JPS62192356A - フルオロアルキルβ−ラクタム化合物 - Google Patents
フルオロアルキルβ−ラクタム化合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な7ゼチジノン誘導体に関し、さらに詳し
くは式 式中、R3はホルミル基、カルボキシル基又はアセチル
オキシ基を表わし、R2は水素原子又はN−保護基を表
わす、 で示されるアゼチシ/ン誘導体に関する。
くは式 式中、R3はホルミル基、カルボキシル基又はアセチル
オキシ基を表わし、R2は水素原子又はN−保護基を表
わす、 で示されるアゼチシ/ン誘導体に関する。
本発明により提供される上記式(I)の化合物は、各種
の医薬品、特にカルバペナム又はカルバペネム系抗生物
質、例えば、優れた抗菌活性を有し且つ比較的安定なカ
ルバペネム系抗生物質として既に知られている下記式 で示される抗生物質の合成中間体として有用である。
の医薬品、特にカルバペナム又はカルバペネム系抗生物
質、例えば、優れた抗菌活性を有し且つ比較的安定なカ
ルバペネム系抗生物質として既に知られている下記式 で示される抗生物質の合成中間体として有用である。
上記式(A)の抗生物質及びその製造法は、スイスのリ
ント社によってはじめて開発されたものであり、特開昭
59−84886号公報に開示されているが、そこに開
示された式(A)の抗生物質野製造法は非常に多数の工
程と煩雑な反応撹作を必要とし、工業的に適当な方法と
は考えられない。
ント社によってはじめて開発されたものであり、特開昭
59−84886号公報に開示されているが、そこに開
示された式(A)の抗生物質野製造法は非常に多数の工
程と煩雑な反応撹作を必要とし、工業的に適当な方法と
は考えられない。
そこで、本発明者らは、上記式(A)の抗生物質の工程
数のが少なく比較的簡単な製造法について鋭意研究を行
なった結果、前記式(I)の新規なアゼチジノン誘導体
を中間体として使用することにより、式(A)の抗生物
質が比較的少ない工程数で且つ良好な収率で得られるこ
とを見い出し、本発明を完成した。
数のが少なく比較的簡単な製造法について鋭意研究を行
なった結果、前記式(I)の新規なアゼチジノン誘導体
を中間体として使用することにより、式(A)の抗生物
質が比較的少ない工程数で且つ良好な収率で得られるこ
とを見い出し、本発明を完成した。
前記式(I)において、R2によって表わされうる「N
−保護基」としては、例えば、Fツメチルシリル、te
rt−ブチルツメチルシリルなどのトリ(低級アルキル
)シリル基;ベンジルなどの7ラルキル基;p−メトキ
シフェニル、0.p−ジメトキシフェニル基が包含され
る。
−保護基」としては、例えば、Fツメチルシリル、te
rt−ブチルツメチルシリルなどのトリ(低級アルキル
)シリル基;ベンジルなどの7ラルキル基;p−メトキ
シフェニル、0.p−ジメトキシフェニル基が包含され
る。
また、4−位の置換基R+の立体配置としては、Sもし
くはRのいずれであってもよい。
くはRのいずれであってもよい。
しかして、本発明により提供される式(I)の化合物の
代表例を示せば次のとおりである:ゼチジノン、 ルー2−7ゼチノノン、 アゼチジノン、 シリル−2−7ゼチジノン、 式(I)の化合物は下記の反応式Iに示す経路によって
製造することができる: H マ CI−e−1) マ (1−(+−2) 上記反応式中、R21はN−保護基を表わし、R1は低
級アルキル基を表わす。
代表例を示せば次のとおりである:ゼチジノン、 ルー2−7ゼチノノン、 アゼチジノン、 シリル−2−7ゼチジノン、 式(I)の化合物は下記の反応式Iに示す経路によって
製造することができる: H マ CI−e−1) マ (1−(+−2) 上記反応式中、R21はN−保護基を表わし、R1は低
級アルキル基を表わす。
式(1)の化合物と式(2)の化合物との、リチウムジ
イソプロピルアミド又はリチウムイソプロピルシクロへ
キシルアミドの存在下での反応は、例えばジー・アイ・
ジョーク(G 、I 、 G eorge)ら、ジャー
ナル・オブ・ケミカル・ソサエティ◆コミュ=ケーショ
ン(J 、Chem、Soc、Chem、Coi+mu
n、)1433(1985)に記載の方法に従って行な
うことができる。この反応により通常下記式の2種のエ
ピマーの混合物が得られる。これらのエピマー混合物は
この特恵でそれぞれのエピマーに分離してもよ(、或い
は混合物のまま次の反応に供してもよい。
イソプロピルアミド又はリチウムイソプロピルシクロへ
キシルアミドの存在下での反応は、例えばジー・アイ・
ジョーク(G 、I 、 G eorge)ら、ジャー
ナル・オブ・ケミカル・ソサエティ◆コミュ=ケーショ
ン(J 、Chem、Soc、Chem、Coi+mu
n、)1433(1985)に記載の方法に従って行な
うことができる。この反応により通常下記式の2種のエ
ピマーの混合物が得られる。これらのエピマー混合物は
この特恵でそれぞれのエピマーに分離してもよ(、或い
は混合物のまま次の反応に供してもよい。
かくして得られる式(3)の化合物は、次いでシェルア
ミノサルファートリフルオライド(D A ST)を用
いて77索化する。このフッ素化はそれ自体既知の方法
、例えばチングボングマックら、ヘテロサイクルス(H
eterocycles)19 、 1399(198
2)に記載の方法で行なうことができ、これにより、3
−位ill頷におけるS−立体配置のOHがR−立体配
置のFに立体選択的に置換されて、式(4)の化合物が
生成する。
ミノサルファートリフルオライド(D A ST)を用
いて77索化する。このフッ素化はそれ自体既知の方法
、例えばチングボングマックら、ヘテロサイクルス(H
eterocycles)19 、 1399(198
2)に記載の方法で行なうことができ、これにより、3
−位ill頷におけるS−立体配置のOHがR−立体配
置のFに立体選択的に置換されて、式(4)の化合物が
生成する。
このようにして生成する式(4)の化合物はオゾン酸化
することにより、式(I−a)の化合物、すなわちR1
がホルミル基を表わす式(1)の化合物が得られ、次い
でこの化合物をジョーンズ酸化に付すことに上り式(1
−b)の化合物、すなわちR3がカルボキシル基を表わ
す式(I)の化合物に変えることができる。上記オゾン
酸化及びジョーンズ酸化はそれ自体既知の方法、例えば
ディ・ジエイ・ハート(D、J、Hart)ら、テトラ
ヘトaン−レターズ(Tetrabedron Let
ters)26 、5493 (1985)に記載の方
法に従って行なうことができる。
することにより、式(I−a)の化合物、すなわちR1
がホルミル基を表わす式(1)の化合物が得られ、次い
でこの化合物をジョーンズ酸化に付すことに上り式(1
−b)の化合物、すなわちR3がカルボキシル基を表わ
す式(I)の化合物に変えることができる。上記オゾン
酸化及びジョーンズ酸化はそれ自体既知の方法、例えば
ディ・ジエイ・ハート(D、J、Hart)ら、テトラ
ヘトaン−レターズ(Tetrabedron Let
ters)26 、5493 (1985)に記載の方
法に従って行なうことができる。
かくして得られる式(1−b)の化合物は次いで西酢酸
鉛を用いて酸化的に脱炭酸を行なうことにより、式(T
−e−1’)の化合物、すなわちRoがアセチルオキシ
基を表わす式(1)の化合物とすることができる。この
酸化的脱炭酸もそれ自体既知の方法、例えばピー・ジェ
イ・リーf−(P、J、Re1der)ら、テトラヘド
ロン・レターズ(T etrahedron Lett
ers)23. 2293(1982)に記載の方法に
準じて行なうことができる。生成する式(I−c−1)
の化合物の1−位のN−保護基は、そのN−保護基の種
類に応じた適当な脱N−保護基反応〔例えばR21がト
リ(低級アルキル)シリル基の場合は酸加水分解、R2
□が7ラルキル基の場合は水素化分解、モしてR2+が
p−メチキシフェニル又は0tp−ジメトキシフェニル
基の場合は酸化的脱離〕により離乳させ、式(1−c−
2)の化合物に導くこともできる。なお、トリメチルシ
リル基の場合は脱保護することなく下記反応式■に示す
反応に供とてもよい。
鉛を用いて酸化的に脱炭酸を行なうことにより、式(T
−e−1’)の化合物、すなわちRoがアセチルオキシ
基を表わす式(1)の化合物とすることができる。この
酸化的脱炭酸もそれ自体既知の方法、例えばピー・ジェ
イ・リーf−(P、J、Re1der)ら、テトラヘド
ロン・レターズ(T etrahedron Lett
ers)23. 2293(1982)に記載の方法に
準じて行なうことができる。生成する式(I−c−1)
の化合物の1−位のN−保護基は、そのN−保護基の種
類に応じた適当な脱N−保護基反応〔例えばR21がト
リ(低級アルキル)シリル基の場合は酸加水分解、R2
□が7ラルキル基の場合は水素化分解、モしてR2+が
p−メチキシフェニル又は0tp−ジメトキシフェニル
基の場合は酸化的脱離〕により離乳させ、式(1−c−
2)の化合物に導くこともできる。なお、トリメチルシ
リル基の場合は脱保護することなく下記反応式■に示す
反応に供とてもよい。
以上の如くして製造される本発明の式<1−c−2)の
化合物は、例えば下記反応式■に従い、それ自体既知の
方法で、前記式(A)の抗生物質に誘導することができ
る: =8− 反応式 ■ マ <1−c−2) マ 試−」1 a)H2C=C(OS i(C’Hs)−)−C(N2
)−C0〇−R,、ZnI。
化合物は、例えば下記反応式■に従い、それ自体既知の
方法で、前記式(A)の抗生物質に誘導することができ
る: =8− 反応式 ■ マ <1−c−2) マ 試−」1 a)H2C=C(OS i(C’Hs)−)−C(N2
)−C0〇−R,、ZnI。
b)Rh2(OCOCR,)。
c) (C刈o−)2P OCL(1so−C1H?)
2N C2Hs*1)グプリュ・7リツチ(W、 F
1iLsch)ら、テトラヘドロン・レターズ(T e
trahedronLetters)23.2297(
1982)2) ディ・ノー・メリロ(D、G、Mcl
illo)ら、テトラヘドロン・レターズ(T etr
ahedronLetters)先1 、2783(1
980)上記の如くして製造される式(A)の抗生物質
は広範囲かつ優れた抗菌活性を有し、しかも腎デヒドロ
ペブチグーゼに対しても安定であり、抗菌剤として極め
て有用である。このことより、本発明の式(I)で示さ
れる化合物は合成中間体として有用である。
2N C2Hs*1)グプリュ・7リツチ(W、 F
1iLsch)ら、テトラヘドロン・レターズ(T e
trahedronLetters)23.2297(
1982)2) ディ・ノー・メリロ(D、G、Mcl
illo)ら、テトラヘドロン・レターズ(T etr
ahedronLetters)先1 、2783(1
980)上記の如くして製造される式(A)の抗生物質
は広範囲かつ優れた抗菌活性を有し、しかも腎デヒドロ
ペブチグーゼに対しても安定であり、抗菌剤として極め
て有用である。このことより、本発明の式(I)で示さ
れる化合物は合成中間体として有用である。
次に実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
実施例 1
(3S、4 S)、(3S、4 R)及び(3S、48
)−3−((S)−1−ヒドロキシエチル)−1−(p
−メトキシ)7エ二ルー4−(2−フェニル)ビニル−
2−7ゼチジノン1工、1上及びよ且の製造 G、 I 、George等(Journal Cbe
m、Soc、Chew。
)−3−((S)−1−ヒドロキシエチル)−1−(p
−メトキシ)7エ二ルー4−(2−フェニル)ビニル−
2−7ゼチジノン1工、1上及びよ且の製造 G、 I 、George等(Journal Cbe
m、Soc、Chew。
Commun、 1433 (1985))に準じて
合成した。すなわち無水テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルアミン5 mll (35、6mmole)の混
合液を一78°Cに冷却後、2.6Mn−ブチルリチウ
ムヘキサン溶液15 ml (39mmmole)を1
0分間で加え、同温度で15分反応させた。この溶液中
に(S)−β−ヒドロキシ酪酸メチルエステル(光学純
度88%)2 g(17mmole)を含むテトラヒド
ロ7ラン溶液3mj!を滴下した。同温度で20分、−
25℃で20分反応させた。反応液を再び一78℃に冷
却しN−7ニシルシンナミリデンイミン3.85g(1
7mmole)のTHFHF溶液40全!下した。滴下
後徐々に昇温度させ、室温で一昼夜反応させた。
合成した。すなわち無水テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルアミン5 mll (35、6mmole)の混
合液を一78°Cに冷却後、2.6Mn−ブチルリチウ
ムヘキサン溶液15 ml (39mmmole)を1
0分間で加え、同温度で15分反応させた。この溶液中
に(S)−β−ヒドロキシ酪酸メチルエステル(光学純
度88%)2 g(17mmole)を含むテトラヒド
ロ7ラン溶液3mj!を滴下した。同温度で20分、−
25℃で20分反応させた。反応液を再び一78℃に冷
却しN−7ニシルシンナミリデンイミン3.85g(1
7mmole)のTHFHF溶液40全!下した。滴下
後徐々に昇温度させ、室温で一昼夜反応させた。
反応液をpH5,5の0.1M’)ん酸緩衝液中に注ぎ
水層のGIHを希塩酸にてpH4,0に調節後酢酸エチ
ルにて抽出した。飽和食塩水で洗浄後酢酸エチル層は無
水硫酸ナトリウムにて乾燥させた。
水層のGIHを希塩酸にてpH4,0に調節後酢酸エチ
ルにて抽出した。飽和食塩水で洗浄後酢酸エチル層は無
水硫酸ナトリウムにて乾燥させた。
有機層を濾過後減圧濃縮し残渣を少量の塩化メチレンに
溶解しシリカゲル150gのカラムに吸着させた。ベン
ゼン/酢酸エチル(10/1)(5/ 1 )(3/1
)の順で溶出させ、溶出部で同混合溶媒(3/1)展開
のシリカゲルTLCにてRf値0.33と0.26にU
V吸収を示す区分を集めて減圧乾固すると、Rf値0.
33を示す化合物土工が993mg、Rf値0.26を
示す1上と1且の混合物1゜58g及び1工、1上、1
!の混合物1.7gが得られた。(収率78%)。
溶解しシリカゲル150gのカラムに吸着させた。ベン
ゼン/酢酸エチル(10/1)(5/ 1 )(3/1
)の順で溶出させ、溶出部で同混合溶媒(3/1)展開
のシリカゲルTLCにてRf値0.33と0.26にU
V吸収を示す区分を集めて減圧乾固すると、Rf値0.
33を示す化合物土工が993mg、Rf値0.26を
示す1上と1且の混合物1゜58g及び1工、1上、1
!の混合物1.7gが得られた。(収率78%)。
化合物りの理化学的性状
〔α)93 +157.7(C1,0tCHCz、)
A CH”12 nm(t):257(35300)
ax CH”’ cm−、:1730<lj−ラ99ムCo”
)、aX N M R(CD CN3) δ;1.30 (3H,d、J = 7.ON2.C!
LL−CH)2 、78 (I H,br、OH) 3.44 (I H,t、J = 6.0 HzvH−
3)3 、79 (3H、s、OMe) 4.20(IH=ms坦−CHs) 4.70(IH,dd、J=6.0&9.OHz。
A CH”12 nm(t):257(35300)
ax CH”’ cm−、:1730<lj−ラ99ムCo”
)、aX N M R(CD CN3) δ;1.30 (3H,d、J = 7.ON2.C!
LL−CH)2 、78 (I H,br、OH) 3.44 (I H,t、J = 6.0 HzvH−
3)3 、79 (3H、s、OMe) 4.20(IH=ms坦−CHs) 4.70(IH,dd、J=6.0&9.OHz。
H−4)
6.51(IH,del、J=16.5&9.0Hz。
化合物上上のNMRスペクトル(CD Cl 3)δ:
1,40(38td、J=6.5Hz、CH,−CH)
2.75(IH,br、0H) 3.11 (I H,dd、J = 3.0&6.OH
2゜H−3) 3.71 (3H,s、OMg) 4.21 (I H=s、CHCHs)4.50(1)
(*ddtJ=3.0&8.0Hz−H−4) 6.29(IH,dd、J=8.0&18.0Hz。
1,40(38td、J=6.5Hz、CH,−CH)
2.75(IH,br、0H) 3.11 (I H,dd、J = 3.0&6.OH
2゜H−3) 3.71 (3H,s、OMg) 4.21 (I H=s、CHCHs)4.50(1)
(*ddtJ=3.0&8.0Hz−H−4) 6.29(IH,dd、J=8.0&18.0Hz。
化合物の1±のNMRのスベク)7しくCD Cj!
3)δ;1.37(31(、d、J=6.5Hz、CH
,−CH)4.72(IH,dd、J=2.5&8.O
Hz。
3)δ;1.37(31(、d、J=6.5Hz、CH
,−CH)4.72(IH,dd、J=2.5&8.O
Hz。
H−4)
その他のシグナルは化合物上上とほぼ同じシグナルであ
る。
る。
実施例 2
(3R,4S)−3−((R)−1−フルオロエチル〕
−1−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フェニル
)ビニル−2−7ゼチジノンわ一製造 1見 ヱ見 ジエチルアミノサル77Fリフルオライド(DAST)
250μl(2mmole)を含む無水塩化メチレン5
輸lを一78℃に冷却した後(3S、4S)−3−((
S)−1−ヒドロキシエチル)−1−(p−メトキシ)
フェニル−4−(2−フェニル)ビニル−2−アゼチジ
ノン1 a550 B(1、7mmo!e)を無水塩化
メチレンに溶解し、徐々に滴下した。同温度で15分反
応させた後反応液を氷水中に注ぎ塩化メチレン及び炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え抽出した。
−1−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フェニル
)ビニル−2−7ゼチジノンわ一製造 1見 ヱ見 ジエチルアミノサル77Fリフルオライド(DAST)
250μl(2mmole)を含む無水塩化メチレン5
輸lを一78℃に冷却した後(3S、4S)−3−((
S)−1−ヒドロキシエチル)−1−(p−メトキシ)
フェニル−4−(2−フェニル)ビニル−2−アゼチジ
ノン1 a550 B(1、7mmo!e)を無水塩化
メチレンに溶解し、徐々に滴下した。同温度で15分反
応させた後反応液を氷水中に注ぎ塩化メチレン及び炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え抽出した。
有機層は水洗後無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
有機溶媒を減圧濃縮しシリカゾル25.のカラムに吸着
させ、ベンゼン、ベンゼン/酢酸エチル(50/1)、
(20/ 1 )、(10/ 1 )で溶出させた。
させ、ベンゼン、ベンゼン/酢酸エチル(50/1)、
(20/ 1 )、(10/ 1 )で溶出させた。
溶出区分でベンゼン/酢酸エチル(10/ 1 )展開
のシリカゲルTLCにてRf値0.25にUV吸収を示
す区分を減圧乾固すると目的の化合物りが401+u+
得られた(収率73%)。
のシリカゲルTLCにてRf値0.25にUV吸収を示
す区分を減圧乾固すると目的の化合物りが401+u+
得られた(収率73%)。
化合物見−理化学的性状
(a)B +168.2°(C=1.0、CHCl
3)λC■”12 nm(g):257(35400
)論a× CIICI3cm−、:1740(β−ラクタムco)
1□、 N M R(CD CI3) δ;1.53(3H,dd、J”24.O&6.5Hz
。
3)λC■”12 nm(g):257(35400
)論a× CIICI3cm−、:1740(β−ラクタムco)
1□、 N M R(CD CI3) δ;1.53(3H,dd、J”24.O&6.5Hz
。
C旦ニーCHF−)
3.60(I H,鋤、H−3)
3 、73 (38*stOMe)
4.63−5.45(2H,w、H−4,CH3−CH
F −) 6.20 7.50(11H,m−HC=CH−。
F −) 6.20 7.50(11H,m−HC=CH−。
A r、 H)
実施例 3
(3R,4R)−3−((S)−1−”yルオロエチル
〕−1−〔p−メトキシ〕フェニル−4−(2−フェニ
ル)ビニル−2−アゼチジノンえ亙の製造 −効− ジメチルアミノサルファトリフルオライド(DAST)
563μl(4,61mmole>の無水塩化メチレン
3aIl溶液を一65℃に冷却し、これに(3S、4R
)及び(3R,4S)−3−((S)−1−ヒドロキシ
エチルLL−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フ
ェニル)ビニル−2−7ゼチシ7ン1bと1c(3゜5
:1)の混合qJJ 745 mg(2、3nmole
)の塩化メチレン溶液6mfを15分で滴下した。反応
液は−65〜−30℃にて2時間ついで室温で15時間
攪拌した。反応液を氷水−塩化メチレンに注ぎ、ついで
炭酸水素ナトリウムを加え分液した。塩化メチレン層を
水洗後無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
〕−1−〔p−メトキシ〕フェニル−4−(2−フェニ
ル)ビニル−2−アゼチジノンえ亙の製造 −効− ジメチルアミノサルファトリフルオライド(DAST)
563μl(4,61mmole>の無水塩化メチレン
3aIl溶液を一65℃に冷却し、これに(3S、4R
)及び(3R,4S)−3−((S)−1−ヒドロキシ
エチルLL−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フ
ェニル)ビニル−2−7ゼチシ7ン1bと1c(3゜5
:1)の混合qJJ 745 mg(2、3nmole
)の塩化メチレン溶液6mfを15分で滴下した。反応
液は−65〜−30℃にて2時間ついで室温で15時間
攪拌した。反応液を氷水−塩化メチレンに注ぎ、ついで
炭酸水素ナトリウムを加え分液した。塩化メチレン層を
水洗後無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
溶媒を留去し、得られたシロップをシリカゾルカラム3
0gに吸着させ、ベンゼン、ベンゼン/酢酸エチル(5
0/ 1 )、(30/ 1 )、(20/ 1 )、
(1/1)で溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢酸エ
チル(10/ 1 )展開のシリカゾルTLCにてRf
値0.53にUV吸収を示す区分を集めて減圧乾固する
と、化合物2bと2cの混合物755B得た。
0gに吸着させ、ベンゼン、ベンゼン/酢酸エチル(5
0/ 1 )、(30/ 1 )、(20/ 1 )、
(1/1)で溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢酸エ
チル(10/ 1 )展開のシリカゾルTLCにてRf
値0.53にUV吸収を示す区分を集めて減圧乾固する
と、化合物2bと2cの混合物755B得た。
この混合物を少量のベンゼンに溶解し、ついでn−ヘキ
サンをゆっくり加えて結晶化させ、これを枦取後n−ヘ
キサンにて洗浄すると化合物2bが457mg得られた
(収率61%)。
サンをゆっくり加えて結晶化させ、これを枦取後n−ヘ
キサンにて洗浄すると化合物2bが457mg得られた
(収率61%)。
化合物幻−理化学的性状
融点 117.0−118.5℃
〔α’l−135,5°(C=1.0、CHCj!3)
ACH2C12nmD):256,6(35100)閣
ax CHCl、 + νll1a Xc m + : 1740 (β−ラク
タムCO)NMR(CDCl2> δ;1,50(3H,dd、J=24.0&6.5Hz
C旦ニーCHF−) 3.23(I H,cldd、J=21.0&6.5&
2.5HzS H−3) 3.76(3H,s、OMe) 4.67(IH,dd、J=8.0&2.5Hz。
ACH2C12nmD):256,6(35100)閣
ax CHCl、 + νll1a Xc m + : 1740 (β−ラク
タムCO)NMR(CDCl2> δ;1,50(3H,dd、J=24.0&6.5Hz
C旦ニーCHF−) 3.23(I H,cldd、J=21.0&6.5&
2.5HzS H−3) 3.76(3H,s、OMe) 4.67(IH,dd、J=8.0&2.5Hz。
H−4)
5.07(I H,d quint、J=49.0&6
,5H7SCH3−C旦F−) 6.28(IH,dd、J=8.0&17.OH2゜実
施例 4−1 (3R,4S)−3−((R)−1−フルオロエチル〕
−4−ホルミル−1−(p−メトキシ)フェニル−2−
アゼチジノン幻−合成 4λ (3R,4S)−3−((R)−1−フルオロエチル〕
−1−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フェニル
)ビニル−2−7ゼチジノン2a 298+sg(0,
916−mole)をメタノール−塩化メチレン(1/
1)20曽!に溶解し一70℃でオゾンを20分間通じ
た後ジメチルスルフィド0.67論!を加え室温で16
時間反応させた6反応液を減圧濃縮後残渣を塩化メチレ
ン5ntに溶解させ20μ!の1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)−7−ウンデセン(DBu)を加え室温
で3時間反応させた。反応液をシリカゲル15gのカラ
ムに吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル(10/ 1 )
、(5/1)にて溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢
酸エチル(3/1)展開のシリカゲルTLCにてRf値
0.18にUV吸収を示す区分を集め減圧濃縮すると目
的の化合物生立が91+++g得られた(収率40%)
。
,5H7SCH3−C旦F−) 6.28(IH,dd、J=8.0&17.OH2゜実
施例 4−1 (3R,4S)−3−((R)−1−フルオロエチル〕
−4−ホルミル−1−(p−メトキシ)フェニル−2−
アゼチジノン幻−合成 4λ (3R,4S)−3−((R)−1−フルオロエチル〕
−1−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フェニル
)ビニル−2−7ゼチジノン2a 298+sg(0,
916−mole)をメタノール−塩化メチレン(1/
1)20曽!に溶解し一70℃でオゾンを20分間通じ
た後ジメチルスルフィド0.67論!を加え室温で16
時間反応させた6反応液を減圧濃縮後残渣を塩化メチレ
ン5ntに溶解させ20μ!の1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)−7−ウンデセン(DBu)を加え室温
で3時間反応させた。反応液をシリカゲル15gのカラ
ムに吸着させ、ベンゼン/酢酸エチル(10/ 1 )
、(5/1)にて溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢
酸エチル(3/1)展開のシリカゲルTLCにてRf値
0.18にUV吸収を示す区分を集め減圧濃縮すると目
的の化合物生立が91+++g得られた(収率40%)
。
化合物影す理化学的性状
〔03台−134,2°(C=1.175.CHCl3
)A CH2Cl2 ns+(g):2 5 8(1
6100)aX νCllCl、 C曽−、:1750(β−ラクタムc
o)。
)A CH2Cl2 ns+(g):2 5 8(1
6100)aX νCllCl、 C曽−、:1750(β−ラクタムc
o)。
a+aX
1730(アルデヒドCO)
NMR(CDCI、)
δ;1,50(3H,dd、J=24.0&6,5 H
2C旦ニーCHF−) 3.42(I H,ddd、J=22.5&5.5&3
.0HzS H−3) 3.78(3H,s、OMe) 4.50(IH,ttJ=3.0Hz、H−4)5.0
7(I H,d quint、J=48.5&6.0H
z = CH3C旦−F−) 9.83(2H,d、J=3.0Hz、−〇HO)実施
例 4−2 化合物2bから化合物1上の合成 ヱy −む− (3R,4R)−3−((R)−1−フルオロエチル〕
−1−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フェニル
)ビニル−2−7ゼチジノンー2b 224mg(0,
69mmole)をメタノール−塩化メチレン(1/1
)14mlに溶解し、−70℃で冷却しつつオゾンを1
0分間吹き込んだ。窒素ガスを吹き込み過剰のオゾンを
除去後ジメチルスルフィド0.5in+j! (6,9
4ma+ole)を−70℃で加え、室温で14時間攪
攪拌た。更に40℃で5時間加熱後反応液を減圧濃縮し
得られたシロップをシリカゾルカラムクロマト(12g
)に付し、実施例4−1と同様に処理し、目的の化合物
3bを無色のシロップとして126謔g得た([率73
%)。
2C旦ニーCHF−) 3.42(I H,ddd、J=22.5&5.5&3
.0HzS H−3) 3.78(3H,s、OMe) 4.50(IH,ttJ=3.0Hz、H−4)5.0
7(I H,d quint、J=48.5&6.0H
z = CH3C旦−F−) 9.83(2H,d、J=3.0Hz、−〇HO)実施
例 4−2 化合物2bから化合物1上の合成 ヱy −む− (3R,4R)−3−((R)−1−フルオロエチル〕
−1−(p−メトキシ)フェニル−4−(2−フェニル
)ビニル−2−7ゼチジノンー2b 224mg(0,
69mmole)をメタノール−塩化メチレン(1/1
)14mlに溶解し、−70℃で冷却しつつオゾンを1
0分間吹き込んだ。窒素ガスを吹き込み過剰のオゾンを
除去後ジメチルスルフィド0.5in+j! (6,9
4ma+ole)を−70℃で加え、室温で14時間攪
攪拌た。更に40℃で5時間加熱後反応液を減圧濃縮し
得られたシロップをシリカゾルカラムクロマト(12g
)に付し、実施例4−1と同様に処理し、目的の化合物
3bを無色のシロップとして126謔g得た([率73
%)。
実施例 5
(3R,48)−4−カルボキシ−3−((R)−1フ
ルオロエチル]−1(p−メトキシ)フェニル−2−ア
ゼチジノン±互の合成 (3R,4S)−3−((R)−1−フルオロエチルツ
ー4−ホルミル−1−(p−メトキシ)フェニル−2−
7ゼチシノン3b 112mg(0,4462mmol
e)を7七トン3曽lに溶解し、氷冷下J ones試
薬0.19mj!(0゜49 mmole)を加え、2
時間同温度で反応させた。
ルオロエチル]−1(p−メトキシ)フェニル−2−ア
ゼチジノン±互の合成 (3R,4S)−3−((R)−1−フルオロエチルツ
ー4−ホルミル−1−(p−メトキシ)フェニル−2−
7ゼチシノン3b 112mg(0,4462mmol
e)を7七トン3曽lに溶解し、氷冷下J ones試
薬0.19mj!(0゜49 mmole)を加え、2
時間同温度で反応させた。
インプロパツール0.2曽lを加え10分攪拌後酢酸エ
チル30論!中に注ぎ飽和食塩水、水で洗浄した。有機
層は無水硫酸ナトリウムにて乾燥後枦遇し減圧濃縮した
。濃縮液はシリカゲル17.のカラムに吸着させ、ベン
ゼン/7セトン(5/1)、(1/1)、アセトン、メ
タノールの順で溶出させた。溶出区分で酢陵エチル/メ
タノール(3/1)展開のシリカゲルTLCにてRf値
0.14にUV吸収を有する区分を集め減圧濃縮した。
チル30論!中に注ぎ飽和食塩水、水で洗浄した。有機
層は無水硫酸ナトリウムにて乾燥後枦遇し減圧濃縮した
。濃縮液はシリカゲル17.のカラムに吸着させ、ベン
ゼン/7セトン(5/1)、(1/1)、アセトン、メ
タノールの順で溶出させた。溶出区分で酢陵エチル/メ
タノール(3/1)展開のシリカゲルTLCにてRf値
0.14にUV吸収を有する区分を集め減圧濃縮した。
残渣を再びアセトンに溶解しNo、4のグラスフィルタ
ーにて枦遇し、炉液を減圧乾固すると目的の化合物支1
が76−g得られた(収率64%)。
ーにて枦遇し、炉液を減圧乾固すると目的の化合物支1
が76−g得られた(収率64%)。
化合物±互の理化学的性状
(CI ) li −40、8”(C= 1 、0 *
M eo H)ean λ n曽(ε ):2 5 7.5(2260
0)ax KBY + y、、X cw+:1745(β−599ACO)NM
R(CD、C0CD、) δ;1.40(3H,dcl、J = 6.5&24.
5 Hz。
M eo H)ean λ n曽(ε ):2 5 7.5(2260
0)ax KBY + y、、X cw+:1745(β−599ACO)NM
R(CD、C0CD、) δ;1.40(3H,dcl、J = 6.5&24.
5 Hz。
CH,−CHF−)
3.5 3(I H,@、H3)
3 、77 (3H,s、OMe)
4.43(I H,d、J=2.0Hz%H4)5.0
4(I H−m−CHs CHF )実施
例 6 (3R,4R)及(/(3R,4S)−4−7七ト’f
シー3−((R)−1−フルオロエチル〕−(p−メ
トキシ)7エ二ルー2−7ゼチジノン5 b、l (/
5 a)製造b (3R,4S)−4−カルボキシ−3−((R)−フル
オロエチル) −1−(p−メトキシ)フェニル−2−
7ゼチゾ/ン4b 65mg(0,24mmole)
、四酢酸鉛216 mg(0、49mmole)、酢酸
0.2 ml、ジメチルホルムアミド0m1tの混合液
を65℃、15分間反応させた。反応液を酢酸エチルに
注ぎ飽和食塩水で洗浄後無水硫陵す) IJウムで乾燥
した。溶媒を留去後ベンゼンに溶解し、シリカゾルカラ
ム7gに吸看させ、ベンゼン、ペンカゼン/酢酸エチル
(50/ 1 )、(40/ 1 )、(20/ 1
)で溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢酸エチル(3
/1)展開のシリカゲルTLCにてRf値0.75及び
0.57にUV吸収を示す区分を集めて減圧濃縮すると
目的の化合物5m、lびりfそれぞれ7s+g4.3i
eg得られた(全収率73%)。化合物5a、lびΣ互
はベンゼン−n−ヘキサンより結晶化できた。
4(I H−m−CHs CHF )実施
例 6 (3R,4R)及(/(3R,4S)−4−7七ト’f
シー3−((R)−1−フルオロエチル〕−(p−メ
トキシ)7エ二ルー2−7ゼチジノン5 b、l (/
5 a)製造b (3R,4S)−4−カルボキシ−3−((R)−フル
オロエチル) −1−(p−メトキシ)フェニル−2−
7ゼチゾ/ン4b 65mg(0,24mmole)
、四酢酸鉛216 mg(0、49mmole)、酢酸
0.2 ml、ジメチルホルムアミド0m1tの混合液
を65℃、15分間反応させた。反応液を酢酸エチルに
注ぎ飽和食塩水で洗浄後無水硫陵す) IJウムで乾燥
した。溶媒を留去後ベンゼンに溶解し、シリカゾルカラ
ム7gに吸看させ、ベンゼン、ペンカゼン/酢酸エチル
(50/ 1 )、(40/ 1 )、(20/ 1
)で溶出させた。溶出区分でベンゼン/酢酸エチル(3
/1)展開のシリカゲルTLCにてRf値0.75及び
0.57にUV吸収を示す区分を集めて減圧濃縮すると
目的の化合物5m、lびりfそれぞれ7s+g4.3i
eg得られた(全収率73%)。化合物5a、lびΣ互
はベンゼン−n−ヘキサンより結晶化できた。
化合物i見の理化学的性状
融点 156−160℃
(1g+42.7°(C=0.62−CHCf、)λ”
2C”nm(り:255(21000)−a× Go) N M R(CD CI s ) δ;1.60(3H,dd、J”24.0and6.0
Hz。
2C”nm(り:255(21000)−a× Go) N M R(CD CI s ) δ;1.60(3H,dd、J”24.0and6.0
Hz。
C旦ニーCHF)
2.17(3H,s、0Ac)
3.68(IH,論、H−3)
3 、70 (3H、s、OMe)
5.17(IH,論、CH,−C上IF)6.83(I
H,d、J=9.OHz、H−4)化合物5bの理化
学的性状 融点 121−123.5℃ (ff)W−51,4°(C= 1.013−CHCI
s)A”2C12nm(g):254(18400)
論a× CO) NMR(CDC13) δ:1.55 (3H=d、J = 24.0&6.5
Hz。
H,d、J=9.OHz、H−4)化合物5bの理化
学的性状 融点 121−123.5℃ (ff)W−51,4°(C= 1.013−CHCI
s)A”2C12nm(g):254(18400)
論a× CO) NMR(CDC13) δ:1.55 (3H=d、J = 24.0&6.5
Hz。
C旦よ−CHF)
2 、10 (3H1111? OA c)3.40(
IH,ddd、J=48.0&5.0&24.5Hz、
H−3) 3 、79 (3H、s、OMe) 5.07(IH,cldq、H=48.0&5.O&6
.5 Hz、CH,、CHF ) 6.62(IH,d、J=1.5HzS H5)実施例
7 (3R,4R)−4−アセトキシ−3−((R)−1−
フルオロエチルゴー2−フゼチジノンの製造5b
旦 (3R,4R)−4−7セトキシー3−((R)−フル
オロエチル)−1(p−メトキシ)フェニル−2−7ゼ
チジ/ン5b 30mg(1,06mmole)をア
七ト二トリル1.5wj!に溶解後氷冷し、セリツクア
ンモニウムナイトレート175.5論g(0,32mm
。le)の水溶液1.5+aj!を徐々に滴下した。
IH,ddd、J=48.0&5.0&24.5Hz、
H−3) 3 、79 (3H、s、OMe) 5.07(IH,cldq、H=48.0&5.O&6
.5 Hz、CH,、CHF ) 6.62(IH,d、J=1.5HzS H5)実施例
7 (3R,4R)−4−アセトキシ−3−((R)−1−
フルオロエチルゴー2−フゼチジノンの製造5b
旦 (3R,4R)−4−7セトキシー3−((R)−フル
オロエチル)−1(p−メトキシ)フェニル−2−7ゼ
チジ/ン5b 30mg(1,06mmole)をア
七ト二トリル1.5wj!に溶解後氷冷し、セリツクア
ンモニウムナイトレート175.5論g(0,32mm
。le)の水溶液1.5+aj!を徐々に滴下した。
同温度で25分間反応させた後反応液を酢酸エチル50
+cjtに注ぎ5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
た。洗浄液は再び酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ
10%千オ硫酸ナトリウム水溶液、5%炭酸水素す)
+7ウム水溶液、飽和食塩水で各1回洗浄した。
+cjtに注ぎ5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
た。洗浄液は再び酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ
10%千オ硫酸ナトリウム水溶液、5%炭酸水素す)
+7ウム水溶液、飽和食塩水で各1回洗浄した。
有機層は無水硫酸す) +7ウムで乾燥後減圧濃縮する
と、目的の化合物見上が15−g得られた(収率81%
)。
と、目的の化合物見上が15−g得られた(収率81%
)。
化合物6b〜はベンゼン−n−ヘキサンより結晶化した
。
。
融点 98.5−102℃
((ltF+116,8°(C=1,0tCHCj!a
)CHCl、 − yl、aXam +:1780(β−ラクタムco)1
745(エステルCO) NMR(CDCI、) δ;1.50 (3H,dd、J = 6.5&24.
0 Hz。
)CHCl、 − yl、aXam +:1780(β−ラクタムco)1
745(エステルCO) NMR(CDCI、) δ;1.50 (3H,dd、J = 6.5&24.
0 Hz。
CHよ−CHF)
2 、13 (3H=s、COCH3)3.40(IH
,ddd、J=1.5&5.5&24、OHz、H−3
) 5.00(I H,dqiunt、J=48.0&6.
5Hz、CHa CHF ) 5.90(IHyd、J=1.5Hz、H−4)6.8
5(I H,br、NH) 実施例 8 4−((3R,4R)−3−((R)−1−フルオロエ
チル)−2−オキソアセチクン−4−イル〕−2−ノア
シー3−オキソ酪酸p−ニトロベンクルエステルーヱj
−の合成b (3R,4R)−4−7セトキシー3−((R)−フル
オロエチルゴー2−フゼチジノン、q−ルー 20g(
0,11論mole)を塩化メチレン1論2に溶解後氷
冷し、ヨウ化亜鉛36eag(0,11−一01e)を
加えた。この混合物に0℃でp−ニトロベンジル 2−
ジアゾ−3−トIJメチルシリルオキシー3−ブテノエ
ート96mg(0、29−mole)の塩化メチレン溶
wL(1mjりを13分間かけてゆっくり滴下した。
,ddd、J=1.5&5.5&24、OHz、H−3
) 5.00(I H,dqiunt、J=48.0&6.
5Hz、CHa CHF ) 5.90(IHyd、J=1.5Hz、H−4)6.8
5(I H,br、NH) 実施例 8 4−((3R,4R)−3−((R)−1−フルオロエ
チル)−2−オキソアセチクン−4−イル〕−2−ノア
シー3−オキソ酪酸p−ニトロベンクルエステルーヱj
−の合成b (3R,4R)−4−7セトキシー3−((R)−フル
オロエチルゴー2−フゼチジノン、q−ルー 20g(
0,11論mole)を塩化メチレン1論2に溶解後氷
冷し、ヨウ化亜鉛36eag(0,11−一01e)を
加えた。この混合物に0℃でp−ニトロベンジル 2−
ジアゾ−3−トIJメチルシリルオキシー3−ブテノエ
ート96mg(0、29−mole)の塩化メチレン溶
wL(1mjりを13分間かけてゆっくり滴下した。
反応液は0℃で20分間ついで室温で2゛、シ間がくは
んした。反応液を酢酸エチルで希釈し、5%炭酸水素す
) +7ウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水酢酸ナトリウムにて乾燥した。
んした。反応液を酢酸エチルで希釈し、5%炭酸水素す
) +7ウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水酢酸ナトリウムにて乾燥した。
溶媒を留去して得られた残渣を少量の塩化メチレンを用
いてシリカゲル6gに吸着させ、ベンゼン/アセトン(
10/1 )(8/1 )(5/1 )の順に展開した
。溶出部のうちベンゼン/アセトン(3/1)を展開系
とするTLC上、RfO,36にUV吸収を有する区分
を集めて減圧乾固すると、目的の化合物ヱ上が27B(
収率62%)得られた。
いてシリカゲル6gに吸着させ、ベンゼン/アセトン(
10/1 )(8/1 )(5/1 )の順に展開した
。溶出部のうちベンゼン/アセトン(3/1)を展開系
とするTLC上、RfO,36にUV吸収を有する区分
を集めて減圧乾固すると、目的の化合物ヱ上が27B(
収率62%)得られた。
化合物ヱ上の理化学的性状
融点 90−92℃
〔α〕冒+41.8°(C1,25,メタノール)v
CH”cm−+: 2140 (ジアゾ)ax 1760(β−ラクタムCo)、 1710(ケトンCO)、 1520.1345(ニトロ)。
CH”cm−+: 2140 (ジアゾ)ax 1760(β−ラクタムCo)、 1710(ケトンCO)、 1520.1345(ニトロ)。
NMR(CDCI、)
δ;1.44(3H,dd、J = 24.0and6
.5 Hz。
.5 Hz。
CH−、−CHF−)
2.8−3.2(IH,m、H−−3)3.02(I
H,dd、J=18,0and9.OHz。
H,dd、J=18,0and9.OHz。
TCHH−C−)
N I+
3.67(I H,dd、J=18.0and4.5H
z。
z。
4.02(IH,ddd、J=9.0,4.5and2
.3Hz、H−4) 4.93(I H+dqunit、J=48.0and
6.5Hz = CH3CHF ) 5.38 (2)1.S、ベンジル)、6.3 0(I
H,br、NH) 7.56(2Hed*J = 9.OHz、 Ar)
、8.28(2H,dyJ=9,0HzS Ar)。
.3Hz、H−4) 4.93(I H+dqunit、J=48.0and
6.5Hz = CH3CHF ) 5.38 (2)1.S、ベンジル)、6.3 0(I
H,br、NH) 7.56(2Hed*J = 9.OHz、 Ar)
、8.28(2H,dyJ=9,0HzS Ar)。
実施例 9
(3R,4S)−4−アセトキシ−3−((R)−フル
オロエチルツー2−フゼチジノン旦1の製造(3R,4
S)−4−7セトキシー3− (−(R)−フルオロエ
チル)−1−(p−メトキシ)フェニル−2−7ゼチシ
ノン旦127論g(0、096+*mole)をアセト
ニトリル1.Owiに溶解後水冷し、セリツクアンモニ
ウムナイトレート132mg(0,24IIla+ol
e)の水溶液1.Ownをゆっくり滴下した。
オロエチルツー2−フゼチジノン旦1の製造(3R,4
S)−4−7セトキシー3− (−(R)−フルオロエ
チル)−1−(p−メトキシ)フェニル−2−7ゼチシ
ノン旦127論g(0、096+*mole)をアセト
ニトリル1.Owiに溶解後水冷し、セリツクアンモニ
ウムナイトレート132mg(0,24IIla+ol
e)の水溶液1.Ownをゆっくり滴下した。
同温度で30分間尺応させた後、反応液を酢酸エチルに
法論し、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。水
層は再び酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、10%
チオ硫酸ナトリウム水溶液、5%炭酸水素す) +7ウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。
法論し、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。水
層は再び酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ、10%
チオ硫酸ナトリウム水溶液、5%炭酸水素す) +7ウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。
無水硫酸す) IJウムによる乾燥後、溶媒を留去する
と目的の化合物旦工が15−g得られた(収率89%)
。
と目的の化合物旦工が15−g得られた(収率89%)
。
CHCl、 −
シ、l1aXc輸、:3390(NH)1780(β−
ラクタムCo)、 1735(エステルco)。
ラクタムCo)、 1735(エステルco)。
NMR(CDCI、)
δ;1.55(3H,dd、J=6,0and24.0
Hz。
Hz。
CH−、CHF−)、
2.17 (3H*s、COCH3)、3.58(I
H,dddd、J3NH=2.0.J3.4=4.5.
J、、0月−F=9.3.J、F=13.8Hz1 H
−3)、 5.13(I H,ddq、J=6.0,9.3and
48.0Hz、CH,CHF )、 6.02 (I
H,d、J = 4.5 H2,H−4)、6.80
(I H,br、NH)。
H,dddd、J3NH=2.0.J3.4=4.5.
J、、0月−F=9.3.J、F=13.8Hz1 H
−3)、 5.13(I H,ddq、J=6.0,9.3and
48.0Hz、CH,CHF )、 6.02 (I
H,d、J = 4.5 H2,H−4)、6.80
(I H,br、NH)。
実施例 10
4−((3R,4R)−3−((R)−1−フルオロエ
チル)−2−オキソアゼチジン−4−イルツー2−シア
シー3−オキソ酪酸p−ニトロベンジルエステルヱ互の
合成7b (3R,48)−4−ア七Fキシ−3−[:(R)−フ
ルオロエチルツー2−フゼチジノン且エ 15B(0,
086mmole)を塩化メチレンhiに溶解後、水冷
しヨウ化亜鉛28mg(0,087m+*ole)を加
えた。
チル)−2−オキソアゼチジン−4−イルツー2−シア
シー3−オキソ酪酸p−ニトロベンジルエステルヱ互の
合成7b (3R,48)−4−ア七Fキシ−3−[:(R)−フ
ルオロエチルツー2−フゼチジノン且エ 15B(0,
086mmole)を塩化メチレンhiに溶解後、水冷
しヨウ化亜鉛28mg(0,087m+*ole)を加
えた。
この混合物に0℃でp−ニトロベンジル 2−ジアゾ−
3−(トリメチルシリル)オキシ−3−ブテノニー)
72 mg(0、21mmole)の塩化メチレン溶液
(0゜5mjりを10分間かけてゆっくり滴下した。
3−(トリメチルシリル)オキシ−3−ブテノニー)
72 mg(0、21mmole)の塩化メチレン溶液
(0゜5mjりを10分間かけてゆっくり滴下した。
反応液は0℃で10分間、ついで室温で2時間かくはん
した。反応液を酢酸エチルで希釈し、5%炭酸水素ナト
リウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫
酸ナトリウムによる乾燥の後に溶媒を留去し、得られた
残渣を分取用TLC(展開系ベンゼン/アセトン 3/
1)にて精製して、目的の化合物7b 13,7蹟g
(収率42%)を得た。
した。反応液を酢酸エチルで希釈し、5%炭酸水素ナト
リウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫
酸ナトリウムによる乾燥の後に溶媒を留去し、得られた
残渣を分取用TLC(展開系ベンゼン/アセトン 3/
1)にて精製して、目的の化合物7b 13,7蹟g
(収率42%)を得た。
得られた化合物ヱyの理化学的性状は実施例8で得られ
たものと完全に一致した。
たものと完全に一致した。
手続補正書(自発)
昭和61年5月6 日
特許■宇賀道部殿
1、事件の表示
昭和61年特許願第32717号
2、発明の名称
フルオロアルキルβ−ラクタム化合物
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
名 称 (191)三楽株式会社
4、代理人 〒107
電話585−2256
5、補正命令の日付 なし
6、補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」の欄
゛わ4〇−
(1)明細書第9頁第11行に「メチキシ7エ二ル」と
あるを「メトキシフェニル」と訂正する。
あるを「メトキシフェニル」と訂正する。
(2)同第9頁第15行に「反応に供と」とあるな「反
応に供し」と訂正する。
応に供し」と訂正する。
(4)同ttS12頁第4行に[及1/(3S、4 S
)−3−」とあるを「及び(3R,4S)−3−Jと訂
正する。
)−3−」とあるを「及び(3R,4S)−3−Jと訂
正する。
(5)同第12頁第9〜10行に
ム
(6)同第12頁末行に「commun、」とあるをj
commun、 Jと訂正する。
commun、 Jと訂正する。
(7)同第13頁第1行に「テトラヒドロフラン」とあ
るを「テトラヒドロ7ラン(T HP )Jと訂正する
。
るを「テトラヒドロ7ラン(T HP )Jと訂正する
。
(8)同第13頁第12行に「昇温度させ」とあるを「
昇温させ」と訂正する。
昇温させ」と訂正する。
(9)同第14頁tl&8行に[c 1.0.Jとあ
るを「C=1.0.Jと訂正する。
るを「C=1.0.Jと訂正する。
(10)同第13頁第12に「C=1.0.Jとあるを
re” 1 、0 ?Jと訂正する。
re” 1 、0 ?Jと訂正する。
(11) 同第18真下より3行にr(S )−1−J
とあるをr(R)−1−Jと訂正する。
とあるをr(R)−1−Jと訂正する。
(12) 同第18真下より2行にr[p−メトキシJ
]とあるをr(p−メトキシ)」と訂正する。
]とあるをr(p−メトキシ)」と訂正する。
(13) 同第20頁第11行に「755輸g得た」と
あるを「755Bを得た」と訂正する。
あるを「755Bを得た」と訂正する。
(14) 同第20頁第14行に「化合物2bJとある
を「化合物呈上」と訂正する。
を「化合物呈上」と訂正する。
(15) 同第32真下より3行に「c=1.0、」と
あるを「c=1.0.Jと訂正する。
あるを「c=1.0.Jと訂正する。
(17)同第22頁第3行にl’DBuJとあるをjD
BUJと訂正する。
BUJと訂正する。
(18)同第22頁末行に[[5,4,0l−7−ウン
デセン(DBu)Jとあるを「(5,4,0l−7−ウ
ンデセン(D B U )Jと訂正する。
デセン(DBu)Jとあるを「(5,4,0l−7−ウ
ンデセン(D B U )Jと訂正する。
(19)同第23頁第14行にr&6,5HzJとある
を「&6.0HzJと訂正する。
を「&6.0HzJと訂正する。
(21)同第24貫第5行にr2H,d、JJとあるを
jIH,d、JJと訂正する。
jIH,d、JJと訂正する。
(22) 同第26真下より2行にrc=1.0.Jと
あるを「a=1.0.Jと訂正する。
あるを「a=1.0.Jと訂正する。
ax
(24)同第28頁下より2行にr]−(p−メトキシ
)」とあるをr]−1−(p−メトキシ)」と訂正する
。
)」とあるをr]−1−(p−メトキシ)」と訂正する
。
(25) 同第28頁下より4行に「アミド0曽fJと
あるを「アミド0.6mj!Jと訂正する。
あるを「アミド0.6mj!Jと訂正する。
(26)同第29頁第1行に「ペンカゼン/酢酸」とあ
るを「ベンゼン/酢酸」と訂正する。
るを「ベンゼン/酢酸」と訂正する。
(27)同県29頁第6行に「7mg4.3−g」とあ
るを「7−gと3論g」と訂正する。
るを「7−gと3論g」と訂正する。
(28)同第29頁第11行にrc=0.62.Jとあ
るを「c=0.62.Jと訂正する。
るを「c=0.62.Jと訂正する。
(29)同第30頁第2行に[J=9.0HzJとある
をjJ=6.0HzJと訂正する。
をjJ=6.0HzJと訂正する。
(30)同第30頁第7行にl”C=1.013.Jと
あるを[c=1.013.Jと訂正する。
あるを[c=1.013.Jと訂正する。
(31)同第30頁下より3行に[J=48.OJとあ
るをjJ=1.5Jと訂正する。
るをjJ=1.5Jと訂正する。
(32) 同第31頁#&3行に[H−5Jとあるを「
H−4」と訂正する。
H−4」と訂正する。
(33) 同第31頁末行に[1、06mmoleJと
あるを「o、11−曽oleJと訂正する。
あるを「o、11−曽oleJと訂正する。
(34)同第32真下より6行に「c= 1.0.Jと
あるをjc= 1 、0 、Jと訂正する。
あるをjc= 1 、0 、Jと訂正する。
(35)同第34頁第3行にrZ++IzJとあるをr
ZnIzJと訂正する。
ZnIzJと訂正する。
(36) 同第35頁第2行に「p&水水酸酸とあるを
「無水硫酸」と訂正する。
「無水硫酸」と訂正する。
(37)同第37頁第2行に「Σ上」とあるを「互1」
と訂正する。
と訂正する。
(38)同第37頁第2行1.?、 r、q」uトアル
を「Lりと訂正する。
を「Lりと訂正する。
(39)同#I39頁第1行に
7一
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1はホルミル基、カルボキシル基又はアセチ
ルオキシ基を表わし、R_2は水素原子又はN−保護基
を表わす、 で示されるアゼチジノン誘導体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61032717A JPS62192356A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | フルオロアルキルβ−ラクタム化合物 |
DE87102245T DE3787815T2 (de) | 1986-02-19 | 1987-02-17 | Azetidinonderivate. |
EP87102245A EP0234484B1 (en) | 1986-02-19 | 1987-02-17 | Novel azetidinone derivatives |
US07/016,106 US4778883A (en) | 1986-02-19 | 1987-02-18 | 3-(CHFCH3)-azetidinone intermediates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61032717A JPS62192356A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | フルオロアルキルβ−ラクタム化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192356A true JPS62192356A (ja) | 1987-08-22 |
Family
ID=12366588
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61032717A Pending JPS62192356A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | フルオロアルキルβ−ラクタム化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62192356A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58103358A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-06-20 | メルク・エンド・カムパニ−・インコ−ポレ−テツド | 抗生物質中間体の製造方法 |
JPS59216886A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-06 | Sanraku Inc | カルバペネム誘導体 |
JPS6048964A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-16 | Sankyo Co Ltd | 2−アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
JPS60149587A (ja) * | 1984-01-17 | 1985-08-07 | Sanraku Inc | 新規カルバペネム誘導体 |
-
1986
- 1986-02-19 JP JP61032717A patent/JPS62192356A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58103358A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-06-20 | メルク・エンド・カムパニ−・インコ−ポレ−テツド | 抗生物質中間体の製造方法 |
JPS59216886A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-06 | Sanraku Inc | カルバペネム誘導体 |
JPS6048964A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-16 | Sankyo Co Ltd | 2−アゼチジノン誘導体及びその製造法 |
JPS60149587A (ja) * | 1984-01-17 | 1985-08-07 | Sanraku Inc | 新規カルバペネム誘導体 |
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