,AB
−q 、 J=14.0Hz)。
6.20.6.25(IH,d、、、T=2.0Hz)
、7.55゜8゜28 (4H−A2B2 、J” 9
.OHz)参考例 7 二j曽に」− 参考例6で得fc(38,4R,5R)−3−フルオロ
プロピル[1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−ヒドロキシメチル) −3−(1tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)−2−オキソアゼチジン−
4−イル]1ト1ノチオカーボネート(9,5,!i’
)Yテトラヒドロフラン(95mA)に溶解し、−20
°〜−15℃に冷却する。2,6−ルチジン(101m
l)ン加えシ塩化チオニル(1,251d)Y−15℃
以下の温度を保ちながら加えた後、 20〜−15℃で
30分攪拌した。反応液ケ氷−食塩水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽田、食塩水で水洗した後、無水硫酸マグネシュウ
ムで乾燥し皮。溶剤!留去し、得られた粗(3日、4R
,5R)−3−フルオロプロピル[1−(T)−二トロ
ベンジルオキシカルボニルークロルメチル)−3−(1
−tert−)゛チルジメチルシリルオキシエチル)−
2−オキソアゼチジン−4−イル]トリチオカーボネー
トをテトラヒドロフラン(190のに溶解し、2.6−
ルチジン(3,45m1)、 トリフェニルホスフィ
ン(7,B P )ン加え約8[1’Cで40時間攪拌
した。
、7.55゜8゜28 (4H−A2B2 、J” 9
.OHz)参考例 7 二j曽に」− 参考例6で得fc(38,4R,5R)−3−フルオロ
プロピル[1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−ヒドロキシメチル) −3−(1tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)−2−オキソアゼチジン−
4−イル]1ト1ノチオカーボネート(9,5,!i’
)Yテトラヒドロフラン(95mA)に溶解し、−20
°〜−15℃に冷却する。2,6−ルチジン(101m
l)ン加えシ塩化チオニル(1,251d)Y−15℃
以下の温度を保ちながら加えた後、 20〜−15℃で
30分攪拌した。反応液ケ氷−食塩水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽田、食塩水で水洗した後、無水硫酸マグネシュウ
ムで乾燥し皮。溶剤!留去し、得られた粗(3日、4R
,5R)−3−フルオロプロピル[1−(T)−二トロ
ベンジルオキシカルボニルークロルメチル)−3−(1
−tert−)゛チルジメチルシリルオキシエチル)−
2−オキソアゼチジン−4−イル]トリチオカーボネー
トをテトラヒドロフラン(190のに溶解し、2.6−
ルチジン(3,45m1)、 トリフェニルホスフィ
ン(7,B P )ン加え約8[1’Cで40時間攪拌
した。
反応液を参考例2と同様に処理、精製すると、粉末状の
目的化合物6.0H/が得られた。
目的化合物6.0H/が得られた。
NujOl −1。
赤外線吸収スペクトル シmユx an 、I T
5011658、 1620. 1600. 151
5参考例 8 参考例1で得た(38.4R,5R)−3−フルオロプ
ロピル[1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−ト
リフェニルホスホラニルメチル) −3−(1−tar
t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2−オキソ
アゼチジン−4−イル]トリチオカーボネート(6,(
1)を無水キシレン(600ml)に溶解し7、ノ1イ
ドロキノン(10rn9)ン加えて、120°〜125
℃で14時間加熱攪拌した。溶剤を留去し参考測色と同
様に精製すると、(SS、BS、8R)−2−(3−フ
ルオロプロピルチオ) −6−(1−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエテル)ペネム−3−カルボン酸
p−ニトロベンジルエステル(4341す)と融点10
7〜108℃を有する目的化合物1.425gが得らf
た。
5011658、 1620. 1600. 151
5参考例 8 参考例1で得た(38.4R,5R)−3−フルオロプ
ロピル[1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−ト
リフェニルホスホラニルメチル) −3−(1−tar
t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−2−オキソ
アゼチジン−4−イル]トリチオカーボネート(6,(
1)を無水キシレン(600ml)に溶解し7、ノ1イ
ドロキノン(10rn9)ン加えて、120°〜125
℃で14時間加熱攪拌した。溶剤を留去し参考測色と同
様に精製すると、(SS、BS、8R)−2−(3−フ
ルオロプロピルチオ) −6−(1−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエテル)ペネム−3−カルボン酸
p−ニトロベンジルエステル(4341す)と融点10
7〜108℃を有する目的化合物1.425gが得らf
た。
Nuj01’ : 17ti5゜
赤外線吸収スペクトル νmax 7m1675、
1605. 1510 核磁気共鳴スペクトル δppm 0DOl、 (60
MHz)+0.84(9H,s)、1.25(3H,d
、、J=6.0Hz)。
1605. 1510 核磁気共鳴スペクトル δppm 0DOl、 (60
MHz)+0.84(9H,s)、1.25(3H,d
、、J=6.0Hz)。
2.09(2H,dquintet 、J=25.0,
6.0H2)。
6.0H2)。
3.09 (2H= t 、J =6− OHz )
、3.71 (I H、d−d 5J=4.0.2−G
Hz)、4.00〜4.46(IH,m)。
、3.71 (I H、d−d 5J=4.0.2−G
Hz)、4.00〜4.46(IH,m)。
4.54(2H,at、J=47.0,6.0H2)、
5.14゜5.44(2H,AB−q 、:f=14.
0H2) 、 5.65(IH。
5.14゜5.44(2H,AB−q 、:f=14.
0H2) 、 5.65(IH。
cl、 J=2.0Hz) 、 7.61 、8.22
(4I(、A2B2゜、y=s、oHz) を吉例 9 7ヱ5 参考例8で得た(SR,BS、8R)−2−(3−フル
オロプロピルチオ)−6−(1−tθrt−ブチルジメ
チルシリルオキシエテル)ペネム−3−カルボン酸 p
−ニトロベンジルエステル(t4g)Yテトラヒドロフ
ラン(36ml )に溶解し酢酸(1,44mA)、テ
トラブチルアンモニウムフルオライドの1モルテトラヒ
ドロフラン溶液(10mA)を加え、28℃で21時間
攪拌する。反応液ヶ参吉例4と同様に処理、精製す声と
、融点151〜158℃ン有する目的化合物70SIv
が得られfcI+ KBr −1。
(4I(、A2B2゜、y=s、oHz) を吉例 9 7ヱ5 参考例8で得た(SR,BS、8R)−2−(3−フル
オロプロピルチオ)−6−(1−tθrt−ブチルジメ
チルシリルオキシエテル)ペネム−3−カルボン酸 p
−ニトロベンジルエステル(t4g)Yテトラヒドロフ
ラン(36ml )に溶解し酢酸(1,44mA)、テ
トラブチルアンモニウムフルオライドの1モルテトラヒ
ドロフラン溶液(10mA)を加え、28℃で21時間
攪拌する。反応液ヶ参吉例4と同様に処理、精製す声と
、融点151〜158℃ン有する目的化合物70SIv
が得られfcI+ KBr −1。
赤外線吸収スペクトル ν cm −3450゜a
x 1780、 1690. 1610. 1525. 1
500紫外線吸収スペクトル λFitOH、m ax
n m 、262.5 +40 核磁気共鳴スペクトル δppm DMSO−d6(1
00MHz)’1.19(3H,(1,J=6.0−H
2)、1.76〜2.33(2H。
x 1780、 1690. 1610. 1525. 1
500紫外線吸収スペクトル λFitOH、m ax
n m 、262.5 +40 核磁気共鳴スペクトル δppm DMSO−d6(1
00MHz)’1.19(3H,(1,J=6.0−H
2)、1.76〜2.33(2H。
m)、3.10(211,td、J=6.0,2.0H
z)、3.83(IH,dd、J=5.0.2.0Hz
)、3.80〜4,14(IHsm)、4.52(2H
,at、J=47.0,6.0H2)、5.17(I
H,d、J=5.0H7)、5.27 。
z)、3.83(IH,dd、J=5.0.2.0Hz
)、3.80〜4,14(IHsm)、4.52(2H
,at、J=47.0,6.0H2)、5.17(I
H,d、J=5.0H7)、5.27 。
5.47(2H,AB−q、J=14.0Hz)、5.
76(IH。
76(IH。
d、J=2.0H2)、7.71.8.25(4H,A
2B2゜J=9.0Hz) 参考例 10 ε吉例9で得た(SR,6S、8R)−2−(3−フル
オロプロピルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)ペ
ネム−3−カルボン[p−ニトロベンジルエステル(7
00tng ) をf トラヒドロフラン(s oy)
に溶かし、リン酸緩衝液(pHニア、1.50m/)お
よび10チパラジウム炭素(i、4,9)Y加え、水素
気流下、室温で3時間攪拌する。反応液ケ参吉例5と同
様に処理、精製すると、白色粉末状の目的化合物350
rn9が得ら扛た。
2B2゜J=9.0Hz) 参考例 10 ε吉例9で得た(SR,6S、8R)−2−(3−フル
オロプロピルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)ペ
ネム−3−カルボン[p−ニトロベンジルエステル(7
00tng ) をf トラヒドロフラン(s oy)
に溶かし、リン酸緩衝液(pHニア、1.50m/)お
よび10チパラジウム炭素(i、4,9)Y加え、水素
気流下、室温で3時間攪拌する。反応液ケ参吉例5と同
様に処理、精製すると、白色粉末状の目的化合物350
rn9が得ら扛た。
赤外線吸収スペクトル νKBrcm ’ : 340
0 。
0 。
ax
1780、 1600j 1,585. 151020
紫外線吸収スペクトル λ nm:254゜ax
24
核磁気共鳴スペクトル δI”I’m D20 (10
0MH2) :1−32 (3H= ds J ” 6
.0 Hz ) 、1.80〜2.40(2H,m)、
2.80〜3.31(3H,m)、3.92(1H,a
d、J=5.0,2.0Hz)、4.27(IH。
0MH2) :1−32 (3H= ds J ” 6
.0 Hz ) 、1.80〜2.40(2H,m)、
2.80〜3.31(3H,m)、3.92(1H,a
d、J=5.0,2.0Hz)、4.27(IH。
quintet 、 J = 6. OH2) 、 4
.64(2H,at、、T=47.0,6.0Hz)、
5.71(IH,d、J=2.0H2)出願人 三共株
式会社 代理人 弁理士樫出庄治 手続補正書(自発) 1、事件の表示 昭和57年特許願第110335号 2、発明の名称 β−ラクタム化合物及びその製法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103 *京都中央区日本橋本町3丁目li
t地の6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河 村 喜 典4、代理人 居所 〒140 東京部品川区広町1丁目2番58号
三共株式会社内 1、 明細書111I20頁9行目の[化合物(536
+og)を得た。」の後に次の文章を挿入する。
.64(2H,at、、T=47.0,6.0Hz)、
5.71(IH,d、J=2.0H2)出願人 三共株
式会社 代理人 弁理士樫出庄治 手続補正書(自発) 1、事件の表示 昭和57年特許願第110335号 2、発明の名称 β−ラクタム化合物及びその製法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103 *京都中央区日本橋本町3丁目li
t地の6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河 村 喜 典4、代理人 居所 〒140 東京部品川区広町1丁目2番58号
三共株式会社内 1、 明細書111I20頁9行目の[化合物(536
+og)を得た。」の後に次の文章を挿入する。
[C法 (共 法)
2−フルオロエチルチオアセテート(+2.479)と
二硫化度素(6,14m1)を無水メタノール(186
ml)に階解し、約−45°Cに冷却する。窒素気流中
、1.0Mリチウムメトキシドのメタノール溶液(93
yln+L)を約5分かかつて滴下し、滴下後−156
〜−14°Cで35分間攪拌した。
二硫化度素(6,14m1)を無水メタノール(186
ml)に階解し、約−45°Cに冷却する。窒素気流中
、1.0Mリチウムメトキシドのメタノール溶液(93
yln+L)を約5分かかつて滴下し、滴下後−156
〜−14°Cで35分間攪拌した。
(35,4R,5R) 3 (1−tart−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセトキシアゼ
チジン−2−オン(28i1;l)を加え、−186〜
−15°Cで約30分間攪拌すると目的化合物の結晶が
析出しはしめる。反応液を同温度で約2時間攪拌した後
、A法と同様に処理、精製して目的化合物(24,9g
)を得た。」以上。
ルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセトキシアゼ
チジン−2−オン(28i1;l)を加え、−186〜
−15°Cで約30分間攪拌すると目的化合物の結晶が
析出しはしめる。反応液を同温度で約2時間攪拌した後
、A法と同様に処理、精製して目的化合物(24,9g
)を得た。」以上。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 (式中、R1は水素原子またはメチル基馨示し、R2,
は水酸基の保僅基ン示し、R3は弗素原子で置換された
直鎖または分岐状の低級アルキル基を示す。)を有する
β−ラクタム化合物。 2、R1が水素原子であり、R5が弗素原子1個で置換
された直鎖または分岐状の低級アルキル基である特許論
求範囲第1項記載の化合物。 3 R1が水素原子であり、R3が2−フルオロエチル
、1−フルオロ−2−グロビルまたは3−フルオロプロ
ピル基である特許請求の範囲、第1項に記載の化合物。 4、一般式 (式中、R1は水素原子またはメチル基を示しR2は水
酸基の保護基を示し、Yは低級アルカノイルオキシ基、
低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基また
はハロゲン原子を示す。)ケ有する化合物と一般式 %式%( (式中、R6V1弗素原子で置換された直鎖または分岐
状の低級アルキル基馨示し、R4は直鎖若しくは分岐状
の低級アルキル基またはアリール基を示す。)を有する
化合物、二硫化炭素および一般式 %式% (式中、R5は直鎖若しくは分岐状の低級アルキル基ン
示し、Mはアルカリ金属を示す。)ン肩する化合物から
反応液中に得られる一般式 (式中、丘、およびMは前述したものと同意義乞示す。 )を有する化合物を反応嘔せることを特徴とする一般式 (式中、R1,R2およびR3は前述したものと同意義
ケ示す。)ビ有するβ−ラクタム化合物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57110335A JPS591464A (ja) | 1982-06-26 | 1982-06-26 | β−ラクタム化合物及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57110335A JPS591464A (ja) | 1982-06-26 | 1982-06-26 | β−ラクタム化合物及びその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS591464A true JPS591464A (ja) | 1984-01-06 |
JPH0443909B2 JPH0443909B2 (ja) | 1992-07-20 |
Family
ID=14533136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57110335A Granted JPS591464A (ja) | 1982-06-26 | 1982-06-26 | β−ラクタム化合物及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS591464A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54119486A (en) * | 1978-02-02 | 1979-09-17 | Ciba Geigy Ag | 66substituted thiaaaza compound |
JPS56167689A (en) * | 1980-04-24 | 1981-12-23 | Beecham Group Ltd | Beta-lactam compounds, their manufacture and use |
-
1982
- 1982-06-26 JP JP57110335A patent/JPS591464A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54119486A (en) * | 1978-02-02 | 1979-09-17 | Ciba Geigy Ag | 66substituted thiaaaza compound |
JPS56167689A (en) * | 1980-04-24 | 1981-12-23 | Beecham Group Ltd | Beta-lactam compounds, their manufacture and use |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0443909B2 (ja) | 1992-07-20 |
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