JPS6048964A - ２−アゼチジノン誘導体及びその製造法 - Google Patents
２−アゼチジノン誘導体及びその製造法Info
- Publication number
- JPS6048964A JPS6048964A JP58155081A JP15508183A JPS6048964A JP S6048964 A JPS6048964 A JP S6048964A JP 58155081 A JP58155081 A JP 58155081A JP 15508183 A JP15508183 A JP 15508183A JP S6048964 A JPS6048964 A JP S6048964A
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- group
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- hydrogen atom
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
を有する新規アゼチジノン誘導体およびその製造法に関
するものである。式中 Ｒ１は、水素原子または窒素原
子の保護基〔アラルキル基（ベンジル、４−メトキシベ
ンジル、４−ニトロベンジル、２，４−ジメトキシベン
ジル、３，４−ジメトキシベンジル、２．４．５−）ジ
メトキシベンジル、２．４．６−１１．１メトキシベン
ジル、４−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチル
ベンジル、４−メトキシ−３，５−ジメチルベンジルま
たはジー（４−メトキンフェニル）メチル基）、アリー
ル基（４−メトキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル
、４−ニトロフェニル、４−メ）キシメチルオキシフェ
ニル、３，４−ジメトキシフェニルまたは４−ヒドロキ
シ−３，４−ジーｔθｒｔ−ブチルフェニル基）、シリ
ル基（トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニル
またはジメチルフェニル基）、アルコキシ基（メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、インブロポキシマタはｔｅｒ
ｔ７’）キシ基〕、アラルキルオキシ基（ベンジルオキ
シ、４−メトキシベンジルオキシ、４−ニトロベンジル
オキシｔ＊Ｉｄ４−ヒドロキシベンジルオキシ基）、ア
リールオキシ基（フェノキシ、４−メトキシフェニルま
たは（式中、 Ｒ５は、水素原子又はカルボキシ基の保
護基（カルボキシ基の保護基は特に限定はなく一般的な
カルボキシ基の保護基上用いることができる。たとえば
、低級アルキル基（メチル、エチル、プロピル又はｔｅ
ｒｔ−ブチル基）、アラルキル基（ヘンシル、ジフェニ
ルメチル、４−ニトロベンジル又は２−二トロベンジル
基）、アルケニル基（アリル、２−クロルアリルまたは
２−メチルアリル基）、ハロゲン化アルキル基（２，２
，２−トリクロルエチルまたは２．２．２−トリブロム
エチル基）、２−（トリメチルシリル）エチル基、また
はｔｅｒｔ−プチルカルボニルオキシメチル基である。
するものである。式中 Ｒ１は、水素原子または窒素原
子の保護基〔アラルキル基（ベンジル、４−メトキシベ
ンジル、４−ニトロベンジル、２，４−ジメトキシベン
ジル、３，４−ジメトキシベンジル、２．４．５−）ジ
メトキシベンジル、２．４．６−１１．１メトキシベン
ジル、４−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチル
ベンジル、４−メトキシ−３，５−ジメチルベンジルま
たはジー（４−メトキンフェニル）メチル基）、アリー
ル基（４−メトキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル
、４−ニトロフェニル、４−メ）キシメチルオキシフェ
ニル、３，４−ジメトキシフェニルまたは４−ヒドロキ
シ−３，４−ジーｔθｒｔ−ブチルフェニル基）、シリ
ル基（トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニル
またはジメチルフェニル基）、アルコキシ基（メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、インブロポキシマタはｔｅｒ
ｔ７’）キシ基〕、アラルキルオキシ基（ベンジルオキ
シ、４−メトキシベンジルオキシ、４−ニトロベンジル
オキシｔ＊Ｉｄ４−ヒドロキシベンジルオキシ基）、ア
リールオキシ基（フェノキシ、４−メトキシフェニルま
たは（式中、 Ｒ５は、水素原子又はカルボキシ基の保
護基（カルボキシ基の保護基は特に限定はなく一般的な
カルボキシ基の保護基上用いることができる。たとえば
、低級アルキル基（メチル、エチル、プロピル又はｔｅ
ｒｔ−ブチル基）、アラルキル基（ヘンシル、ジフェニ
ルメチル、４−ニトロベンジル又は２−二トロベンジル
基）、アルケニル基（アリル、２−クロルアリルまたは
２−メチルアリル基）、ハロゲン化アルキル基（２，２
，２−トリクロルエチルまたは２．２．２−トリブロム
エチル基）、２−（トリメチルシリル）エチル基、また
はｔｅｒｔ−プチルカルボニルオキシメチル基である。
）を示す）〕である。
Ｒ２は、水素原子または水酸基の保護基〔水酸基の保護
基としては特に限定はなく一般的な水酸基の保護基を用
いることができる。たとえば、低級アルキル基（メチル
、エチル、プロピルまたはイングロビル基）、シリル基
〔トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリ
ルまたハシメチルフェニルシリル基〕、アシル基（ホル
ミル、アセチル、クロルアセチル、トリフルオルアセチ
ル、グロビオニル、ブチリル、ベンゾイル、４−ニトロ
ベンゾイルまたは２−ニトロベンゾイル基など）、アラ
ルキル基（ベンジル、４−ニトロベンジル、２−ニトロ
ベンジル、または４−メトキシベンジル基）、アルコキ
シカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、４−ブロムベンジル
オキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、２．２．２
−ｔｌクロルエトキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル、２−クロルアリルオキシカルボニル、２−メチル
アリルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル、シフェニルメチルオキシカルボニルまたは２−（ト
リメチルシリル）エトキシカルボニル基など）％ ｔｅ
ｒｔ−ブチルカルボニルオキシメチルオキシカルボニル
基、エーテル基（テトラヒドロピラニル、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、１−エトキシエチル、ベンジルオ
キシメチルまたは２−（トリメチルシリル）エトキシメ
チル基）またはチオエーテル基（メチルチオメチル、エ
チルチオメチル、ベンジルチオメチル、４−ニトロベン
ジルチオメチルまたは２−ニトロベンジルチオメチル基
）〕で６る。
基としては特に限定はなく一般的な水酸基の保護基を用
いることができる。たとえば、低級アルキル基（メチル
、エチル、プロピルまたはイングロビル基）、シリル基
〔トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリ
ルまたハシメチルフェニルシリル基〕、アシル基（ホル
ミル、アセチル、クロルアセチル、トリフルオルアセチ
ル、グロビオニル、ブチリル、ベンゾイル、４−ニトロ
ベンゾイルまたは２−ニトロベンゾイル基など）、アラ
ルキル基（ベンジル、４−ニトロベンジル、２−ニトロ
ベンジル、または４−メトキシベンジル基）、アルコキ
シカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、４−ブロムベンジル
オキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、２．２．２
−ｔｌクロルエトキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル、２−クロルアリルオキシカルボニル、２−メチル
アリルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル、シフェニルメチルオキシカルボニルまたは２−（ト
リメチルシリル）エトキシカルボニル基など）％ ｔｅ
ｒｔ−ブチルカルボニルオキシメチルオキシカルボニル
基、エーテル基（テトラヒドロピラニル、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、１−エトキシエチル、ベンジルオ
キシメチルまたは２−（トリメチルシリル）エトキシメ
チル基）またはチオエーテル基（メチルチオメチル、エ
チルチオメチル、ベンジルチオメチル、４−ニトロベン
ジルチオメチルまたは２−ニトロベンジルチオメチル基
）〕で６る。
Ｒ５は、水素原子、アルキル基〔メチル、エチル、プロ
ピルまたはイソプロピル基〕、アリル基、ビニル基、エ
チニル基、アラルキル基〔ベンジル、４−メトキシベン
ジルまたは４−ニトロヘンシル基〕、アリール基［フェ
ニル、４−トリル、４−メトキシフェニルまたは２−ク
ロルフェニル基］ 、０Ｈ２Ａ基Ｃ式中、Ａはアルキル
チオ基（メチルチオ、エチルチオ、またはプロピルチオ
基）、アラルキルチオ基（ベンジルチオ、４−メトキシ
ベンジルチオ、または４−メ（γ） ７ チルベンジルチオ基）、アリールチオ基（フェニルチオ
、４−ニトロフェニルチオまたは２−クロルフェニルチ
オ基）、スルフィニル基（メチルスルフィニル、エチル
スルフィニル、ベンジルスルフィニル、’！ｆｃハフェ
ニルスルイニル基）、スルホニル基（メチルスルフォニ
ル、玉チルスルホニル、ペンジルスルホニルマタハフェ
ニルスルホニルＭ ） 、”ｆ、 ｆｃ ｉｔ： ハロ
’ｊ ン原子（クロル、ブロムまたはヨウ素原子〕〕、
−８Ｒ”〔式中、Ｒ６は、アルキル基（メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチルまたはｔｅｒｔ −
ブチル基）、アリール基（フェニル、４−メトキシフェ
ニル、４−ニトロフェニルｔｌ；ｊ４−ブロムフェニル
基）、アラルキル基（ベンジル、４−メトキシベンジル
または４−ニトロベンシル基）または芳香族複素環基（
ピリジル、チェニル、フリルまたはピリミジニル基）で
ある〕、または−ＮＲ’Ｒ８基〔式中、Ｒ７およびＲ８
は同一または異なる水素原子、アルキル基（メチル、エ
チル、プロピル、ブチルまたはｔθヒープチル（８） 基）、アリール基（フェニル、４−トリル、４−メトキ
シフェニル、または４−ニトロフェニル基）、またはア
ラルキル基（ベンジル、４−メトキシベンジル、４−プ
ロムベンジルマタハ４−ニトロベンジル基）である〕で
ある。
ピルまたはイソプロピル基〕、アリル基、ビニル基、エ
チニル基、アラルキル基〔ベンジル、４−メトキシベン
ジルまたは４−ニトロヘンシル基〕、アリール基［フェ
ニル、４−トリル、４−メトキシフェニルまたは２−ク
ロルフェニル基］ 、０Ｈ２Ａ基Ｃ式中、Ａはアルキル
チオ基（メチルチオ、エチルチオ、またはプロピルチオ
基）、アラルキルチオ基（ベンジルチオ、４−メトキシ
ベンジルチオ、または４−メ（γ） ７ チルベンジルチオ基）、アリールチオ基（フェニルチオ
、４−ニトロフェニルチオまたは２−クロルフェニルチ
オ基）、スルフィニル基（メチルスルフィニル、エチル
スルフィニル、ベンジルスルフィニル、’！ｆｃハフェ
ニルスルイニル基）、スルホニル基（メチルスルフォニ
ル、玉チルスルホニル、ペンジルスルホニルマタハフェ
ニルスルホニルＭ ） 、”ｆ、 ｆｃ ｉｔ： ハロ
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、プロピル、イソプロピル、ブチルまたはｔｅｒｔ −
ブチル基）、アリール基（フェニル、４−メトキシフェ
ニル、４−ニトロフェニルｔｌ；ｊ４−ブロムフェニル
基）、アラルキル基（ベンジル、４−メトキシベンジル
または４−ニトロベンシル基）または芳香族複素環基（
ピリジル、チェニル、フリルまたはピリミジニル基）で
ある〕、または−ＮＲ’Ｒ８基〔式中、Ｒ７およびＲ８
は同一または異なる水素原子、アルキル基（メチル、エ
チル、プロピル、ブチルまたはｔθヒープチル（８） 基）、アリール基（フェニル、４−トリル、４−メトキ
シフェニル、または４−ニトロフェニル基）、またはア
ラルキル基（ベンジル、４−メトキシベンジル、４−プ
ロムベンジルマタハ４−ニトロベンジル基）である〕で
ある。
本発明によって得られる一般式（１）を有する化合物に
おいて、アゼチジノン環の３および４位の置換基並びに
３位側鎖の立体配位に関して種々の異性体が存在する。
おいて、アゼチジノン環の３および４位の置換基並びに
３位側鎖の立体配位に関して種々の異性体が存在する。
一般式（１）はこれらの異性体および異性体の混合物が
単一の式で示されている。
単一の式で示されている。
近年、ダラム陽性菌およびグラム陰性菌にわたる広範囲
の病原菌に対して優れた抗菌活性を表わす抗生物質であ
るチェナマイシンが発見されて、その全合成法に関して
も報告されている（特開昭５３−６５８９２号）。本発
明者等は、抗菌作用を有する医薬の開発研究の一環とし
てβ−ラクタム化合物の合成研究を進めた結果、前記一
般式（１）で表わされる新規な化合物がチェナマイシン
系化合物の合成中間体として有用な化金物であることを
見出して、本発明を完成するに到った。
の病原菌に対して優れた抗菌活性を表わす抗生物質であ
るチェナマイシンが発見されて、その全合成法に関して
も報告されている（特開昭５３−６５８９２号）。本発
明者等は、抗菌作用を有する医薬の開発研究の一環とし
てβ−ラクタム化合物の合成研究を進めた結果、前記一
般式（１）で表わされる新規な化合物がチェナマイシン
系化合物の合成中間体として有用な化金物であることを
見出して、本発明を完成するに到った。
本発明による新規化合物（１）は、次に示すＡ、Ｂまた
はＣ法によって製造できる。
はＣ法によって製造できる。
Ａ法ニ一般式
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前述したものと同意義を、
Ｒ４は、水酸基、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ｔｏｒｔ−ブトキシま
たはベンジルオキシ基〕、アリールオキシ基（フェノキ
シ、４−メチルフェノキシまたは４−メトキシフェノキ
シ基）またはハロゲン原子（クロルまたはブロム原子）
を示す〕を有する化合物に水素化アルカリ金属（ＮａＢ
Ｈ４、ＬｉＢＨ４、ＫＢＨ４、ＡＩＨ５ＴｈＡｌ（Ｏ（
））２Ｒ％ＨＡＩ（−Ｎ ｕｃＨ５）２、ＨＡ、＋（０
−Ｂｕ、 ）２、ＬＩＣＮＢＨ５，Ｎａ０ＮＢＨ，、（
−） ＬＩＨＡＩ （ＯＯＨ，）、、ＬｌａＡ−＋ （ｏａ２
Ｈｓ ）ｓ、ＮａＨ２Ａｌ’（ＯＡＶＯＯＪ）２ＮａＢ
Ｈ（ＯＡｃ）ｓ、（ＢＩ３）２、または（Ｐｈ５Ｆ）２
０ｕＢＨ４）を反応させることによシまたは一般式（λ
）を有する化合物を触媒（パラジウム−炭素、ラネイニ
ッケルまたは白金）の存在下接触還元をすることによシ
一般式（１）におけるＲ５が水素の化合物が得られる。
Ｒ４は、水酸基、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ｔｏｒｔ−ブトキシま
たはベンジルオキシ基〕、アリールオキシ基（フェノキ
シ、４−メチルフェノキシまたは４−メトキシフェノキ
シ基）またはハロゲン原子（クロルまたはブロム原子）
を示す〕を有する化合物に水素化アルカリ金属（ＮａＢ
Ｈ４、ＬｉＢＨ４、ＫＢＨ４、ＡＩＨ５ＴｈＡｌ（Ｏ（
））２Ｒ％ＨＡＩ（−Ｎ ｕｃＨ５）２、ＨＡ、＋（０
−Ｂｕ、 ）２、ＬＩＣＮＢＨ５，Ｎａ０ＮＢＨ，、（
−） ＬＩＨＡＩ （ＯＯＨ，）、、ＬｌａＡ−＋ （ｏａ２
Ｈｓ ）ｓ、ＮａＨ２Ａｌ’（ＯＡＶＯＯＪ）２ＮａＢ
Ｈ（ＯＡｃ）ｓ、（ＢＩ３）２、または（Ｐｈ５Ｆ）２
０ｕＢＨ４）を反応させることによシまたは一般式（λ
）を有する化合物を触媒（パラジウム−炭素、ラネイニ
ッケルまたは白金）の存在下接触還元をすることによシ
一般式（１）におけるＲ５が水素の化合物が得られる。
一方一般式（１）におけるＲ５がアルキル基、アリル基
、ビニル基、エチニル基、アラルキル基、アリール基ま
たは置換アルキル基である化合物は一般式（２）〔式中
、 Ｒ’ 、 Ｒ２およびＲ４は前述したものと同意義
を示す。〕を有する化合物に、一般式（且）〔式中、Ｒ
５は Ｒ’Ｘ リ） アルキル基（前述したものと同意義を示す）、アリル基
、ビニル基、エチニル基、アラルキル基（前述したもの
と同意義を示す）、アリール基（前述したものと同意義
を示す〕または置換アルキル基（前述したものと同意義
を示す）であシ、Ｘは金属原子（Ｌｉ ｔ Ｎａ ＊
Ｃｄｔ’２ ｒ ＨＩＶ２ｍＢ１／ＩまたはＳｎ１／４
）、または金属コンプレックス（Ｍ％ｔ 、 ＭｆＢｒ
、またはＶ２ＣｕＬ１）である〕を有する化合物を反
応させることによりｉられる。
、ビニル基、エチニル基、アラルキル基、アリール基ま
たは置換アルキル基である化合物は一般式（２）〔式中
、 Ｒ’ 、 Ｒ２およびＲ４は前述したものと同意義
を示す。〕を有する化合物に、一般式（且）〔式中、Ｒ
５は Ｒ’Ｘ リ） アルキル基（前述したものと同意義を示す）、アリル基
、ビニル基、エチニル基、アラルキル基（前述したもの
と同意義を示す）、アリール基（前述したものと同意義
を示す〕または置換アルキル基（前述したものと同意義
を示す）であシ、Ｘは金属原子（Ｌｉ ｔ Ｎａ ＊
Ｃｄｔ’２ ｒ ＨＩＶ２ｍＢ１／ＩまたはＳｎ１／４
）、または金属コンプレックス（Ｍ％ｔ 、 ＭｆＢｒ
、またはＶ２ＣｕＬ１）である〕を有する化合物を反
応させることによりｉられる。
上記３種類の反応は一７８°〜１００℃で０．１時間〜
２４時間行う。反応に使用する溶媒は、芳香族炭化水素
（ベンゼン、トルエンまたはキシレン）、炭化水素（ヘ
キサン、シクロヘギサンまたハヘンタン）マたはエーテ
ル（エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．２−ジ
メトキシエタンまたはジオキサン）などである。
２４時間行う。反応に使用する溶媒は、芳香族炭化水素
（ベンゼン、トルエンまたはキシレン）、炭化水素（ヘ
キサン、シクロヘギサンまたハヘンタン）マたはエーテ
ル（エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１．２−ジ
メトキシエタンまたはジオキサン）などである。
反応液から反応生成物は常法に従って処理し精製単離さ
れる。
れる。
Ｂ法ニ一般式
〔式中、Ｒ１およびＲ２は前述したものと同意義を示し
Ｒ４はクロルまたはブロム原子である）を有する化合
物に一般式 ％式％） （１１） 〔式中、 Ｒは置換チオ基または置換アミノ基であり、
Ｘは水素原子である〕を有する化合物を塩基〔トリエチ
ルアミン、１．４−ジアザビシクロ［２，２，２］オク
タン、１．５−ジアザビシクロ［３，４，０］］ノンー
５−エン１．８−ジアザビシクロ［５，４，０］］ウン
デクーＴ−エンＮ、Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、
Ａ−ジメチルアミノピリジン、水素化ナトリウム、水素
化カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸ナトリウム
〕の存在下に反応させることによシ一般式〔式中、Ｒ１
およびＲ２は、前述したものと同意義を、Ｒ３は、置換
チオ基または置換アミノ基を示す〕を有する化合物が得
られる。
Ｒ４はクロルまたはブロム原子である）を有する化合
物に一般式 ％式％） （１１） 〔式中、 Ｒは置換チオ基または置換アミノ基であり、
Ｘは水素原子である〕を有する化合物を塩基〔トリエチ
ルアミン、１．４−ジアザビシクロ［２，２，２］オク
タン、１．５−ジアザビシクロ［３，４，０］］ノンー
５−エン１．８−ジアザビシクロ［５，４，０］］ウン
デクーＴ−エンＮ、Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、
Ａ−ジメチルアミノピリジン、水素化ナトリウム、水素
化カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸ナトリウム
〕の存在下に反応させることによシ一般式〔式中、Ｒ１
およびＲ２は、前述したものと同意義を、Ｒ３は、置換
チオ基または置換アミノ基を示す〕を有する化合物が得
られる。
一方、一般式
（１２）
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前述したものと同意義を、
Ｒ４が水酸基を示す〕を有する化合物に、一般式 ％式％ 〔式中、 Ｒ３は、置換チオ基または置換アミノ基を示
す。〕を有する化合物を、縮合剤（ジシクロへキシルカ
ルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、無水酢酸、
アルミナ、またはモレキラーシープ）の存在下に反応さ
せることによシ一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前述したものと同意義を、
Ｒ５は置換チオ基または置換アミノ基を示す。〕を有
する化合物が得られる。
Ｒ４が水酸基を示す〕を有する化合物に、一般式 ％式％ 〔式中、 Ｒ３は、置換チオ基または置換アミノ基を示
す。〕を有する化合物を、縮合剤（ジシクロへキシルカ
ルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、無水酢酸、
アルミナ、またはモレキラーシープ）の存在下に反応さ
せることによシ一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前述したものと同意義を、
Ｒ５は置換チオ基または置換アミノ基を示す。〕を有
する化合物が得られる。
上記の二つの反応に使用される溶媒および反応条件は、
前述したＡ法に使用されるものと同じである。
前述したＡ法に使用されるものと同じである。
Ｃ法ニ一般式
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前述したものと同意義を
Ｒ５は水素原子、アルキル基、アリル基、ビニル基、エ
チニル基、アラルキル基または置換アルキル基を示す〕
を有する化合物を酸化剤（クロム酸、クロム酸−ビリジ
ン、ジョーンズ試薬、酸化ルテニウム、過マンガン酸カ
リ、ジメチルスルホキシド−ジシクロへキシルカルボジ
イミド、ジメチルスルホヤシト−オキサリルクロリド、
ジメチルスルホキシド−トリフルオル酢酸無水物、ピリ
ジニウム クロロクロメ−）、またＨエチル ニトロア
セテート−ジエチルアゾカルボキシレート−トリフェニ
ルホスフィン）で酸化することによシ一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前述したものと同意義を、
Ｒ５は、水素原子、アルキル基、アリル基、ビニル基
、エチニル基、アラルキル基または置換アルキル基を示
す。〕を有する化合物が得られる。本反応に使用される
溶媒および反応条件は、Ａ法に使用されるものと同一で
ある。
Ｒ５は水素原子、アルキル基、アリル基、ビニル基、エ
チニル基、アラルキル基または置換アルキル基を示す〕
を有する化合物を酸化剤（クロム酸、クロム酸−ビリジ
ン、ジョーンズ試薬、酸化ルテニウム、過マンガン酸カ
リ、ジメチルスルホキシド−ジシクロへキシルカルボジ
イミド、ジメチルスルホヤシト−オキサリルクロリド、
ジメチルスルホキシド−トリフルオル酢酸無水物、ピリ
ジニウム クロロクロメ−）、またＨエチル ニトロア
セテート−ジエチルアゾカルボキシレート−トリフェニ
ルホスフィン）で酸化することによシ一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前述したものと同意義を、
Ｒ５は、水素原子、アルキル基、アリル基、ビニル基
、エチニル基、アラルキル基または置換アルキル基を示
す。〕を有する化合物が得られる。本反応に使用される
溶媒および反応条件は、Ａ法に使用されるものと同一で
ある。
Ａ、ＢおよびＣ法において使用される出発物質ＦｉＴｅ
ｔｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、 ５２０５
（１９８１）に述べられている方法に従って合成される
。本発明によって得られる一般式（１）を有する化合物
を第１表に例示する。
ｔｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、 ５２０５
（１９８１）に述べられている方法に従って合成される
。本発明によって得られる一般式（１）を有する化合物
を第１表に例示する。
第 １ 表
（１５）
（１６）
本発明によって得られた一般式（１）を有する化合物は
、強い抗菌活性を示すカルバペネム誘導体の合成中間体
として重要な化合物であることを見い出し本発明を完成
するに至った。一般式（Ｌ）を有する化合物をカルバペ
ネム誘導体へ導く一つの方法を第一図に示す。
、強い抗菌活性を示すカルバペネム誘導体の合成中間体
として重要な化合物であることを見い出し本発明を完成
するに至った。一般式（Ｌ）を有する化合物をカルバペ
ネム誘導体へ導く一つの方法を第一図に示す。
（１）（見）
（Ｌ）
一般式（Ｌ） ｔ Ｃ見） ｔ （、ｊ） ｌ （見）
および（見）。
および（見）。
おけるＲ１ 、 Ｒ２、ＲＩＳおよびＲ５は前述したも
のと同意義を示す。化合物（１）にＷｉｔｔｉｌ？試薬
を反応させ化合物（！！、）として、加水分解、アミド
ＮＨ基の保護基を除去し化合物（Ｌ）へ導く。（Ｌ）に
アルコキシオキサリルクロリドを反応させ化合物（見）
としてこれにトリエチルホスファイトを反応させること
によシカルバベネム誘導体（旦）が得られる。
のと同意義を示す。化合物（１）にＷｉｔｔｉｌ？試薬
を反応させ化合物（！！、）として、加水分解、アミド
ＮＨ基の保護基を除去し化合物（Ｌ）へ導く。（Ｌ）に
アルコキシオキサリルクロリドを反応させ化合物（見）
としてこれにトリエチルホスファイトを反応させること
によシカルバベネム誘導体（旦）が得られる。
以下に実施例、参考例をあげて本発明を具体（１９）
的に示す。
実施例１
［３Ｂ＝［３α（８” ） 、 ４β］）−３−（１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−
ホルミル−１−（２，４−ジメトキシベンジル）−２−
ア化合物（１） （１ｍｍｏｌ ）とトリフェニルホス
フィン（５２４ＩＩｇ）のアセトン（４ｔｒ１ｔ）溶液
にジ（トリフェニル）調水素化ホウソ化合物（６００１
９）を加え室温で１時間攪拌する。反応液をｒ過しｒ液
の溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル薄層クロ
マトグラフィーによシ（シクロヘキサン／酢酸エチル−
２／１）精製するとＲｆ−（２０） ０．２２１を示すアルデヒド体（２） （２４４■）が
油状物として得られた。
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−
ホルミル−１−（２，４−ジメトキシベンジル）−２−
ア化合物（１） （１ｍｍｏｌ ）とトリフェニルホス
フィン（５２４ＩＩｇ）のアセトン（４ｔｒ１ｔ）溶液
にジ（トリフェニル）調水素化ホウソ化合物（６００１
９）を加え室温で１時間攪拌する。反応液をｒ過しｒ液
の溶媒を留去して得られる油状物をシリカゲル薄層クロ
マトグラフィーによシ（シクロヘキサン／酢酸エチル−
２／１）精製するとＲｆ−（２０） ０．２２１を示すアルデヒド体（２） （２４４■）が
油状物として得られた。
ＮＭＲＸベクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ ： ０．０
３ （３Ｈ。
３ （３Ｈ。
ａ ） 、 ０．０４ （３Ｈ、ｓ ） 、 ０．８２
（９Ｈ、ｓ ） 。
（９Ｈ、ｓ ） 。
１１４ （３Ｈ、ｄ 、 、Ｔ −８Ｈｚ ） 、 ３
．００ （Ｉ Ｈ。
．００ （Ｉ Ｈ。
６ｄｔ Ｊ”’ ２ ｔ ２．５ Ｈｚ ｔ ａｓ−ｐ
） ＋ ”２ （３Ｈｒｓ ） 、 ３．７６ （３
Ｈ、ｓ ） 、 ３．９６ （Ｉ Ｈ、ａｄ 。
） ＋ ”２ （３Ｈｒｓ ） 、 ３．７６ （３
Ｈ、ｓ ） 、 ３．９６ （Ｉ Ｈ、ａｄ 。
Ｊ−２、４Ｈｚ 、０４一旦 ） 、４．１５ （Ｉ
Ｈｔ ｄｑ ｔＪ−２，５、６Ｈｚ ） 、 ４．３３
（２Ｈ、ｂｓ ） 、 ６．３４１ Ｈ、ｄ、 Ｊ＝
２ Ｈｚ ） 、 ６．３４ （Ｉ Ｈ、ｄｄ 。
Ｈｔ ｄｑ ｔＪ−２，５、６Ｈｚ ） 、 ４．３３
（２Ｈ、ｂｓ ） 、 ６．３４１ Ｈ、ｄ、 Ｊ＝
２ Ｈｚ ） 、 ６．３４ （Ｉ Ｈ、ｄｄ 。
Ｊ ＝ ２ 、９ Ｈｚ ） 、 ７．０８ （Ｉ Ｈ
、（１、Ｊ −９Ｈ２） 、９．３５ （Ｉ Ｈ、ｄ
、、Ｔ ＝ ４ Ｈｒｚ 、Ｏ旦Ｏ）工Ｒスペクトル
νＣＨａｔｓ ｃｍ″’ ： １７４０ （ｂｒｏａａ
） 。
、（１、Ｊ −９Ｈ２） 、９．３５ （Ｉ Ｈ、ｄ
、、Ｔ ＝ ４ Ｈｒｚ 、Ｏ旦Ｏ）工Ｒスペクトル
νＣＨａｔｓ ｃｍ″’ ： １７４０ （ｂｒｏａａ
） 。
ａｘ
１６１０ 、１５８８
Ｍａ５８スペクト＃ ｍ／ｅ ： ４０７ （Ｍ”）
、 ３５０ （Ｍ”−Ｃ４Ｈｐ） 、 １ｓ１ ＩＬＩＨ５ 化合物（３） （１，５９ｇ） 、ジシクロへキシルカ
ルボジイミド（２，４４ｇ ）とリン酸（０，１９，９
）のジメチルスルホキシド（１６ｒｎ１．）の溶液を室
温で１８時間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え１過
する。Ｐ液を飽相重ン水、食塩水で洗い無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲルクロマトグラフィー（シクロヘキサン／酢酸エ
チル−１／ｌ ）で精製すると化合物（２） （１，４
５，９）が得られた。
、 ３５０ （Ｍ”−Ｃ４Ｈｐ） 、 １ｓ１ ＩＬＩＨ５ 化合物（３） （１，５９ｇ） 、ジシクロへキシルカ
ルボジイミド（２，４４ｇ ）とリン酸（０，１９，９
）のジメチルスルホキシド（１６ｒｎ１．）の溶液を室
温で１８時間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え１過
する。Ｐ液を飽相重ン水、食塩水で洗い無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシ
リカゲルクロマトグラフィー（シクロヘキサン／酢酸エ
チル−１／ｌ ）で精製すると化合物（２） （１，４
５，９）が得られた。
実施例２
［３Ｂ（３α（””）＋４β］） −３−（１−ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−フォル
ミルー２−アゼナジノン（５） アゼチジノン（４） （２８７ｔｎｆｌ ）のテトラヒ
ドロフ（２３） ラン（２０ｍ）の溶液に、−７８℃で１５分間にわたっ
て水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウム
ナトリウム（１ｒｎｌニア０％トルエン溶液）のテトラ
ヒドロフラン（１０ｍｌＶ）溶液を加える。−７８℃で
１時間攪拌した後酢酸（１ｄ〕のテトラヒドロフラン（
５−）溶液を加え次いで酢酸エチルを加える。この溶液
を飽和重ソ水、食塩水の順に洗い、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシリカ
ゲル薄層板で精製（シクロヘキサン／酢酸エチル−１／
１）すると目的物（２０２Ｈ９）が油状物として得られ
た。
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−フォル
ミルー２−アゼナジノン（５） アゼチジノン（４） （２８７ｔｎｆｌ ）のテトラヒ
ドロフ（２３） ラン（２０ｍ）の溶液に、−７８℃で１５分間にわたっ
て水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウム
ナトリウム（１ｒｎｌニア０％トルエン溶液）のテトラ
ヒドロフラン（１０ｍｌＶ）溶液を加える。−７８℃で
１時間攪拌した後酢酸（１ｄ〕のテトラヒドロフラン（
５−）溶液を加え次いで酢酸エチルを加える。この溶液
を飽和重ソ水、食塩水の順に洗い、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られる油状物をシリカ
ゲル薄層板で精製（シクロヘキサン／酢酸エチル−１／
１）すると目的物（２０２Ｈ９）が油状物として得られ
た。
ＮＭＲスペクトル（ＯＤＣｌ ５）δｐｐｍ ： ０．
０７ （３Ｈ。
０７ （３Ｈ。
ｓ ） 、 ０．０９ （３Ｈ、ｓ ） 、 ０．１１
８ （９Ｈ、ｓ ） 。
８ （９Ｈ、ｓ ） 。
２．２４ （３Ｈ、ｄ、 Ｊ −１３Ｈ２） 、 ３．
１０ （Ｉ Ｈｌ ｔ ｌ Ｊ−３Ｈ２、０５−Ｈ）
、 ４．０−４．４ （２Ｈ、ｍ ） 、 ６．７４
（Ｉ Ｈ、ｂｓ 、 Ｎ旦） 、９．６８ （ＩＨ、ｄ
、 、 、Ｔ ＝＝＋ ３ Ｈ２，Ｏ旦Ｏ）実施例４
′ ［３８−［３α（Ｓ”）＋４β］）−１−（２，４−ジ
メトキシ（２４〕 ベンジル）−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−フェ
ニルチオカルボニル−２−アゼチジノン カルボン酸（６） （１，４５，９、４，７ミリモル）
、チオフェノール（０，７８＆ 、 ７．０５ミリモル
）、Ｎ 、 Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド（
１，４５，９。
１０ （Ｉ Ｈｌ ｔ ｌ Ｊ−３Ｈ２、０５−Ｈ）
、 ４．０−４．４ （２Ｈ、ｍ ） 、 ６．７４
（Ｉ Ｈ、ｂｓ 、 Ｎ旦） 、９．６８ （ＩＨ、ｄ
、 、 、Ｔ ＝＝＋ ３ Ｈ２，Ｏ旦Ｏ）実施例４
′ ［３８−［３α（Ｓ”）＋４β］）−１−（２，４−ジ
メトキシ（２４〕 ベンジル）−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−フェ
ニルチオカルボニル−２−アゼチジノン カルボン酸（６） （１，４５，９、４，７ミリモル）
、チオフェノール（０，７８＆ 、 ７．０５ミリモル
）、Ｎ 、 Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド（
１，４５，９。
１．０５ミリモル）の乾燥テトラヒドロフラン（２０−
）溶液を室温にて一晩攪拌した。
）溶液を室温にて一晩攪拌した。
反応混合物を酢酸エチルで希釈したのち、不溶物を濾過
して除き、次にｆ液を塩化ナトリウム水で洗浄して無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。
して除き、次にｆ液を塩化ナトリウム水で洗浄して無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲル２５０Ｉを用い
たラピッドクロマトグラフィーに付して、シクロヘキサ
ン−酢酸エチル（ｅ−４）で溶離した。その結果、チオ
エステル化合物（７）（１，０１１りが得られた。収率
５４％。
たラピッドクロマトグラフィーに付して、シクロヘキサ
ン−酢酸エチル（ｅ−４）で溶離した。その結果、チオ
エステル化合物（７）（１，０１１りが得られた。収率
５４％。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＯｔｓ） δｐｐｍ ： １・
２５ （３Ｈ＋ａ ＋ Ｊ −６Ｈｚ ＋ ＯＨｇ ）
＋ ２．５５ （Ｉ Ｈ、ｂｓ 。
２５ （３Ｈ＋ａ ＋ Ｊ −６Ｈｚ ＋ ＯＨｇ ）
＋ ２．５５ （Ｉ Ｈ、ｂｓ 。
ＯＨ） 、 ３．２２ （Ｉ Ｈ、ａｄ 、 Ｊ ＝
５ Ｈｚ 、 ３ Ｈ２、３−Ｈ） 、 ３．７６ （
６Ｈ、ｓ 、 ＯＭｅ ） 、 ４．００〜４−４０
（２Ｈ、ｍ 、 ４−Ｈ、ＯＨ３胆（ＯＨ）−） 。
５ Ｈｚ 、 ３ Ｈ２、３−Ｈ） 、 ３．７６ （
６Ｈ、ｓ 、 ＯＭｅ ） 、 ４．００〜４−４０
（２Ｈ、ｍ 、 ４−Ｈ、ＯＨ３胆（ＯＨ）−） 。
４．２０ 、４．６８ （２Ｈ、ＡＢ−（１、、Ｔ ＝
１４ Ｈｚ 、 ａＨ２） 、 ６．２５−７．３０
（３Ｈ、ｍ ） 、 ７．３７ （５Ｈ。
１４ Ｈｚ 、 ａＨ２） 、 ６．２５−７．３０
（３Ｈ、ｍ ） 、 ７．３７ （５Ｈ。
ｓ 、 −８Ｐｈ ）
実施例５
［３Ｂ（３α（Ｅ＋”）、４β］］−１−（２，４−ジ
メトキシベンジル）−３−（１−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−４−ジエチルアミノカルボニル−
２−アゼチジノン（８） （１） （８） 酸クロライド（１） （２２２Ｎ９ 、０．５ ｍｍｏ
ｔ）のテトラヒドロフラン（２ａｔ ）溶液にジエチル
アミン（１１０Ｑ 、 １．５ ｍｍｏｔ） ｆ加え室
温で１０分間攪拌する。酢酸エチルで希釈し、水２食塩
水で洗う。Ｍｐ８０４乾燥ののち、溶媒を溜去する。残
る油状物をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにて精製
すると目的物（８） （２１０ｗ、ｙ 、 ８７，７チ
）が得られた。
メトキシベンジル）−３−（１−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−４−ジエチルアミノカルボニル−
２−アゼチジノン（８） （１） （８） 酸クロライド（１） （２２２Ｎ９ 、０．５ ｍｍｏ
ｔ）のテトラヒドロフラン（２ａｔ ）溶液にジエチル
アミン（１１０Ｑ 、 １．５ ｍｍｏｔ） ｆ加え室
温で１０分間攪拌する。酢酸エチルで希釈し、水２食塩
水で洗う。Ｍｐ８０４乾燥ののち、溶媒を溜去する。残
る油状物をシリカゲル薄層クロマトグラフィーにて精製
すると目的物（８） （２１０ｗ、ｙ 、 ８７，７チ
）が得られた。
ＮＭＲＸベクトル（ＣＴ）Ｏ２０）δｐｐｍ ： ０．
０１ （６Ｈ。
０１ （６Ｈ。
ａ ） 、 ０．８１ （９Ｈ、ｓ ） 、 １．０−
１．３ （９Ｈ。
１．３ （９Ｈ。
ｍ ） 、 ３．０−３．５ （５Ｈ、ｍ ） 、 ３
．７４ （３Ｈ。
．７４ （３Ｈ。
ｓ ） ＋ ３．ｙｙ （３Ｈ、ｓ ） ＋ ４．０８
ｔ ４．５９ （２Ｈｌ、 ＡＢ−ｑ 、 Ｊ ｍ
１４ Ｈ２） ＋ ’、１５（ＩＨ，ｍ）。
ｔ ４．５９ （２Ｈｌ、 ＡＢ−ｑ 、 Ｊ ｍ
１４ Ｈ２） ＋ ’、１５（ＩＨ，ｍ）。
４．１９ （Ｉ Ｈ、ｃｌ 、 Ｊ −２Ｈ２、０４−
Ｈ） 、 ６．３６（２７） （Ｉ Ｈ、ｄ、 、Ｔ ＝ ２ Ｈ２） 、 ６．３６
（Ｉ Ｈ、ａｃｔ 。
Ｈ） 、 ６．３６（２７） （Ｉ Ｈ、ｄ、 、Ｔ ＝ ２ Ｈ２） 、 ６．３６
（Ｉ Ｈ、ａｃｔ 。
Ｊ＝２．９Ｈｚ’） 、 ７．１０ （Ｉ Ｈ、ｄ、
Ｊ−９Ｈ２）実施例６ ［３Ｂ−（３α（’）ｐ４β））−３−（１−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）−４−アセチル−２−
アゼチジノン （４） （９） メチルエステル（４）（１４４■、 ０．５ ｍｍｏｔ
）のテトラヒドロフラン溶液（５ゴ）に−７８℃窒素気
流下、メチルマグネシウムプロマイ）” （１，３１ｎ
ｔ。
Ｊ−９Ｈ２）実施例６ ［３Ｂ−（３α（’）ｐ４β））−３−（１−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）−４−アセチル−２−
アゼチジノン （４） （９） メチルエステル（４）（１４４■、 ０．５ ｍｍｏｔ
）のテトラヒドロフラン溶液（５ゴ）に−７８℃窒素気
流下、メチルマグネシウムプロマイ）” （１，３１ｎ
ｔ。
１ ｍａｔ ＴＨＦ溶液）のテトラヒドロフラン（５−
）溶液を攪拌しつつ滴下し、そののち１時間攪拌を続け
る。酢酸（０，５ｍｇ）のテトラヒドロンラン（５−）
溶液を加え、盪剰のグリニヤール試薬を分解したのち、
室温にもどし、酢酸エチルで希釈する。重曹水洗、食塩
水洗ののち、１＃８０４（２８） で乾燥する。シリカゲル薄層クロマトグラフィーにて分
離精製すると目的物（９）（２２■、１６％）が結晶と
して得られた。ｍｐ、 ７２〜Ｔ３℃ＮＭＲスペクトル
（ＯＤＣｔ５）δｐｐｍ ？ ０．１０ （６Ｈ。
）溶液を攪拌しつつ滴下し、そののち１時間攪拌を続け
る。酢酸（０，５ｍｇ）のテトラヒドロンラン（５−）
溶液を加え、盪剰のグリニヤール試薬を分解したのち、
室温にもどし、酢酸エチルで希釈する。重曹水洗、食塩
水洗ののち、１＃８０４（２８） で乾燥する。シリカゲル薄層クロマトグラフィーにて分
離精製すると目的物（９）（２２■、１６％）が結晶と
して得られた。ｍｐ、 ７２〜Ｔ３℃ＮＭＲスペクトル
（ＯＤＣｔ５）δｐｐｍ ？ ０．１０ （６Ｈ。
ｓ ） 、 ０．８９ （９Ｈ、ｏ ） 、 １．２９
（３Ｈ、ｅＬ 。
（３Ｈ、ｅＬ 。
Ｊ”” ６−５ Ｈｚ ） 、 ２．２４ （３Ｈ、ｓ
、 ０４−０００Ｈ３） 。
、 ０４−０００Ｈ３） 。
２．２５ （Ｉ Ｈ、ｍ ） 、 ３．０６ （Ｉ Ｈ
、ｔｉｄｄ、 、 Ｊ −１、２，５、４，５Ｈｚ 、
０５−Ｈ） 、 ４．２２ （Ｉ Ｈ、（１＋ Ｊ−
２−５ＨＩ３ ｒ ０４−Ｈ） ＋ ６．２５ （Ｉ
Ｈ、ｂ６ 。
、ｔｉｄｄ、 、 Ｊ −１、２，５、４，５Ｈｚ 、
０５−Ｈ） 、 ４．２２ （Ｉ Ｈ、（１＋ Ｊ−
２−５ＨＩ３ ｒ ０４−Ｈ） ＋ ６．２５ （Ｉ
Ｈ、ｂ６ 。
Ｎｕ ）
Ｍａ８Ｂスペクトルｍ／ｅ ： ２７２ （Ｍ４＋ｔ）
、 ２３１）実施例７ （３Ｂ−［３α（ｓ” ） 、 ４β〕〕−１−（ｐ−
メト中ジベンジル）−３−（１−ｐ−二トロペンジルオ
キシカルボニルオキシエチル）−４−アセチル−２−ア
ゼチジノン（１１） （１０） （１１） カルボン酸（１０） （４５８嘘、 １ ｍｍｏｌ ）
のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ） （１０ｍ）溶液にオ
キザリルクロライド（１ｍ／りを加え１時間還流する。
、 ２３１）実施例７ （３Ｂ−［３α（ｓ” ） 、 ４β〕〕−１−（ｐ−
メト中ジベンジル）−３−（１−ｐ−二トロペンジルオ
キシカルボニルオキシエチル）−４−アセチル−２−ア
ゼチジノン（１１） （１０） （１１） カルボン酸（１０） （４５８嘘、 １ ｍｍｏｌ ）
のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ） （１０ｍ）溶液にオ
キザリルクロライド（１ｍ／りを加え１時間還流する。
減圧上溶媒を除き真空ポンプにて乾燥し、酸クロライド
を得る。得られる酸クロライド’（ＨＴＨＦ（５−）に
溶解し、別のフラスコに調製しておいたジメチルカドミ
ウムのＴＨＦ溶液〔窒素気流下、Ｍ６Ｍ＃Ｂｚ−１Ｍ
＠度ＴＨＦ溶液１．５−に氷冷下Ｃｄ０１２ １３７．
５ Ｑ （０，７５ｍｍｏｔ）を加え、室温にて２時間
攪拌〕に水冷下、−気に加える。その温度で１５分、更
に室温にて２時間攪拌を続けたのち、水冷下、希塩酸に
て中和し、酢酸エチルにて希釈する。有機層は水洗、食
塩水で洗い、硫酸ナトリウムにて乾燥する。溶媒を減圧
下除き残る油状物をシリカゲルのローバーカラムにて分
離精製すると目的物が油状物として得られた。
を得る。得られる酸クロライド’（ＨＴＨＦ（５−）に
溶解し、別のフラスコに調製しておいたジメチルカドミ
ウムのＴＨＦ溶液〔窒素気流下、Ｍ６Ｍ＃Ｂｚ−１Ｍ
＠度ＴＨＦ溶液１．５−に氷冷下Ｃｄ０１２ １３７．
５ Ｑ （０，７５ｍｍｏｔ）を加え、室温にて２時間
攪拌〕に水冷下、−気に加える。その温度で１５分、更
に室温にて２時間攪拌を続けたのち、水冷下、希塩酸に
て中和し、酢酸エチルにて希釈する。有機層は水洗、食
塩水で洗い、硫酸ナトリウムにて乾燥する。溶媒を減圧
下除き残る油状物をシリカゲルのローバーカラムにて分
離精製すると目的物が油状物として得られた。
ＮＭＲスペクトル（ＯＤＣｔ、）δｐｐｍ ： １．４
５ （３Ｈ。
５ （３Ｈ。
ａ、、Ｊ ｘ６．５Ｈｚ ） 、 ２．０４ （３Ｈ、
８） 、 ３．１５（１Ｈ２ｄｄ、Ｊミ２．５，６．５
Ｈ２，Ｃ３−Ｈ）。
８） 、 ３．１５（１Ｈ２ｄｄ、Ｊミ２．５，６．５
Ｈ２，Ｃ３−Ｈ）。
３．７２． （３Ｈ、８） 、 ３．８９ （Ｉ Ｈ、
ｄ ｌ Ｊ−２，５Ｈｚ ） 、４．０２ 、 ４．７
４ （２Ｈ、ＡＢ−ｑ 、 Ｊ＝ １４Ｈｚ ） 、５
．０４ （Ｉ Ｈ、ｑｕｉｎｔａｐｌｅｔ 、 Ｊ −
６，５Ｈｚ ） 、５．１７ （２Ｈ、ｓ ） 、６．
６７ （２Ｈ、ｒ３、 Ｊ −８，５Ｈｚ ） 、７．
０３ （２Ｈ、ｔｌ 、 Ｊ −８，５Ｈｚ ） 、
７．４１ （２Ｈ、ｄ 、 Ｊ −８，５Ｈ２） 。
ｄ ｌ Ｊ−２，５Ｈｚ ） 、４．０２ 、 ４．７
４ （２Ｈ、ＡＢ−ｑ 、 Ｊ＝ １４Ｈｚ ） 、５
．０４ （Ｉ Ｈ、ｑｕｉｎｔａｐｌｅｔ 、 Ｊ −
６，５Ｈｚ ） 、５．１７ （２Ｈ、ｓ ） 、６．
６７ （２Ｈ、ｒ３、 Ｊ −８，５Ｈｚ ） 、７．
０３ （２Ｈ、ｔｌ 、 Ｊ −８，５Ｈｚ ） 、
７．４１ （２Ｈ、ｄ 、 Ｊ −８，５Ｈ２） 。
８．１３ （２）１ 、ｄ、 、 、Ｔ −８，５Ｈ２
）実施例８ ＜ｐ− ［：３Ｓ−（３α（Ｓ”）１４β））−１）τトキシペ
ンジル）−３−（１−ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−４−アセチル−２−アゼチジノン（１
３） ＯｕＩ （４７７１１９、２，５ｍｍｏ７ ）のジェチ
ルエーテ＃（５１ｎｔ）（７’）懸濁液［０℃、攪拌下
、 Ｎ２気流中、Ｍ２Ｂ５液（１，＠ Ｍ ｘ−チル溶
液 ３５−）を加（３１） える。１０分後、−７８℃に冷却し、酸クロライド（１
２） （２００ｍｇ 、 ０．５ ｍｍｏｔ）のＴＨＦ
−：ｃ−チル（１： ４ 、２．５ゴ）溶液を滴下し
、１５分間攪拌したのち、メタノール１−で加剰のＭθ
２０ｕＬｉ 全分解（酢酸エチルで希釈したのち、水、
食塩水洗い ＭＩｔＳ０４で乾燥する。溶媒を減圧下除
くと１７４肩ｇ（収率８８．８チ）の目的物（１３）が
得られ；。
）実施例８ ＜ｐ− ［：３Ｓ−（３α（Ｓ”）１４β））−１）τトキシペ
ンジル）−３−（１−ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−４−アセチル−２−アゼチジノン（１
３） ＯｕＩ （４７７１１９、２，５ｍｍｏ７ ）のジェチ
ルエーテ＃（５１ｎｔ）（７’）懸濁液［０℃、攪拌下
、 Ｎ２気流中、Ｍ２Ｂ５液（１，＠ Ｍ ｘ−チル溶
液 ３５−）を加（３１） える。１０分後、−７８℃に冷却し、酸クロライド（１
２） （２００ｍｇ 、 ０．５ ｍｍｏｔ）のＴＨＦ
−：ｃ−チル（１： ４ 、２．５ゴ）溶液を滴下し
、１５分間攪拌したのち、メタノール１−で加剰のＭθ
２０ｕＬｉ 全分解（酢酸エチルで希釈したのち、水、
食塩水洗い ＭＩｔＳ０４で乾燥する。溶媒を減圧下除
くと１７４肩ｇ（収率８８．８チ）の目的物（１３）が
得られ；。
ＮＭＲスペクト＃ （ＣＤ０７ｇ）８９９ｍ ： ０．
０４ （３Ｈ。
０４ （３Ｈ。
ｓ ） 、 ０．０６ （３Ｈ、ｓ ） 、 ０．８５
（９Ｈ、ｓ ） 。
（９Ｈ、ｓ ） 。
１．２２ （３Ｈ、ｄ、 Ｊ −６Ｈ２） 、 ２．０
０ （３Ｈ。
０ （３Ｈ。
８ ） 、 ２．９２ （Ｉ Ｈ、ｄａ 、 Ｊ ＝
２．５ 、４．５ Ｈ２） 。
２．５ 、４．５ Ｈ２） 。
３．７４ （３Ｈ、ｓ ） 、 ３．９８ （Ｉ Ｈ、
ｄ、 Ｊ ＝ ２．５Ｈｚ ） 、 ４．１１ ＋、
４．５９ （２Ｈ、ＡＢ−ｑ 、 Ｊ −１４Ｈｚ ）
、 ４．１８ （Ｉ Ｈ、ｒｎ ） 、 ６．８３
（２Ｈ、ｄ 。
ｄ、 Ｊ ＝ ２．５Ｈｚ ） 、 ４．１１ ＋、
４．５９ （２Ｈ、ＡＢ−ｑ 、 Ｊ −１４Ｈｚ ）
、 ４．１８ （Ｉ Ｈ、ｒｎ ） 、 ６．８３
（２Ｈ、ｄ 。
Ｊ ＝ ９ Ｈｚ ） 、 ７．１３ （２Ｈ、ｄ 、
：ｆ−９Ｈ２）実施例９ ［３Ｂ（ｓａ（８”） 、 ４β］）−１−（ｐ−メト
キシベンジル）−３−（１−ｐ−二トロベンジルオキシ
カルポニルオキシエチル）−４−アセチル−２−アゼチ
ジノン（１１） （３２） ０Ｍθ ＯＭθ （１４） （１１） 実施例８と同様に酸クロライド（１４）を処理すること
によシ目的物（１１）が得られた。
：ｆ−９Ｈ２）実施例９ ［３Ｂ（ｓａ（８”） 、 ４β］）−１−（ｐ−メト
キシベンジル）−３−（１−ｐ−二トロベンジルオキシ
カルポニルオキシエチル）−４−アセチル−２−アゼチ
ジノン（１１） （３２） ０Ｍθ ＯＭθ （１４） （１１） 実施例８と同様に酸クロライド（１４）を処理すること
によシ目的物（１１）が得られた。
ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ５）８９９ｍ ： １．４
５ （３Ｈ。
５ （３Ｈ。
ｅＬ 、 Ｊ −６，５Ｈ２） 、 ２．０４ （３Ｈ
、ｓ ） 、 ３．１５（Ｉ Ｈ、ａａ 、 Ｊ −２
，５、６，５Ｈｚ ） 、 ３．７２ （３Ｈ、ｓ ）
、 ３８９ （Ｉ Ｈ、ｄ、 Ｊ ＝ ２．５ Ｈｚ
） 。
、ｓ ） 、 ３．１５（Ｉ Ｈ、ａａ 、 Ｊ −２
，５、６，５Ｈｚ ） 、 ３．７２ （３Ｈ、ｓ ）
、 ３８９ （Ｉ Ｈ、ｄ、 Ｊ ＝ ２．５ Ｈｚ
） 。
４．０２ 、４．７４ （２）１ 、 ＡＢ−ｃｌ 、
Ｊ ＝ １４ Ｈ，、） 。
Ｊ ＝ １４ Ｈ，、） 。
５．０４ （Ｉ Ｈ、ｑｕｉｎｔａｐｌｅｔ 、 Ｉ
−６，５Ｈ２） 。
−６，５Ｈ２） 。
５．１７ （２Ｈ、Ｓ ） 、 ６．６７ （２Ｂ 、
（１、Ｊ ＝８．５ ｎｚ） 、 ７．０３ （２Ｈ
、ｄ 、 、Ｔ −８，５Ｈ２） 。
（１、Ｊ ＝８．５ ｎｚ） 、 ７．０３ （２Ｈ
、ｄ 、 、Ｔ −８，５Ｈ２） 。
７．４１ （２Ｈ、ｄ 、 Ｊ ＝ ８．５ Ｈｚ ）
、 ８．１３ （２Ｈ、ｌ 、 Ｊ −８，５Ｈｚ
） 参考例１ ［３Ｂ−［３α（Ｓ”）＋４β）］ −３（１−ｔａｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル） −１−（２
，４−ジメトキシベンジル）−２−アゼチジノン−４−
カルボン酸（１６） 化合物（１ｓ） （２，４ｉ ）をエタノール（１３ｍ
ｌ＋）に溶かし水酸化ナトリウム（Ｉ Ｎ 、 ６ｍ／
）を加え５０〜５５°で１８時間攪拌する。反応液に５
％塩酸を加え酸性として酢酸エチルで抽出する。酢酸エ
チルを水、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後留
去するとカルボン酸（１６） （１，９６ｇ）が得られ
た。
、 ８．１３ （２Ｈ、ｌ 、 Ｊ −８，５Ｈｚ
） 参考例１ ［３Ｂ−［３α（Ｓ”）＋４β）］ −３（１−ｔａｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル） −１−（２
，４−ジメトキシベンジル）−２−アゼチジノン−４−
カルボン酸（１６） 化合物（１ｓ） （２，４ｉ ）をエタノール（１３ｍ
ｌ＋）に溶かし水酸化ナトリウム（Ｉ Ｎ 、 ６ｍ／
）を加え５０〜５５°で１８時間攪拌する。反応液に５
％塩酸を加え酸性として酢酸エチルで抽出する。酢酸エ
チルを水、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後留
去するとカルボン酸（１６） （１，９６ｇ）が得られ
た。
ＮＭＲスペクトル（ｃＤｏｚｓ）δｐｐｍ： ０．０６
（６Ｈ。
（６Ｈ。
ｓ ） 、 ０．７８ （９Ｈ、ｓ ） 、 １．２４
（３Ｈ、ａ 。
（３Ｈ、ａ 。
Ｊ ＝ ５ Ｈ２） 、 ３．２７ （Ｉ Ｈ、ｔ 、
Ｊ−３Ｈｚ 。
Ｊ−３Ｈｚ 。
Ｃ３一旦） 、３．８３ （６Ｈ、ｓ ） 、４．１９
（Ｉ Ｈ。
（Ｉ Ｈ。
ｄ 、Ｊ ＝ ３ Ｈ２，０４−： ）、４．２８ ．
４．６２ （２Ｈ、ＡＢ−ＣＬ 、Ｊ ＝ １４ Ｈｚ
） 、４．３２ （Ｉ Ｈｒ ｍ ） ＋６．４６
（Ｉ Ｈ、ｄ、ｄ 、Ｊ −２、９Ｈｚ ） 、７．１
６ （Ｉ Ｈ、ｂｓ 、ＣＯＯ旦） 、７．２０ （Ｉ
Ｈ、ｄ 、 Ｊ ＝９ Ｈｚ ） 参考例２ （３Ｓ−［３α（Ｓ＊）、４β］：］ ３−（１ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル） −１−（２
，４−ジメトキシベンジル）−２−アゼチジノン−４−
カルボン酸クロライド（１） カルボン酸（１６） （２，１、！？ ）のテトラヒド
ロフラン（２０ｄ）溶液にオキサリルクロライド（１，
。
４．６２ （２Ｈ、ＡＢ−ＣＬ 、Ｊ ＝ １４ Ｈｚ
） 、４．３２ （Ｉ Ｈｒ ｍ ） ＋６．４６
（Ｉ Ｈ、ｄ、ｄ 、Ｊ −２、９Ｈｚ ） 、７．１
６ （Ｉ Ｈ、ｂｓ 、ＣＯＯ旦） 、７．２０ （Ｉ
Ｈ、ｄ 、 Ｊ ＝９ Ｈｚ ） 参考例２ （３Ｓ−［３α（Ｓ＊）、４β］：］ ３−（１ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル） −１−（２
，４−ジメトキシベンジル）−２−アゼチジノン−４−
カルボン酸クロライド（１） カルボン酸（１６） （２，１、！？ ）のテトラヒド
ロフラン（２０ｄ）溶液にオキサリルクロライド（１，
。
（３５）
ｍｅ ）を加え、２５℃で１時間攪拌する。反応液を濃
縮すると酸クロライド（１） （２，１，９）が得られ
た。これを精製することなく次の反応に使用する。。
縮すると酸クロライド（１） （２，１，９）が得られ
た。これを精製することなく次の反応に使用する。。
参考例３
［３８−［：３α（Ｓ”）、４β］］ −３−（１−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−ヒ
ドロキシ−１−（２，４−ジメトキシベンジル）−２−
アゼチジノン（３） ００Ｈ５００Ｈ４ （１７） （ａ） １）化合物（１７） （ｔ８４ 、！ｉ’） （Ｄｌり
／−ル（２０ｍＪ）溶液に水素化ホウ素ナトリウム（０
，６ｇ）を加え、５０℃で４時間攪拌する。反応液を氷
水で冷却し５％塩酸、酢酸エチルの順に加える。酢酸エ
チルを飽和型ソ水、食塩水で順に洗い、硫酸マ（３６） グネシウムで乾燥後留去すると結晶が得られ、これを再
結晶（ヘキサン）するとアルコール体（３） （１，７
＃ ）が得られた。
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−ヒ
ドロキシ−１−（２，４−ジメトキシベンジル）−２−
アゼチジノン（３） ００Ｈ５００Ｈ４ （１７） （ａ） １）化合物（１７） （ｔ８４ 、！ｉ’） （Ｄｌり
／−ル（２０ｍＪ）溶液に水素化ホウ素ナトリウム（０
，６ｇ）を加え、５０℃で４時間攪拌する。反応液を氷
水で冷却し５％塩酸、酢酸エチルの順に加える。酢酸エ
チルを飽和型ソ水、食塩水で順に洗い、硫酸マ（３６） グネシウムで乾燥後留去すると結晶が得られ、これを再
結晶（ヘキサン）するとアルコール体（３） （１，７
＃ ）が得られた。
融点 ７０．５〜１１．５℃
〔α躍 −１０，０°（０＝ １．００ 、０ＨＯｔｓ
）ＩＲスヘク） ／ｌ／ ｖ Ｎｕ”’ ｃｍ−’
： ３３５０ 、１７３３ 。
）ＩＲスヘク） ／ｌ／ ｖ Ｎｕ”’ ｃｍ−’
： ３３５０ 、１７３３ 。
ａｘ
１７１８ 、１６１５ 、１５９５
ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ５）６０９ｍ ： ０．０
３ （３Ｈ。
３ （３Ｈ。
ｓ ） 、 ０．０６ （３Ｈ、ｓ ） 、 ０．８５
（９Ｈ、ｓ ） 。
（９Ｈ、ｓ ） 。
１．１９ （３Ｈ、ｄ−、Ｊ ＝ ６ Ｈｚ ） 、
２．２０ （Ｉ Ｈ。
２．２０ （Ｉ Ｈ。
ｂｓ 、 ＯＨ） 、 ２．９８ （Ｉ Ｈ、ａｄ 、
Ｊ ＝ １ 、５Ｈｚ ） 、 ３．６０ （３Ｈ、
ｂｓ 、 Ｏ旦、ＯＨ、ｃ４一旦）。
Ｊ ＝ １ 、５Ｈｚ ） 、 ３．６０ （３Ｈ、
ｂｓ 、 Ｏ旦、ＯＨ、ｃ４一旦）。
３．８０ （３Ｈ、ｓ ） 、 、３．８２ （３Ｈ、
ｓ ） 、 ４．１５（’ Ｈｙ ｄｑｖ Ｊ＝５ ＋
６ Ｈｚ ） ｔ ４−３２ （２Ｈ、ｂｓ ） 、
６．４２ （Ｉ Ｈ、ｔｌ 、 Ｊ ＝ ２ Ｈｚ
） 。
ｓ ） 、 ４．１５（’ Ｈｙ ｄｑｖ Ｊ＝５ ＋
６ Ｈｚ ） ｔ ４−３２ （２Ｈ、ｂｓ ） 、
６．４２ （Ｉ Ｈ、ｔｌ 、 Ｊ ＝ ２ Ｈｚ
） 。
６．４２ （Ｉ Ｈ、ａｄ 、 Ｊ＝ ２ 、９ Ｈ２
） 、 ７．２０ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｇＨｚ） ０Ｈ５ （１２） エステル体（１５） （１２０ｍｇ ）と水素化ホウツ
ナトリウム（５（１＋ｇ）のエタノール（２−）懸濁液
を１０℃で１８時間攪拌する。反応液を上述した方法で
処理し得られる油状物をシリカゲル薄層板（シクロヘキ
サン／酢酸エチル＝ １／１ ） テ精製するとアルコ
ール体（３） （５０ｍ９ ）が得られた。
） 、 ７．２０ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｇＨｚ） ０Ｈ５ （１２） エステル体（１５） （１２０ｍｇ ）と水素化ホウツ
ナトリウム（５（１＋ｇ）のエタノール（２−）懸濁液
を１０℃で１８時間攪拌する。反応液を上述した方法で
処理し得られる油状物をシリカゲル薄層板（シクロヘキ
サン／酢酸エチル＝ １／１ ） テ精製するとアルコ
ール体（３） （５０ｍ９ ）が得られた。
参考例５
［３８（３α（Ｓ”） ４β〕〕−メチル３− （１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２−
アゼチジノン−４−カルボキシレー） （４）００Ｈ５ （１７） （４） 化合物（１７） （１ｍｍｏｔ）のアセトニトリル−水
（１：１，３２ｒｎ７りの溶液に水素化リン酸二カリウ
ム（１，５ｇ）と過硫酸カリ（３，０，９）を加え７５
℃で１時間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え飽和重
ソ水、食塩の順に洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、酢
酸エチルを留去して得られる油状物を薄層板でＭ製（シ
クロヘキサン／酢酸エチル−１／１）すると融点７８５
〜７９．５°の結晶（４）が得られた（収率６９チ）。
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−２−
アゼチジノン−４−カルボキシレー） （４）００Ｈ５ （１７） （４） 化合物（１７） （１ｍｍｏｔ）のアセトニトリル−水
（１：１，３２ｒｎ７りの溶液に水素化リン酸二カリウ
ム（１，５ｇ）と過硫酸カリ（３，０，９）を加え７５
℃で１時間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え飽和重
ソ水、食塩の順に洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、酢
酸エチルを留去して得られる油状物を薄層板でＭ製（シ
クロヘキサン／酢酸エチル−１／１）すると融点７８５
〜７９．５°の結晶（４）が得られた（収率６９チ）。
〔α〕背 −６，０（０！−＝ １．３７ ＋ ０工（
５０Ｈ）ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ５）δＩ）Ｉ）ｍ
： ０．０８ （６Ｈ。
５０Ｈ）ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ５）δＩ）Ｉ）ｍ
： ０．０８ （６Ｈ。
ｓ ） 、 ０．８８ （９Ｈ、ｓ ） 、 １２３
（３Ｈ、ｄ 。
（３Ｈ、ｄ 。
Ｊ ＝ ６．５ Ｈｚ ） 、 ３．２５ （Ｉ Ｈ、
ａｄｄ 、 Ｊ＝ １ 。
ａｄｄ 、 Ｊ＝ １ 。
３ ＋ ３ Ｈｚ ＨＣ５−Ｈ，） ＋ ３７７ （３
Ｈｒ Ｓ） ＋（３９） ４．２８ （Ｉ Ｈ、ａｑ 、Ｊ ＝ ３ 、 ６．５
Ｈ２） 、４．２９（Ｉ Ｈ、ｄ、 Ｊ ＝ ３ Ｈ
２，Ｃａ−”−） ＋ ６３０ （’Ｈ、ｂｓ 、秋Ｎ
） 工Ｒスペクトル ν”１ｊ０’ ”” ： ３２２０
、１７８０１ｍ ａＸ （ｓｈｏｕｌａｅｒ）＋ １７７２ ．１７４７出願人
三共株式会社 代理人 弁理士樫出庄治 （４０） 手続補正書（自発） 昭和５９年９月を日 特許庁長官 志 賀 学殿 昭和５８年特許願第１５５０８１号 ２、発明の名称 ２−アゼチジノン誘導体及びその製造法３、補正をする
者 事件との関係 、特許出願人 住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 ６、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄７、補
正の内容 別紙の通り １、明細書第８頁第５行の「フェニルスルイニル」ヲ「
フェニルスルフィニル１．！：訂正する。
Ｈｒ Ｓ） ＋（３９） ４．２８ （Ｉ Ｈ、ａｑ 、Ｊ ＝ ３ 、 ６．５
Ｈ２） 、４．２９（Ｉ Ｈ、ｄ、 Ｊ ＝ ３ Ｈ
２，Ｃａ−”−） ＋ ６３０ （’Ｈ、ｂｓ 、秋Ｎ
） 工Ｒスペクトル ν”１ｊ０’ ”” ： ３２２０
、１７８０１ｍ ａＸ （ｓｈｏｕｌａｅｒ）＋ １７７２ ．１７４７出願人
三共株式会社 代理人 弁理士樫出庄治 （４０） 手続補正書（自発） 昭和５９年９月を日 特許庁長官 志 賀 学殿 昭和５８年特許願第１５５０８１号 ２、発明の名称 ２−アゼチジノン誘導体及びその製造法３、補正をする
者 事件との関係 、特許出願人 住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 ６、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄７、補
正の内容 別紙の通り １、明細書第８頁第５行の「フェニルスルイニル」ヲ「
フェニルスルフィニル１．！：訂正する。
２、 明細書第１５頁下から第６行乃至第５行の「ジメ
チルスルホキシド−オキサリルクロリド」を「ジメチル
スルホキシド−オキザリルクロリド」と訂正する。
チルスルホキシド−オキサリルクロリド」を「ジメチル
スルホキシド−オキザリルクロリド」と訂正する。
３、 明細書第１７頁第６行のｒ −８ｉＢｕ （ＣＨ
２）２ｊ ｉｒ−８ｉＢｕｔ（０Ｍ３）２Ｊと訂正する
。
２）２ｊ ｉｒ−８ｉＢｕｔ（０Ｍ３）２Ｊと訂正する
。
以上
Claims (3)
- （１）一般式 〔式中、 Ｒ１は、水素原子または窒素原子の保護基を
、 Ｒ２は、水素原子または水酸基の保護基を、および
Ｒ３は、水素原子、アルキル基、アリル基、ビニル基、
エチニル基、アラルキル基、アリール基、置換アルキル
基、置換チオ基または置換アミン基を示す。〕を有する
化合物。 - （２）一般式 〔式中、 Ｒ１は、水素原子または窒素原子の保護基を
、 Ｒは、水素原子または水酸基の保護基を、およびＲ
４は、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、また
はハロゲン原子を示す。〕を有する化合物に一般式 ％式％（） 〔式中、 Ｒ５は、水素原子、アルキル基、アリル基、
ビニル基、エチニル基、アラルキル基、アリール基、置
換アルキル基、置換チオ基または置換アミン基を示す核
性基を、Ｘはその残基を示す。〕を有する化合物を反応
させることを特徴とする一般式 〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、前述したものと同意
義を示す。〕を有する化合物の製造法。 - （３）一般式 〔式中、 Ｒは水素原子または窒素原子の保護基を、
Ｒ２は水素原子または水酸基の保護基をおよびＲ５は水
素原子、アルキル基、アリル基、ビニル基、エチニル基
、アラルキル基、アリール基または置換アルキル基を示
す。〕を有する化合物を酸化することを特徴とする一般
式〔式中、 Ｒ＋ 、 Ｒ２およびＲ３は、前述したも
のと同意義を示す。〕を有する化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58155081A JPS6048964A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | ２−アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58155081A JPS6048964A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | ２−アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048964A true JPS6048964A (ja) | 1985-03-16 |
Family
ID=15598235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58155081A Pending JPS6048964A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | ２−アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048964A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62192356A (ja) * | 1986-02-19 | 1987-08-22 | Sanraku Inc | フルオロアルキルβ−ラクタム化合物 |
| JPH0616622A (ja) * | 1984-10-01 | 1994-01-25 | Ciba Geigy Ag | アゼチジノン化合物及びその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55111463A (en) * | 1979-02-21 | 1980-08-28 | Sankyo Co Ltd | Beta-lactam compound and its preparation |
-
1983
- 1983-08-26 JP JP58155081A patent/JPS6048964A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55111463A (en) * | 1979-02-21 | 1980-08-28 | Sankyo Co Ltd | Beta-lactam compound and its preparation |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0616622A (ja) * | 1984-10-01 | 1994-01-25 | Ciba Geigy Ag | アゼチジノン化合物及びその製造方法 |
| JPS62192356A (ja) * | 1986-02-19 | 1987-08-22 | Sanraku Inc | フルオロアルキルβ−ラクタム化合物 |
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