JPS59141541A - ３−オキソ酪酸誘導体およびその製造法 - Google Patents
３−オキソ酪酸誘導体およびその製造法Info
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- JPS59141541A JPS59141541A JP58016631A JP1663183A JPS59141541A JP S59141541 A JPS59141541 A JP S59141541A JP 58016631 A JP58016631 A JP 58016631A JP 1663183 A JP1663183 A JP 1663183A JP S59141541 A JPS59141541 A JP S59141541A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は抗菌剤の合成中間体として有用な３−オキソ酪
酸誘導体およびその製造法に関するものである。
酸誘導体およびその製造法に関するものである。
本発明で供する３−オキソ酪酸誘導体は一般式
〔式中 Ｒ１は置換基を有するかまたは有しないアリー
ル基金示し Ｒ２は水素原子またはカルボキシ基の保
護基を示し、ＡおよびＢは水素原子または一緒になって
ヒドロキシイミノ基または一緒になって−ＮＯＲ５（Ｒ
’ は置換基を有するかまたは有しない直鎖若しくは
分枝鎖状のアルキル、アルケニル、アルキニルまたはシ
クロアルキル基を示す。）で表わされる基を示す。〕で
表わされる新規な３−オキソ酪酸誘導体である。
ル基金示し Ｒ２は水素原子またはカルボキシ基の保
護基を示し、ＡおよびＢは水素原子または一緒になって
ヒドロキシイミノ基または一緒になって−ＮＯＲ５（Ｒ
’ は置換基を有するかまたは有しない直鎖若しくは
分枝鎖状のアルキル、アルケニル、アルキニルまたはシ
クロアルキル基を示す。）で表わされる基を示す。〕で
表わされる新規な３−オキソ酪酸誘導体である。
前記一般式（Ｉｌ中のＲ、Ｒ、ＡおよびＢについて具体
的に説明する。
的に説明する。
Ｒとしては、置換基全盲するがまたは有しなｔ、’７１
Ｊ−ル基であシ、置換基としては低級アルキル基（例え
ばメチル、エチル等）、ハロゲン基（例えばクロル、ブ
ロム等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ等
）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル繞）、アシル基（例エバアセチ
ル、フロピオニル等）、ニトロ基、スルホンアミＦ基（
例えばスルファモイル、ジメチルアルファモイル基）、
シアン基、アルキルスルホ＝ ル基（例エバメタンスル
ホニル、エタンスルホニル基等）があげられ、これらの
置換基は同一または組合わされて２乃至３個置換されて
いてもよい。
Ｊ−ル基であシ、置換基としては低級アルキル基（例え
ばメチル、エチル等）、ハロゲン基（例えばクロル、ブ
ロム等）、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ等
）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル繞）、アシル基（例エバアセチ
ル、フロピオニル等）、ニトロ基、スルホンアミＦ基（
例えばスルファモイル、ジメチルアルファモイル基）、
シアン基、アルキルスルホ＝ ル基（例エバメタンスル
ホニル、エタンスルホニル基等）があげられ、これらの
置換基は同一または組合わされて２乃至３個置換されて
いてもよい。
Ｒはカルボキシ基の保護の目的を達する限ｐとくに限定
されず広く一般的なカルボキシ基の保護基である。好適
には炭素数１乃至６個のアルキル基（例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅｒｔ
−アミル、ヘキシル等）、アルケニル基（例えばアリル
基等）、アラルキル基（例えばベンジル、ジフェニルメ
チル等）、アリール基（例えばフェニル等）などがあげ
られる。上記のカルボキシ基の保護基には、アルキル、
ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ基アシルオキシ、シ
アノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニ
ル、アリールスルホニル、ニトロ等の置換基が存在して
もよい。（例ｔばシアノエチル、ｐ−トルエンスルホニ
ル、２．２．２−１リクロルエチル、ｐ−メトキシベン
ジル、ｐ−ニトロベンジル等）特に好適には中性または
酸処理により除去しうるｔ１１３ｒｔ−ブチル基、ジフ
ェニルメチル基、ｐ−メトキシベンジル基等が挙げられ
る。
されず広く一般的なカルボキシ基の保護基である。好適
には炭素数１乃至６個のアルキル基（例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅｒｔ
−アミル、ヘキシル等）、アルケニル基（例えばアリル
基等）、アラルキル基（例えばベンジル、ジフェニルメ
チル等）、アリール基（例えばフェニル等）などがあげ
られる。上記のカルボキシ基の保護基には、アルキル、
ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ基アシルオキシ、シ
アノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニ
ル、アリールスルホニル、ニトロ等の置換基が存在して
もよい。（例ｔばシアノエチル、ｐ−トルエンスルホニ
ル、２．２．２−１リクロルエチル、ｐ−メトキシベン
ジル、ｐ−ニトロベンジル等）特に好適には中性または
酸処理により除去しうるｔ１１３ｒｔ−ブチル基、ジフ
ェニルメチル基、ｐ−メトキシベンジル基等が挙げられ
る。
ＡおよびＢは水素原子または一緒になってヒドロキシイ
ミノ基（−ＮＯＨ）または−Ｎ−０−Ｒ’ で表わさ
れる基である。 Ｒ３としては炭素数１乃至６個のアル
キル基（例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、窩−ブチλ、ペンチル、ヘキシル等）、炭
素数２乃至３個のアルクニル基（例えばビニル、アリル
等）、炭素数２乃至３個のアルキニル基（例えばエチニ
ル、プロパルギル等）、炭素数３乃至６個のシクロアル
キル基（例えばシクロプロピ、ル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル等）が挙げられ、これらの
基はカルボキシ基、アルコキシカルボニル基（例えばメ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、カルバモ
イル基（例エバカルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル
等）、シアノ基、ハロゲン（例えばフッ素、塩素等）、
水酸基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ等）
、アミン基、モノアルキルアミノ基（例えばメチルアミ
ン、エチルアミノ等）、ジアルキルアミン基（例えばジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ等）などのような基の一
つ又はそれ以上によって置換されていてもよい。
ミノ基（−ＮＯＨ）または−Ｎ−０−Ｒ’ で表わさ
れる基である。 Ｒ３としては炭素数１乃至６個のアル
キル基（例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、窩−ブチλ、ペンチル、ヘキシル等）、炭
素数２乃至３個のアルクニル基（例えばビニル、アリル
等）、炭素数２乃至３個のアルキニル基（例えばエチニ
ル、プロパルギル等）、炭素数３乃至６個のシクロアル
キル基（例えばシクロプロピ、ル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル等）が挙げられ、これらの
基はカルボキシ基、アルコキシカルボニル基（例えばメ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、カルバモ
イル基（例エバカルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル
等）、シアノ基、ハロゲン（例えばフッ素、塩素等）、
水酸基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ等）
、アミン基、モノアルキルアミノ基（例えばメチルアミ
ン、エチルアミノ等）、ジアルキルアミン基（例えばジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ等）などのような基の一
つ又はそれ以上によって置換されていてもよい。
このような置換基を有するアルキル、アルケニル、アル
キニルおよびシクロアルキル基の例としては、例えばカ
ルボキシメチル、２−カルボキシエチル、１−カルボキ
シアリル、１−カルボキシプロパルギル、１−メトキシ
カルボニルメチル、１−メチル−１−カルボキシエチル
、１−メトキシカルボニルメチル、シアノメチル、１−
シアノペンチル、２−フルオロエチル、２ ′−メトキ
シエチル等が挙げられるが、これらの例は何ら本発明を
限定するものではない。
キニルおよびシクロアルキル基の例としては、例えばカ
ルボキシメチル、２−カルボキシエチル、１−カルボキ
シアリル、１−カルボキシプロパルギル、１−メトキシ
カルボニルメチル、１−メチル−１−カルボキシエチル
、１−メトキシカルボニルメチル、シアノメチル、１−
シアノペンチル、２−フルオロエチル、２ ′−メトキ
シエチル等が挙げられるが、これらの例は何ら本発明を
限定するものではない。
つぎに本発明化合物（Ｉ）の製造方法について、詳しく
詳明するっ化合物（Ｉ）のカルボキシ基が保護され、Ａ
およびＢが水素原子である化合物、すなわち一般式 ％式％（［） （式中 Ｒ１は前述したものと同意義を有し、Ｒ４は
化合物（Ｉ）におけるカルボキシ基の保護基Ｒ２と同意
義を有する。）で表わされる化合物は、４−ハロゲノ−
３−オキソ酪酸エステル（Ｉｌｒ３（式中Ｘは塩素また
は臭素を示し Ｒ４は前述したものと同意義全盲する
。）に、一般式％式％ （式中 Ｒ１は前述したものと同意義を有し、Ｍ
＆ｉアルカリ金属（例えばナトリウム、カリウム等）、
アルカリ土類金属（例えばマグネシウム、カルシウム等
）、重金属（例えば銀、タリウム等）などの金属イオン
、トリエチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム
、テトラ０−ブチルアンモニウム、ジシクロヘキシルア
ンモニウム等の有機アンモニウムイオンが挙げられる。
詳明するっ化合物（Ｉ）のカルボキシ基が保護され、Ａ
およびＢが水素原子である化合物、すなわち一般式 ％式％（［） （式中 Ｒ１は前述したものと同意義を有し、Ｒ４は
化合物（Ｉ）におけるカルボキシ基の保護基Ｒ２と同意
義を有する。）で表わされる化合物は、４−ハロゲノ−
３−オキソ酪酸エステル（Ｉｌｒ３（式中Ｘは塩素また
は臭素を示し Ｒ４は前述したものと同意義全盲する
。）に、一般式％式％ （式中 Ｒ１は前述したものと同意義を有し、Ｍ
＆ｉアルカリ金属（例えばナトリウム、カリウム等）、
アルカリ土類金属（例えばマグネシウム、カルシウム等
）、重金属（例えば銀、タリウム等）などの金属イオン
、トリエチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム
、テトラ０−ブチルアンモニウム、ジシクロヘキシルア
ンモニウム等の有機アンモニウムイオンが挙げられる。
）で表わされる芳香族カルボン酸の基金反応させて製造
される。
される。
Ｘ０Ｈ２０００Ｈ２ｅ０２Ｒ’＋Ｒ１０ｏ２０Ｍ■→Ｒ
”Ｃｏ□０Ｈ２ＣＯＯＨ２００２Ｒ’唾）
（ＩＶ） （Ｉ［）本反応
は、化合物（■）とカルボン酸塩（ＩＶ）とを溶媒中、
攪拌することにより行われる。使用されル溶媒としては
ヘキサン、ベンゼンのような炭化水素、ジクロルメタン
、１．２−ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水素
、ジエチルニーデル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類、酢酸エチルのようなエステル類、
アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、 Ｎ、’Ｎ−ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類、アセトニトリル、ジメチル
スルホキシド、リン酸へキサメチルトリアミド等が挙げ
られる。反応温度は通常−２０乃至１００℃で、反応時
間は３０分乃至−昼夜である。反応終了後、生成物（Ｉ
［）は常法により分離精製される。例えば反応液中に析
出する金属ハロゲン化物またはハロゲン化アンモニウム
をｔ去し、ｆ液を濃縮し、残留物を再び酢酸エチルのよ
うな溶媒に溶かし、水洗後、再び溶媒を留去して化合物
（Ｉ）’を得ることができる。
”Ｃｏ□０Ｈ２ＣＯＯＨ２００２Ｒ’唾）
（ＩＶ） （Ｉ［）本反応
は、化合物（■）とカルボン酸塩（ＩＶ）とを溶媒中、
攪拌することにより行われる。使用されル溶媒としては
ヘキサン、ベンゼンのような炭化水素、ジクロルメタン
、１．２−ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水素
、ジエチルニーデル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類、酢酸エチルのようなエステル類、
アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、 Ｎ、’Ｎ−ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類、アセトニトリル、ジメチル
スルホキシド、リン酸へキサメチルトリアミド等が挙げ
られる。反応温度は通常−２０乃至１００℃で、反応時
間は３０分乃至−昼夜である。反応終了後、生成物（Ｉ
［）は常法により分離精製される。例えば反応液中に析
出する金属ハロゲン化物またはハロゲン化アンモニウム
をｔ去し、ｆ液を濃縮し、残留物を再び酢酸エチルのよ
うな溶媒に溶かし、水洗後、再び溶媒を留去して化合物
（Ｉ）’を得ることができる。
結晶性の■は再結晶により、液体状の化合物（Ｉ）はシ
リカゲル・カラムクロマトで精製できるがこのような精
製をしなくても、更につぎの反応を行なうことが可能で
ある。
リカゲル・カラムクロマトで精製できるがこのような精
製をしなくても、更につぎの反応を行なうことが可能で
ある。
化合物（Ｉ）のカルボキシ基が保護され、ＡおよびＢが
一緒になってヒドロキシイミノ基である化合物、すなわ
ち一般式 （式中 Ｒ１およびＲ４は前述したものと同意義を有す
る。）で表わされる化合物は、■全ニトロフ化すること
により製造される。
一緒になってヒドロキシイミノ基である化合物、すなわ
ち一般式 （式中 Ｒ１およびＲ４は前述したものと同意義を有す
る。）で表わされる化合物は、■全ニトロフ化すること
により製造される。
（Ｉ［） 、（Ｖ）（化合物
（ｎ） 、 （Ｖ）におけるＲ１およびＲ４は前述した
ものと同意義を有する。） 反応は通常溶媒中で行われるが、溶媒としては原料化合
物（Ｉ［）を溶解し、本反応を阻害しないものであれば
特に限定されない。例えばそのような溶媒としてベンゼ
ンのような炭化水素、ジクロルメタン、クロロホルムの
ヨリナノ１０ゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸
エチルのようなエステル類、アセトン、メチルエチルケ
トンのようなケトン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、ギ酸、酢
酸のようなカルボン酸、アセトニトリルまたはこれらと
水との混合物が用いられるが、ニトロソ化剤の種類によ
り適当なものが選ばれる。ニトロソ化剤として亜硝酸す
） ＩＪウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸のアルカリ金
属塩、亜硝酸アミル、亜硝酸ブチルのような亜硝酸エス
テルが用いられるが、特に好適なものは亜硝酸ナトリウ
ムである。亜硝酸金属塩をニトロソ化剤として使用する
場合には反応を酸性条件下で行なうことが必要であるの
でギ酸、酢酸のような酸性溶媒を使用しない場合には別
途有機または無機の酸を添加することが必要である。反
応は室温またはそれ以下で行なわれ、通常数分乃至数時
間で完了する。
（ｎ） 、 （Ｖ）におけるＲ１およびＲ４は前述した
ものと同意義を有する。） 反応は通常溶媒中で行われるが、溶媒としては原料化合
物（Ｉ［）を溶解し、本反応を阻害しないものであれば
特に限定されない。例えばそのような溶媒としてベンゼ
ンのような炭化水素、ジクロルメタン、クロロホルムの
ヨリナノ１０ゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸
エチルのようなエステル類、アセトン、メチルエチルケ
トンのようなケトン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、ギ酸、酢
酸のようなカルボン酸、アセトニトリルまたはこれらと
水との混合物が用いられるが、ニトロソ化剤の種類によ
り適当なものが選ばれる。ニトロソ化剤として亜硝酸す
） ＩＪウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸のアルカリ金
属塩、亜硝酸アミル、亜硝酸ブチルのような亜硝酸エス
テルが用いられるが、特に好適なものは亜硝酸ナトリウ
ムである。亜硝酸金属塩をニトロソ化剤として使用する
場合には反応を酸性条件下で行なうことが必要であるの
でギ酸、酢酸のような酸性溶媒を使用しない場合には別
途有機または無機の酸を添加することが必要である。反
応は室温またはそれ以下で行なわれ、通常数分乃至数時
間で完了する。
反応後、生成物（ｖ）は常法により単離精製することが
できる。例えば反応系中に水を加え、析出する結晶性の
ＶｅＰ取し、水およびジイソプロピルエーテルのような
適当な溶媒で洗浄して単離することができる。また反応
液に水を加え、酢酸エチルで抽出、水洗後、濃縮するこ
とにより単離することができる。
できる。例えば反応系中に水を加え、析出する結晶性の
ＶｅＰ取し、水およびジイソプロピルエーテルのような
適当な溶媒で洗浄して単離することができる。また反応
液に水を加え、酢酸エチルで抽出、水洗後、濃縮するこ
とにより単離することができる。
つぎに化合物（Ｉ）のカルボキシ基が保護され、Ａおよ
びＢが一緒になって−Ｎ−ＯＲで表わされる化合物、す
なわち一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ３およびＲ４ハ前述したものＲ’−Ｙ
（ｖＩｌｌ （式中、 Ｒ５に２前述したものと同意義を有し、Ｙは
求核性脱離基金示す。）で表わされる化合物を塩基の存
在下反応させることにより製造される。
びＢが一緒になって−Ｎ−ＯＲで表わされる化合物、す
なわち一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ３およびＲ４ハ前述したものＲ’−Ｙ
（ｖＩｌｌ （式中、 Ｒ５に２前述したものと同意義を有し、Ｙは
求核性脱離基金示す。）で表わされる化合物を塩基の存
在下反応させることにより製造される。
（■） 笈）（式中、Ｒ１、
Ｒ５、Ｒ４およびＹは前述したものと同意義を有する。
Ｒ５、Ｒ４およびＹは前述したものと同意義を有する。
）
化合物（４）における求核性脱離基Ｙはアニオンとして
脱離する残基のことであり、ハロゲン（例えばクロル、
ブロム、ヨード等）、アルキルスルホニルオキシ基（例
エバメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ
等）、アリールスルホニルオキシ基（例工Ｉｔｆ、ベン
ゼンスルホニルオキシ、ｐ−）ルエンスルホニルオキシ
等）、サルフェート等が挙げられる。これらの中でＹが
サルフェートである場合化合物（４）はＲ：ＳＯ４’
（Ｒ’がメチル、エチル基などを示す）のようなジアル
キル硫酸エステルを表わす。
脱離する残基のことであり、ハロゲン（例えばクロル、
ブロム、ヨード等）、アルキルスルホニルオキシ基（例
エバメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ
等）、アリールスルホニルオキシ基（例工Ｉｔｆ、ベン
ゼンスルホニルオキシ、ｐ−）ルエンスルホニルオキシ
等）、サルフェート等が挙げられる。これらの中でＹが
サルフェートである場合化合物（４）はＲ：ＳＯ４’
（Ｒ’がメチル、エチル基などを示す）のようなジアル
キル硫酸エステルを表わす。
本反応で使用される塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸カル
シウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩
、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化銀等の金属
酸化物、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアニリン、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドの
ような塩基が挙げられる。
カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸カル
シウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩
、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化銀等の金属
酸化物、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアニリン、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドの
ような塩基が挙げられる。
本反応は反応に悪影響を与えない溶媒、例えばベンゼン
のような炭化水素、ジクロルメタン、クロロホルムのよ
うなハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸エチ
ルのようなエステル類、アセトン、メチルエチルケトン
のようなケトン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類、アセト
ニトリル、ジメチルスルホキシドまたはリン酸へキサメ
チルトリアミド等のなかで行なわれ、反応温度０乃至８
０℃において３０分乃至−昼夜攪拌することによシ行な
われる。反応終了後、生成物（■）は常法により分離精
製される。
のような炭化水素、ジクロルメタン、クロロホルムのよ
うなハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸エチ
ルのようなエステル類、アセトン、メチルエチルケトン
のようなケトン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類、アセト
ニトリル、ジメチルスルホキシドまたはリン酸へキサメ
チルトリアミド等のなかで行なわれ、反応温度０乃至８
０℃において３０分乃至−昼夜攪拌することによシ行な
われる。反応終了後、生成物（■）は常法により分離精
製される。
例えば濃縮、有機溶媒抽出、シリカゲル・カラムクロマ
ト、再結晶等により分離精製できる。
ト、再結晶等により分離精製できる。
つぎに化合物（Ｉ）のＲ２がカルボキシ基である一般式
（式中、 Ｒ１は前述したものと同意義を有する。）ま
たは一般式 （式中、ＲおよびＲは前述したものと同意義を有する。
たは一般式 （式中、ＲおよびＲは前述したものと同意義を有する。
）で表わされる化合物は、それぞれ化合物（ｖ）または
（Ｖｌ）のカルボキシ基の保護基を除去することにより
製造できる。脱保護の方法としては、有機化学でよく知
られている方法であるが、本反応の場合には酪酸の４位
に結合するアリールカルボニルオキシ基に影４１及ぼさ
ない方法が必要である。そのような例として、ｔｅｒｔ
−ブチル、ジフェニルメチル若シクはｐ−メトキシベン
ジルエステル等の塩酸、トリフルオロ酢酸、塩化アルミ
ニウム等、酸、ルイス酸による脱保護、ベンジル若しく
はｐ−ニトロベンジルエステル等の接触還元による脱保
護、２゜２、２− ）リプロムエチルエステルのような
低温下における亜鉛末−リン酸による脱保護等が挙げら
れる。
（Ｖｌ）のカルボキシ基の保護基を除去することにより
製造できる。脱保護の方法としては、有機化学でよく知
られている方法であるが、本反応の場合には酪酸の４位
に結合するアリールカルボニルオキシ基に影４１及ぼさ
ない方法が必要である。そのような例として、ｔｅｒｔ
−ブチル、ジフェニルメチル若シクはｐ−メトキシベン
ジルエステル等の塩酸、トリフルオロ酢酸、塩化アルミ
ニウム等、酸、ルイス酸による脱保護、ベンジル若しく
はｐ−ニトロベンジルエステル等の接触還元による脱保
護、２゜２、２− ）リプロムエチルエステルのような
低温下における亜鉛末−リン酸による脱保護等が挙げら
れる。
本発明化合物（Ｉ）は抗菌作用を有するβ−ラクタム化
合物を合成するために重要な中間体である。
合物を合成するために重要な中間体である。
たとえば化合物（Ｋ）は以下に示す方法によシ有用な抗
菌活性を有する七フ゛アロ誘導体（ＸＩＩＩ）及びＲＣ
ｏ２０Ｈ２０００００２Ｈ−−一」連−一一一Δ１ ”ＯＲ’ （幻 （ＸＩ ） （Ｘｌｌ） （Ｘｌｌｌ） Ｃ○２Ｈ （Ｘ［Ｖ） 上記の化合物（Ｋ） （ＸＩ） （ＸＩ［） （ＸＩ［
［） （Ｘ［Ｖ） におけるＲ１及びＲ５は前述と同
意義を、 Ｒ７はセファロスポリン、ペニシリン誘導体
で用いられるカルボキシ基の保護基を、 Ｒ８は一般的
なセファロスポリン誘導体の３位置換基を示す。
菌活性を有する七フ゛アロ誘導体（ＸＩＩＩ）及びＲＣ
ｏ２０Ｈ２０００００２Ｈ−−一」連−一一一Δ１ ”ＯＲ’ （幻 （ＸＩ ） （Ｘｌｌ） （Ｘｌｌｌ） Ｃ○２Ｈ （Ｘ［Ｖ） 上記の化合物（Ｋ） （ＸＩ） （ＸＩ［） （ＸＩ［
［） （Ｘ［Ｖ） におけるＲ１及びＲ５は前述と同
意義を、 Ｒ７はセファロスポリン、ペニシリン誘導体
で用いられるカルボキシ基の保護基を、 Ｒ８は一般的
なセファロスポリン誘導体の３位置換基を示す。
化合物（Ｋ）’ｅセファロスポリン誘導体（Ｘ）と反応
させ（ＸＩ）とし加水分解後帯られるアルコール体ぐ− をメシル化することにより（ＸＩ［）へ導左する。
させ（ＸＩ）とし加水分解後帯られるアルコール体ぐ− をメシル化することにより（ＸＩ［）へ導左する。
（Ｘｌｌ）にチオ尿素を反応させると（■）が得られる
。
。
（ＩＩＦ）は必要に応じてカルボキシ基の保護基を除去
すると（Ｘ［Ｖ）が得られる。なお（Ｘ［［）から（Ｘ
ＩＶ）の行程に関しては特開昭５７−１６９４８９に開
示されている。
すると（Ｘ［Ｖ）が得られる。なお（Ｘ［［）から（Ｘ
ＩＶ）の行程に関しては特開昭５７−１６９４８９に開
示されている。
又化合物（Ｖｌ）は加水分解してアルコール体（ＸＶ）
として（ＸＶ） ｔメシル化後、カルボキシ基の保護基
を除去して（Ｘ’Ｊ）へ導ける。（罰）ハセファロス得
られる。
として（ＸＶ） ｔメシル化後、カルボキシ基の保護基
を除去して（Ｘ’Ｊ）へ導ける。（罰）ハセファロス得
られる。
（■） （ＸＶ）１）Ｍｓ
ＣＬ 上記化合物（Ｗ） （ＸＶ） （ｘＶｌ） （Ｘ［［）
ノＲ１、Ｒ５、Ｒ４Ｒ７、Ｒ８は前述したものと同意
義を示す。
ＣＬ 上記化合物（Ｗ） （ＸＶ） （ｘＶｌ） （Ｘ［［）
ノＲ１、Ｒ５、Ｒ４Ｒ７、Ｒ８は前述したものと同意
義を示す。
次に実施例および参考例をあげて、本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれによって限定されるもの
ではない。
的に説明するが、本発明はこれによって限定されるもの
ではない。
実施例１゜
４−ブロム−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル１０４
ｙとｐ−ニトロ安息香酸カリウム１１３ｙとをアセトニ
トリル２．１を中室温で１６時間攪拌する。沈澱物をＰ
去し、Ｐ液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解し
、溶液を重曹水、食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮すると結晶性の目的化合物が得ら
れた。
ｙとｐ−ニトロ安息香酸カリウム１１３ｙとをアセトニ
トリル２．１を中室温で１６時間攪拌する。沈澱物をＰ
去し、Ｐ液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解し
、溶液を重曹水、食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮すると結晶性の目的化合物が得ら
れた。
ジイソプロピルエーテルで洗浄する。収量１３３．１０
融点 ６４−６５℃（エタノールから再結晶）。
ＮＭＲ（ＯＤＯｔ３；δｐｐｍ ） ： １．５０ （
９Ｈ、ｓ 、 ０（ＣＨｓ）５ ） 、 ３．５１ （
２Ｈ、ｓ 、 ０ｏｃＨ２ｃｏ ） 。
９Ｈ、ｓ 、 ０（ＣＨｓ）５ ） 、 ３．５１ （
２Ｈ、ｓ 、 ０ｏｃＨ２ｃｏ ） 。
５．１２ （２Ｈ、ｓ 、 ００Ｈ２Ｃ！Ｏ） 、 ８
４３ （４Ｈ。
４３ （４Ｈ。
Ｓ１フエニルプロトン）。
実施例２゜
オキソ−酪酸メチル
４−ブロム−３−オキソ−酪酸メチル１０．９とｐ−ニ
トロ安息香酸カリウム１１．６ｇとから、実施例１と同
様の操作により、結晶性の目的化合物１１．８Ｆを得た
。
トロ安息香酸カリウム１１．６ｇとから、実施例１と同
様の操作により、結晶性の目的化合物１１．８Ｆを得た
。
融点 １０３−１０５℃（エタノールから再結晶）ＮＭ
Ｒ（０ＤＯ７６；δｐｐｍ ） ： ３．５４ （２Ｈ
、ｓ 。
Ｒ（０ＤＯ７６；δｐｐｍ ） ： ３．５４ （２Ｈ
、ｓ 。
ＣｏＣＨ２００） 、 ３．７０ （３Ｈ、ｓ 、 ０
ＣＨ５） 。
ＣＨ５） 。
５．０２ （２Ｈ、ｓ 、 ０ＯＨ２００） 、８４７
（４Ｈ。
（４Ｈ。
フェニルプロトン）。
実施例３゜
４−ブロム−３−オキソ−酪酸ｐ−メトキシベンジルＩ
Ｊ２，９とｐ−ニトロ安息香酸カリウム１２．６ｇとか
ら、実施例１と同様の操作によシ、結晶性の目的化合物
１３０ｙを得た。
Ｊ２，９とｐ−ニトロ安息香酸カリウム１２．６ｇとか
ら、実施例１と同様の操作によシ、結晶性の目的化合物
１３０ｙを得た。
融点 ９５−９６．５℃。
ＮＭＲ（ＯＤ（：’Ｚ−，，；δｐｐｍ ） ： ３、
ｓｓ （２Ｈ＊ ｓ ＊Ｃｏ−０Ｈ２−００） 、 ３
．７５ （・３ Ｈ、ｓ 、 ０ＯＨ６） 。
ｓｓ （２Ｈ＊ ｓ ＊Ｃｏ−０Ｈ２−００） 、 ３
．７５ （・３ Ｈ、ｓ 、 ０ＯＨ６） 。
５．００ （２Ｈ、ｓ 、 ０ＯＨ２００） 、５−０
７ （２Ｈ。
７ （２Ｈ。
ｂｒｓ ＋ベンジル位Ｃ！Ｈ２） 、 ７−０１ （４
Ｈ、Ａ２”２ ｑ。
Ｈ、Ａ２”２ ｑ。
△δ＝ ０．４３ ｐｐｍ 、 Ｊ ＝ ８．５ Ｈｚ
、ベンジル位フェニルプロトン） 、 ８．１９ （
４Ｈ、Ｓ 、 ０２Ｎ＋ＯＯ）。
、ベンジル位フェニルプロトン） 、 ８．１９ （
４Ｈ、Ｓ 、 ０２Ｎ＋ＯＯ）。
実施例４゜
４−ブロム−３−オギソー酪酸ｔθｒｔ−ブチル１０．
９と安息香酸ナトリウム１０Ｆとから、実施例１と同様
の操作により、シロップ状の目的化合物９．９ｙを得た
。
９と安息香酸ナトリウム１０Ｆとから、実施例１と同様
の操作により、シロップ状の目的化合物９．９ｙを得た
。
ＮＭＲ（Ｃ，ＤＣ１５；δｐｐｍ ） ： １．４８
（９Ｈ、ｓ 、 ｃ（ＯＨ３）５ ） 、 ３．４９
（２Ｈ、Ｓ 、 ｃｏｃａ２ｃｏ ） 。
（９Ｈ、ｓ 、 ｃ（ＯＨ３）５ ） 、 ３．４９
（２Ｈ、Ｓ 、 ｃｏｃａ２ｃｏ ） 。
４．９６ （２Ｈ、ｓ 、 ０ＯＨ２００） 、 ７．
３５−８．１５ （５Ｈ＊ ｍ ＃フェニルプロトン）
。
３５−８．１５ （５Ｈ＊ ｍ ＃フェニルプロトン）
。
実施例５゜
４−ブロム−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル１０＆
とｐ−クロル安息香酸カリウム１７．８＆とから、実施
例１と同様の操作によシ、シロップ状の目的化合物１２
７Ｉを得た。
とｐ−クロル安息香酸カリウム１７．８＆とから、実施
例１と同様の操作によシ、シロップ状の目的化合物１２
７Ｉを得た。
ＮＭＲ（０ＤＯｔ、 ；δＩ）ｐｍ ） ： １．４７
（９Ｈ、Ｓ 、 Ｏ（Ｃ！Ｈ５）３） ＊ ３−４４
（２Ｈ、ｓ 、 Ｃｏ−０Ｈ２Ｃｏ ） 、 ４．９
３ （２Ｈ。
（９Ｈ、Ｓ 、 Ｏ（Ｃ！Ｈ５）３） ＊ ３−４４
（２Ｈ、ｓ 、 Ｃｏ−０Ｈ２Ｃｏ ） 、 ４．９
３ （２Ｈ。
８ 、０ＯＨ２（、！Ｏ） 、 ７．６５ （４Ｈ、Ａ
２Ｂ、２ｑＩ△δ＝ ０．６０ｐｐｍ、 Ｊ ＝８．５
Ｈｚ ＊フェニルプロトン）。
２Ｂ、２ｑＩ△δ＝ ０．６０ｐｐｍ、 Ｊ ＝８．５
Ｈｚ ＊フェニルプロトン）。
実施例６
チル
４−（ｐ−二トロベンゾイルオキシ）−３−オキソ酪酔
ｔｅｒｔ−ブチル１１５．７．９の酢酸５００ゴ溶液に
、水冷下（内温１５〜２０℃）、亜硝酸ナトリウム２８
．２ｇを５０分にわたり少しづつ加える。
ｔｅｒｔ−ブチル１１５．７．９の酢酸５００ゴ溶液に
、水冷下（内温１５〜２０℃）、亜硝酸ナトリウム２８
．２ｇを５０分にわたり少しづつ加える。
さらに１時間１５分攪拌後、目的化合物と酢酸ナトリウ
ムの沈澱物１’取し、ヘキサンおよび水でよく洗浄する
。結晶性の目的物５４．８ｇ’を得た。Ｐ液を濃縮し、
析出する目的物を水、ヘキサンで洗浄して、さらに目的
化合物５０．４．９’を得た。全収量１０５．２．！ｉ
’。
ムの沈澱物１’取し、ヘキサンおよび水でよく洗浄する
。結晶性の目的物５４．８ｇ’を得た。Ｐ液を濃縮し、
析出する目的物を水、ヘキサンで洗浄して、さらに目的
化合物５０．４．９’を得た。全収量１０５．２．！ｉ
’。
融点１３４−１３６℃（分解）（ジイソプロビルエＮＭ
Ｒ（０ＤＣ１ｓ ； δ ｐｐｍ ） ：
１．５１ （９Ｈ、ｓ 、 ＣＣＯＨ５＞５
） 、 ５．３７ （２Ｈ、８、０ＯＨ２００）
。
Ｒ（０ＤＣ１ｓ ； δ ｐｐｍ ） ：
１．５１ （９Ｈ、ｓ 、 ＣＣＯＨ５＞５
） 、 ５．３７ （２Ｈ、８、０ＯＨ２００）
。
８．２２ （４Ｈ、ｓ 、フェニルプロトン） 、 １
２．９６（Ｉ Ｈ＊ ｂｒｓ 、 ＯＨ）。
２．９６（Ｉ Ｈ＊ ｂｒｓ 、 ＯＨ）。
実施例７゜
４−（ｐ−二トロペンゾイルオキシ）−３−オキソ酪酸
メチル１３．７．９？酢酸１００ツとＮ、Ｎ −ジメチ
ルアセトアミド４５−の混合溶媒に溶かし、これに室温
で亜硝酸ナトリウム４．３６ ｇｅ １時間にわたり少
しづつ加え、さらに室温で２０分攪拌する。反応液を濃
縮後、酢酸エチルと水に溶かし、酢酸エチル層を分離し
、食塩水、重イソプロピルエーテルで洗浄。収ｉ１０．
５ｇ。
メチル１３．７．９？酢酸１００ツとＮ、Ｎ −ジメチ
ルアセトアミド４５−の混合溶媒に溶かし、これに室温
で亜硝酸ナトリウム４．３６ ｇｅ １時間にわたり少
しづつ加え、さらに室温で２０分攪拌する。反応液を濃
縮後、酢酸エチルと水に溶かし、酢酸エチル層を分離し
、食塩水、重イソプロピルエーテルで洗浄。収ｉ１０．
５ｇ。
融点９４−９４．５℃（ベンゼンから再結晶）。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１Ｂ−ＤＭＳＯ−６６’ ；δｐｐｍ
） ： ３．８１ （３Ｈ。
） ： ３．８１ （３Ｈ。
ｓ 、 ０ＯＨ５） 、 ５．３６ （２Ｈ、ｓ 、、
０ＯＨ２００） −８，２０（４Ｈ、ｓ 、フェニル
プロトン）。
０ＯＨ２００） −８，２０（４Ｈ、ｓ 、フェニル
プロトン）。
実施例８゜
キシベンジル
４−（ｐ−二トロペンソイルオキシ）−，３−オキソ−
酪［ｐ−メトキシベンジル１２．９から実施例７と同様
の操作により、−シロップ状の目的化合物１４．１ｇを
得た。
酪［ｐ−メトキシベンジル１２．９から実施例７と同様
の操作により、−シロップ状の目的化合物１４．１ｇを
得た。
ＮＭＲ（Ｃ！ＤＯｚ５ ；δｐｌ）ｍ ） ７３．７５
（３Ｈ、ｓ 。
（３Ｈ、ｓ 。
○０Ｈ５） 、 ５．２４と５．３５（いずれも２ Ｈ
ｚ ８ ＋ベンジル位ＣＨ２および０ＯＨ２Ｃｏ ）
、 ７．０５ （４Ｈ１Ａ２Ｂ２ｑ、△δ＝ ０．４４
ｐｐｍ 、 Ｊ ＝ ８．５ Ｈｚ 。
ｚ ８ ＋ベンジル位ＣＨ２および０ＯＨ２Ｃｏ ）
、 ７．０５ （４Ｈ１Ａ２Ｂ２ｑ、△δ＝ ０．４４
ｐｐｍ 、 Ｊ ＝ ８．５ Ｈｚ 。
ベンジル位フェニルプロトン） 、 ８．２１ （４Ｈ
、ｓ、 ｏ２Ｎ＋ｃｏ ）。
、ｓ、 ｏ２Ｎ＋ｃｏ ）。
実施例９゜
ノー３−オキソ−酪酸ｔａｒｔ−ブチル４−ベンゾイル
オキシ−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル９．９ Ｉ
Ｉから実施例６と同様の操作によシ結晶性の目的化合物
３．７．９’を得た。
オキシ−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル９．９ Ｉ
Ｉから実施例６と同様の操作によシ結晶性の目的化合物
３．７．９’を得た。
ＮＭＲ（０ＤＯｔ５ ；δｐｐｍ ） ： １．５４
（９Ｈ、ｓ 、 ０（（：！Ｈ５）５） 、 ５．３２
（２Ｈ、Ｓ 、 ｏｃａ２ｃ○）。
（９Ｈ、ｓ 、 ０（（：！Ｈ５）５） 、 ５．３２
（２Ｈ、Ｓ 、 ｏｃａ２ｃ○）。
７．３−８．１５ （５Ｈ、ｍ 、フェニルプロトン）
。
。
実施例１０゜
チル
４−（ｐ−１０ルベンゾイルオキシ）−３−オキソ−酪
酸ｔθｒｔ−ブチル１２．７Ｆから実施例６と同様の操
作によシ、結晶性の目的化合物９８ＮＭＲ（ＣＤ０Ａ、
；δｐｐｍ ） ： １．５０ （９Ｈ、ｓ 、 ０
（ＣＨ５）Ｍ ） ＋ ｓ、ｚｓ （２Ｈ＋ ｓ ＊
０ＣＨ２ＣＯ） 、 ＋７．６３ （４Ｈ、Ａ２Ｂ２（
Ｌ 、△δ＝ ０．５７ ｐｐｍ 、 Ｊ ＝８．５
Ｈｚ ＠フェニルプロトン）。
酸ｔθｒｔ−ブチル１２．７Ｆから実施例６と同様の操
作によシ、結晶性の目的化合物９８ＮＭＲ（ＣＤ０Ａ、
；δｐｐｍ ） ： １．５０ （９Ｈ、ｓ 、 ０
（ＣＨ５）Ｍ ） ＋ ｓ、ｚｓ （２Ｈ＋ ｓ ＊
０ＣＨ２ＣＯ） 、 ＋７．６３ （４Ｈ、Ａ２Ｂ２（
Ｌ 、△δ＝ ０．５７ ｐｐｍ 、 Ｊ ＝８．５
Ｈｚ ＠フェニルプロトン）。
実施例１１゜
ジイルオキシ）−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチ土
２−ヒドロキシイミノ−４−（ｐ−二トロペンゾイルオ
キシ）−３−オキノーｕ ｅ ｔｅｒｔ −７’チル１
０５．２，９、 ジメチル硫酸３６．４ｒｎｌおよび炭
酸カリウム５８０ｇの乾燥アセトン１２混合液を室温で
４時間攪拌後、酢酸３５−を加え、さらに室温で３時間
攪拌する。。アセトンを留去し、残留物を酢酸エチル、
水に溶かし、酢酸エチル層を分離し、水洗後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると結晶性の目的
化合物が得られた。少量のジインプロピルエーテルにけ
ＮＭＲ（０Ｄｃｚ、 ；δｐｐｍ ） ： １．５１
（９Ｈ、ｓ 、 ０（ＣＨ３）５ ） 、 ４．０ＩＩ
Ｌ （３Ｈ、ｓ 、 ＯＯＪ ） 、 ５．３３（２Ｈ
、ｓ 、 ０ＯＨ２００）、８．１９（４Ｌ＠８１フエ
ニルプロトン）。
キシ）−３−オキノーｕ ｅ ｔｅｒｔ −７’チル１
０５．２，９、 ジメチル硫酸３６．４ｒｎｌおよび炭
酸カリウム５８０ｇの乾燥アセトン１２混合液を室温で
４時間攪拌後、酢酸３５−を加え、さらに室温で３時間
攪拌する。。アセトンを留去し、残留物を酢酸エチル、
水に溶かし、酢酸エチル層を分離し、水洗後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると結晶性の目的
化合物が得られた。少量のジインプロピルエーテルにけ
ＮＭＲ（０Ｄｃｚ、 ；δｐｐｍ ） ： １．５１
（９Ｈ、ｓ 、 ０（ＣＨ３）５ ） 、 ４．０ＩＩ
Ｌ （３Ｈ、ｓ 、 ＯＯＪ ） 、 ５．３３（２Ｈ
、ｓ 、 ０ＯＨ２００）、８．１９（４Ｌ＠８１フエ
ニルプロトン）。
実施例１２゜
ジイルオキシ）−３−オキソ酪酸メチル２−ヒドロキシ
イミノ−４−（ｐ−ニトロペ目的化合物８．１１７を得
た。
イミノ−４−（ｐ−ニトロペ目的化合物８．１１７を得
た。
融点１１５−１１７℃（エタノールから再結晶）ＮＭＲ
（ａＤａｚ５ ；δｐｐｍ ） ： ３．８４ （３Ｈ
、Ｓ 、エステル０ＯＨ５） 、 ４．１．２ （３Ｈ
、ｓ 、−ＮＯＯＨ５） 。
（ａＤａｚ５ ；δｐｐｍ ） ： ３．８４ （３Ｈ
、Ｓ 、エステル０ＯＨ５） 、 ４．１．２ （３Ｈ
、ｓ 、−ＮＯＯＨ５） 。
５．３４ （２Ｈ、Ｓ 、 ０ＯＨ２００） 、 ８．
２０ （４，Ｈ。
２０ （４，Ｈ。
Ｓ、フェニルプロトン）。
実施例１３゜
ジベンジル
２−ヒドロキシイミノ−４−（ｐ−二トロベンゾイルオ
キシ）−３−オキソ−酪酸ｐ−メトキシベンジ化１４．
１１１から、実施例１１と同様の操作により、結晶性の
目的化合物９．６ｇを得た。
キシ）−３−オキソ−酪酸ｐ−メトキシベンジ化１４．
１１１から、実施例１１と同様の操作により、結晶性の
目的化合物９．６ｇを得た。
融点１４６−１４７．５℃（ベンゼンから再結晶）ＮＭ
Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ；δｐｐｍ ） ： ３．７７
（３Ｈ、ｓ 。
Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ；δｐｐｍ ） ： ３．７７
（３Ｈ、ｓ 。
ぺ＊４辷に位００Ｈ５） 、 ４．１６ （３Ｈ、
ｓ 、 ＝Ｎ−００Ｈ５） 、 ５．２９と５．５４
（いずれも２ Ｈｚ Ｓ ＋ベンジル位ＣＨ２および
０ＯＨ２Ｃｏ ） 、 ７．１８ （４Ｈ。
ｓ 、 ＝Ｎ−００Ｈ５） 、 ５．２９と５．５４
（いずれも２ Ｈｚ Ｓ ＋ベンジル位ＣＨ２および
０ＯＨ２Ｃｏ ） 、 ７．１８ （４Ｈ。
Ａ２Ｂ２ｑ、△δ＝０、’２ ｐｌ）ｍ ｔ Ｊ＝ ８
．５ Ｈ２、ベンジル基フェニルプロトン） ＊ ８．
３７ （４Ｈ、Ａ２Ｂ２ＣＬ ｌ△δ−０，１８ｐｐｍ
、 Ｊ ＝ ９ Ｈｚ 、 ｏ２Ｎ−◎−ａｏ’１実
施例１４゜ ４−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシイミノ−３−オ
キソ−酪酸ｔθｒｔ−ブチル３．５ｇから実施例１１と
同様の操作により、シロップ状の目的物を得た。酢酸エ
チル−シクロヘキサン（１：Ｓ）のシリカゲル・カラム
クロマトにより精製した。収量４．４４．９ Ｏ ＮＭＲ（ＣＤ０ｚ４ ；δｐｐｍ ） ： １．５３
（３Ｈ、ｓ 、 ０（ＯＨ５）５） 、 ４．１０ （
３Ｈ、Ｓ、 ＯＯＨ，） 、 ５．３４（２Ｈ、ｓ 、
０ＯＨ２Ｃｏ ） 、 ７．４−８．２ （５Ｈ。
．５ Ｈ２、ベンジル基フェニルプロトン） ＊ ８．
３７ （４Ｈ、Ａ２Ｂ２ＣＬ ｌ△δ−０，１８ｐｐｍ
、 Ｊ ＝ ９ Ｈｚ 、 ｏ２Ｎ−◎−ａｏ’１実
施例１４゜ ４−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシイミノ−３−オ
キソ−酪酸ｔθｒｔ−ブチル３．５ｇから実施例１１と
同様の操作により、シロップ状の目的物を得た。酢酸エ
チル−シクロヘキサン（１：Ｓ）のシリカゲル・カラム
クロマトにより精製した。収量４．４４．９ Ｏ ＮＭＲ（ＣＤ０ｚ４ ；δｐｐｍ ） ： １．５３
（３Ｈ、ｓ 、 ０（ＯＨ５）５） 、 ４．１０ （
３Ｈ、Ｓ、 ＯＯＨ，） 、 ５．３４（２Ｈ、ｓ 、
０ＯＨ２Ｃｏ ） 、 ７．４−８．２ （５Ｈ。
ｍ、フェニルプロトン）。
実施例１５゜
一荏一
４−（ｐ−クロルベンゾイルオキシ）−２−ヒドロキシ
イミノ−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル９．５ｇか
ら実施例１１と同様の操作により結晶性の目的化合物８
．６５．９を得た。
イミノ−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル９．５ｇか
ら実施例１１と同様の操作により結晶性の目的化合物８
．６５．９を得た。
融点 ８３−８４．５℃。
ＮＭＲ（０ＤＯｔ３；δｐｐｍ ） ： １．５１ （
９Ｈ、ｓ 、 ｃ（ＯＨｘ）５） 、 ４．Ｏｒ （ａ
Ｈ、ｓ 、 ＯＯＨ，） 、 ５．２７（’ ２ Ｈ
、ｓ 、 ０ＣＨ２００） 、 ？−６３ （４Ｈ、Ａ
２Ｂ２ｑ、△δ＝ ０．６０ ｐｐｍ 、 Ｊ ＝ ８
．５ Ｈｚ 、フェニルプロトン）。
９Ｈ、ｓ 、 ｃ（ＯＨｘ）５） 、 ４．Ｏｒ （ａ
Ｈ、ｓ 、 ＯＯＨ，） 、 ５．２７（’ ２ Ｈ
、ｓ 、 ０ＣＨ２００） 、 ？−６３ （４Ｈ、Ａ
２Ｂ２ｑ、△δ＝ ０．６０ ｐｐｍ 、 Ｊ ＝ ８
．５ Ｈｚ 、フェニルプロトン）。
実施例１６
２−メトキシイミノ−４，−（ｐ−ニトロベンゾイルオ
キシ）−３−オキソ−酪酸ｐ−メトキシベンジル１０．
３ｇのジクロルメタン１０〇−溶液に氷冷下、アニソー
ル１０Ｔｎｌ、）ＩＪフルオロ酢酸２５ｒｎｌを加え、
４５分攪拌後、反応液全濃縮する。残留物にジイソプロ
ピルエーテルを加え、析出する結晶性目的物ｆＰ取した
。
キシ）−３−オキソ−酪酸ｐ−メトキシベンジル１０．
３ｇのジクロルメタン１０〇−溶液に氷冷下、アニソー
ル１０Ｔｎｌ、）ＩＪフルオロ酢酸２５ｒｎｌを加え、
４５分攪拌後、反応液全濃縮する。残留物にジイソプロ
ピルエーテルを加え、析出する結晶性目的物ｆＰ取した
。
融点１５１〜１５２℃（ａｅｃ） （ジエチルエーテル
から再結晶）。
から再結晶）。
ＮＭＲ（ＯＤＯ４５−ＤＭＳＯ−ｄ６ ；δｐｐｍ ）
： ４．１５ （９Ｈ、ｓ 、 ０（ＯＨ５）５ ）
、 ５．４２ （２Ｈ、Ｓ 、 ０ＯＨ２Ｃ０） １
８．２９ （４Ｈｒ ｓ ＊フェニルプロトン）。
： ４．１５ （９Ｈ、ｓ 、 ０（ＯＨ５）５ ）
、 ５．４２ （２Ｈ、Ｓ 、 ０ＯＨ２Ｃ０） １
８．２９ （４Ｈｒ ｓ ＊フェニルプロトン）。
実施例１７゜
Ａ、 ４−ブロム−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチ
ル１５，９と０−ニトロ安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル１５
ｇとから、実施例１と同様の操作により、シロップ状の
４−（ｏ−ニトロベンゾイルオキシ）−３−オキソ酪酸
ｔｅｒｔ−ブチル１Ｂ、６＆を得る。
ル１５，９と０−ニトロ安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル１５
ｇとから、実施例１と同様の操作により、シロップ状の
４−（ｏ−ニトロベンゾイルオキシ）−３−オキソ酪酸
ｔｅｒｔ−ブチル１Ｂ、６＆を得る。
Ｂ、工程Ａで得られる３−オキソ酪酸エステルを実施例
Ｔと同様の操作により、酢酸１５〇−中、亜硝酸ナトリ
ウム５．７ｇでニトロソ化して、シロップ状の２−ヒド
ロキシイミノ−４−（。
Ｔと同様の操作により、酢酸１５〇−中、亜硝酸ナトリ
ウム５．７ｇでニトロソ化して、シロップ状の２−ヒド
ロキシイミノ−４−（。
−ニトロベンツイルオキシ）−３−オキソ−酪酸ｔｅｒ
ｔ−ブチル１３．５ｇを得る。
ｔ−ブチル１３．５ｇを得る。
Ｃ１工程Ｂで得られるヒドロキシイミノ化合物を実施例
１１と同様の操作により、アセトン１３０ ｒｒＬｌ中
ジメチル硫酸５−と炭酸カリウム８．２ｇでメチル化し
て、シロップ状の目的化合物を得る。これをエタノール
に溶かし、冷蔵庫中にしｒ； 放置すると結晶が析出する。Ｐ取＃本。収量３１０ 融点 ９５−９ｆｉ℃。
１１と同様の操作により、アセトン１３０ ｒｒＬｌ中
ジメチル硫酸５−と炭酸カリウム８．２ｇでメチル化し
て、シロップ状の目的化合物を得る。これをエタノール
に溶かし、冷蔵庫中にしｒ； 放置すると結晶が析出する。Ｐ取＃本。収量３１０ 融点 ９５−９ｆｉ℃。
参考例１゜
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２５４ ）ｄとオキシ塩
化リン２７８μを混合物を４０℃、一時間加熱して得ら
れるビールス・マイヤ試薬に酢酸エチル４ｍ７！ｆ加え
、室温で攪拌しているところに２−メトキシイミノ−４
−（ｐ−ニトロベンゾイルオキシ）−３−オキノー酪酸
９２５ ｍｆ！ ｋ 加工、２〜３分間分間攪拌金石と
均一な酢酸エチル溶液が得られる。この溶液全７−アミ
ノ−３−メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロ
イルオキシメチルエステル塩酸塩１ｇとＮ、Ｎ −ジエ
チルアニリン１．５ ｍｅのジクロルメタン１５−溶液
［−２０℃で加える。冷浴全はずし、３０分間攪拌後、
ジクロルメタンを減圧下留去し、残留物を酢酸エチルに
溶かし、重硫酸カリ水溶液、重佇水で洗浄する。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、濃縮液にジエチルエ
ーテルを加え、目的化合物をｆ取した。収量１４Ｓ ｇ
。
化リン２７８μを混合物を４０℃、一時間加熱して得ら
れるビールス・マイヤ試薬に酢酸エチル４ｍ７！ｆ加え
、室温で攪拌しているところに２−メトキシイミノ−４
−（ｐ−ニトロベンゾイルオキシ）−３−オキノー酪酸
９２５ ｍｆ！ ｋ 加工、２〜３分間分間攪拌金石と
均一な酢酸エチル溶液が得られる。この溶液全７−アミ
ノ−３−メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロ
イルオキシメチルエステル塩酸塩１ｇとＮ、Ｎ −ジエ
チルアニリン１．５ ｍｅのジクロルメタン１５−溶液
［−２０℃で加える。冷浴全はずし、３０分間攪拌後、
ジクロルメタンを減圧下留去し、残留物を酢酸エチルに
溶かし、重硫酸カリ水溶液、重佇水で洗浄する。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、濃縮液にジエチルエ
ーテルを加え、目的化合物をｆ取した。収量１４Ｓ ｇ
。
ＮＭＲ（０ＤＣ１５；δｐｐｍ ） ： １．２２ （
９Ｈ、ｓ 。
９Ｈ、ｓ 。
ｔｅｒｔ−Ｂｕ ） 、 ２．１２ （３Ｈ、ｓ 、
３位”Ｈｓ ） 。
３位”Ｈｓ ） 。
３．３６ （２Ｈ、ＡＢｑ 、△δ＝ ０．３８ ｐｐ
ｍ 、 Ｉ ＝ １８．５Ｈｚ 、 ２位Ｈ２） ＄
４．１７ （３，Ｈ、Ｓ 、 ＯＯＨ，） 。
ｍ 、 Ｉ ＝ １８．５Ｈｚ 、 ２位Ｈ２） ＄
４．１７ （３，Ｈ、Ｓ 、 ＯＯＨ，） 。
４９γ（Ｉ Ｈ、（１、Ｊ ＝、４．５ Ｈｚ 、 ６
位ＩＩ（） 、 ５．３７（２Ｈ、Ｓ 、 Ｐｈ０Ｏ＋
２０Ｈ２Ｃ！Ｏ） 、 ５．γγ（ＩＨ，ｄ、ｄ、 Ｊ
＝ ４．５と８．５ Ｈｚ 、 ７位Ｈ） 、 ５．
８３ （２Ｈ，６，エステル○０Ｈ２０） ＋ ７．２
８ （Ｉ Ｈ、ｂｒｄ 。
位ＩＩ（） 、 ５．３７（２Ｈ、Ｓ 、 Ｐｈ０Ｏ＋
２０Ｈ２Ｃ！Ｏ） 、 ５．γγ（ＩＨ，ｄ、ｄ、 Ｊ
＝ ４．５と８．５ Ｈｚ 、 ７位Ｈ） 、 ５．
８３ （２Ｈ，６，エステル○０Ｈ２０） ＋ ７．２
８ （Ｉ Ｈ、ｂｒｄ 。
Ｊ ＝ ８．５ Ｈ２，Ｎｕ ） 、 ８．２６ （４
Ｈ、フェニルプロトン）。
Ｈ、フェニルプロトン）。
参考例２゜
３−メチル−７−〔２−メトキシイミノ−４−（ｐ−ニ
トロベンツイルオキシ）−３−オキソ−ブチリルアミノ
〕−３−セフェム−４−カルボン酸ヒバロイルオキシメ
チルエステル８００ｍｇのアセトン３−溶液に内温−４
０℃に保ちながら１Ｎ水酸化リチウム水溶液０．９６Ｔ
Ｌｌｋ滴加する。
トロベンツイルオキシ）−３−オキソ−ブチリルアミノ
〕−３−セフェム−４−カルボン酸ヒバロイルオキシメ
チルエステル８００ｍｇのアセトン３−溶液に内温−４
０℃に保ちながら１Ｎ水酸化リチウム水溶液０．９６Ｔ
Ｌｌｋ滴加する。
１５分−４０℃で攪拌後、酢酸６０μｔを加え、５分攪
拌する。反応液に酢酸エチルを加え、水、重曹水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。
拌する。反応液に酢酸エチルを加え、水、重曹水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。
残留物をクロロホルム−酢酸エチル１：１を溶媒系とす
るシリカゲル・カラムクロマトに付して、目的化合物１
１４１１１９’に得た。
るシリカゲル・カラムクロマトに付して、目的化合物１
１４１１１９’に得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ；δｐｐｍ ） ： １．２３
（９Ｈ、ｓ 。
（９Ｈ、ｓ 。
ｔｅｒｔ−Ｂｕ ） 、 ２．１４ （３Ｈ＊ ｓ 、
３位０Ｈ３） 。
３位０Ｈ３） 。
３．１６ （Ｉ Ｈ、ｂｒｓ 、 ＯＨ） 、
３．４０ （，２Ｈ、ＡＢｑ、△δ＝ ０．３７ ｐｐ
ｍ 、 Ｊ ＝ １８ Ｈｚ 、 ２位Ｈ２）。
３．４０ （，２Ｈ、ＡＢｑ、△δ＝ ０．３７ ｐｐ
ｍ 、 Ｊ ＝ １８ Ｈｚ 、 ２位Ｈ２）。
４．１３ （３Ｈ、ｓ 、 ０ＯＨ５） 、４．６０
（２Ｈ、ｂｒｓ、７位０ＣＨ２ＣＯ） 、 ４１Ｔ （
Ｉ Ｈ、ｄ、 Ｊ ＝４．５ Ｈｚ 、 ６位Ｈ） 、
５．７５ （Ｉ Ｈ、ａ、ａ、 Ｊ ＝４．５と８．
５ Ｈｚ 、 ７位Ｈ） 、 ５．８３ （２Ｈ、ｓ
。
（２Ｈ、ｂｒｓ、７位０ＣＨ２ＣＯ） 、 ４１Ｔ （
Ｉ Ｈ、ｄ、 Ｊ ＝４．５ Ｈｚ 、 ６位Ｈ） 、
５．７５ （Ｉ Ｈ、ａ、ａ、 Ｊ ＝４．５と８．
５ Ｈｚ 、 ７位Ｈ） 、 ５．８３ （２Ｈ、ｓ
。
エステル０ＣＨ２Ｑ）、５５０（１Ｈ１ｂｒｄ、Ｊ＝ｓ
、ｓ Ｈ２、’Ｎ Ｈ）。
、ｓ Ｈ２、’Ｎ Ｈ）。
参考例３
７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシイミノ−３−オキ
ソ−ブチリルアミノ）−３−メチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ヒバロイルオキシメチル３２０１１１１ｉ
＋のジクロルメタン６ｍ１．溶液にピリジン１６３μｔ
、 メタンスルホニルクロライド６２．５μｔ２加え、
室温で一夜放置する。反応液に酢酸エチル、水を加え、
有機溶媒層を分離し、水、重硫酸カリ水溶液、重曹水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
後、残留物を酢酸エチル−シクロヘキサン１：１を溶媒
系とするシリカゲル・カラムクロマトに付して、目的化
合物１４８ｍｇ’ｌ（得た。
ソ−ブチリルアミノ）−３−メチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ヒバロイルオキシメチル３２０１１１１ｉ
＋のジクロルメタン６ｍ１．溶液にピリジン１６３μｔ
、 メタンスルホニルクロライド６２．５μｔ２加え、
室温で一夜放置する。反応液に酢酸エチル、水を加え、
有機溶媒層を分離し、水、重硫酸カリ水溶液、重曹水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
後、残留物を酢酸エチル−シクロヘキサン１：１を溶媒
系とするシリカゲル・カラムクロマトに付して、目的化
合物１４８ｍｇ’ｌ（得た。
’ＮＭＲ（（：！Ｄｏｔ５；δｌ）Ｉ）ｍ ） ： １
．２１ （９Ｈ、Ｓ 。
．２１ （９Ｈ、Ｓ 。
ｔｅｒｔ−Ｂｕ ） 、 ２．１２ （３Ｈ、３位ＯＨ
，） 、 ３．１８（３Ｈ、Ｓ 、 ５ｏ２０Ｈ，）
、 ３．３７ （２Ｈ、ＡＢｃｌ 。
，） 、 ３．１８（３Ｈ、Ｓ 、 ５ｏ２０Ｈ，）
、 ３．３７ （２Ｈ、ＡＢｃｌ 。
△δ＝ ０．３８ ｐｐｍ 、 Ｊ ＝ １８．５ Ｈ
ｚ 、−２位Ｈ２）。
ｚ 、−２位Ｈ２）。
４．１４ （３Ｈ、ｓ 、 ０ＯＨ５） 、 ４．９６
（Ｉ Ｈ−ａ 。
（Ｉ Ｈ−ａ 。
Ｊ ＝ ４．５ Ｈ２、６位Ｈ） 、 ５．２４ （２
Ｈ、ｓ 、 ７位０ＣＨ２００） 、 ５．７３ （Ｉ
Ｈ、ｄ、ｄ、 Ｊ ＝ ４．５と８．５ Ｈｚ 、
７位Ｈ） 、 ５．８２ （２Ｈ、ｓ 、エステル０Ｃ
Ｈ２ＣＯ） 、 ７．４２ （Ｉ Ｈ、ｂｒａ 、 Ｊ
＝ ８．５Ｈｚ、Ｎ−Ｈ）。
Ｈ、ｓ 、 ７位０ＣＨ２００） 、 ５．７３ （Ｉ
Ｈ、ｄ、ｄ、 Ｊ ＝ ４．５と８．５ Ｈｚ 、
７位Ｈ） 、 ５．８２ （２Ｈ、ｓ 、エステル０Ｃ
Ｈ２ＣＯ） 、 ７．４２ （Ｉ Ｈ、ｂｒａ 、 Ｊ
＝ ８．５Ｈｚ、Ｎ−Ｈ）。
参考例４
２−メトキシイミノ−４−（ｐ−二トロペンゾイルオキ
シ）−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル１５９のアセ
トン５００ ｍ溶液に、液温−４０℃で１Ｎ水酸化リチ
ウム水溶液１２２．７７ｋ １５分にわたり滴加する。
シ）−３−オキソ−酪酸ｔｅｒｔ−ブチル１５９のアセ
トン５００ ｍ溶液に、液温−４０℃で１Ｎ水酸化リチ
ウム水溶液１２２．７７ｋ １５分にわたり滴加する。
１０分間攪拌後、２Ｍクエン酸水溶液６１．４ｍｇ′ｆ
ｃ加える。アセトンを減圧留去し、目的化合物を酢酸エ
チルに抽出し、溶液を水、重曹水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、濃縮する。残留するシロップをシ
クロヘキサン−０−ヘキサン（１：１）中で結晶化させ
、目的化合物ｖ、４ｙ＋Ｐ取した。
ｃ加える。アセトンを減圧留去し、目的化合物を酢酸エ
チルに抽出し、溶液を水、重曹水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、濃縮する。残留するシロップをシ
クロヘキサン−０−ヘキサン（１：１）中で結晶化させ
、目的化合物ｖ、４ｙ＋Ｐ取した。
融点６３℃（シクロヘキサンから再結晶）。
参考例５゜
４−ヒドロキシ−３−°オキ′７−２−メトキシイミノ
酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル５４０ηを無水ジクロル
メタンに溶解し水冷攪拌下、０．４８６ｙｄのトリエチ
ルアミンと、０．３７−のメタンスルホニルクロライド
を加える。水冷下１５分間攪拌し、溶媒を減圧下留去す
る。得られた油状物を酢酸エチルに溶解し、食塩水で洗
う。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮すると黄色油
状物が得られた。これをベンゼン：酢酸エチル（２０：
１）全展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトで分離
精製すると、無色油状物として目的物が５６５■得られ
た。
酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル５４０ηを無水ジクロル
メタンに溶解し水冷攪拌下、０．４８６ｙｄのトリエチ
ルアミンと、０．３７−のメタンスルホニルクロライド
を加える。水冷下１５分間攪拌し、溶媒を減圧下留去す
る。得られた油状物を酢酸エチルに溶解し、食塩水で洗
う。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮すると黄色油
状物が得られた。これをベンゼン：酢酸エチル（２０：
１）全展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトで分離
精製すると、無色油状物として目的物が５６５■得られ
た。
ＮＭＲスペクトＡ／ （Ｃ，ＤＣｌｘ、 ；δｐｐｍ）
１．５３ （９Ｈｏ５）＊３．１５（３Ｈ，ｓ
、ＣもＳＯ□ｏ−） 、 ４．０Ｔ−ｓｏ２ｏｃａ、
ｃｏ−） 参考例６ ４−メタンスルホニルオキシ−３−オキソ−２−メトキ
シイミノ酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル５６５Ｒ＆”ｋ
５−のトリフルオロ酢酸に溶解し室温で５０分間攪拌し
、過剰のトリフルオロ酢酸を減圧留去し、更に残渣をメ
チレンクロライドに溶解し、四塩化炭素を加え、減圧濃
縮すると、目的物が淡褐色油状物として４４０■得られ
た。
１．５３ （９Ｈｏ５）＊３．１５（３Ｈ，ｓ
、ＣもＳＯ□ｏ−） 、 ４．０Ｔ−ｓｏ２ｏｃａ、
ｃｏ−） 参考例６ ４−メタンスルホニルオキシ−３−オキソ−２−メトキ
シイミノ酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル５６５Ｒ＆”ｋ
５−のトリフルオロ酢酸に溶解し室温で５０分間攪拌し
、過剰のトリフルオロ酢酸を減圧留去し、更に残渣をメ
チレンクロライドに溶解し、四塩化炭素を加え、減圧濃
縮すると、目的物が淡褐色油状物として４４０■得られ
た。
ＮＭＲスペクトル（ＯＤ５０００Ｄ３ ；δｐｐｍ）
３．１５ （３Ｈ、Ｂ ’、 ＣＩ（５ＳＯ２０）
、 ４．１０ （３Ｈｏ Ｓ ＋特許出願人 三共株式
会社 代理人 弁理士樫出庄治 手続補正書（自発） 昭和５９年２月２１日 特許庁長官 若 杉 相 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第 １６６３１ 号 ２、発明の名称 ３−オキシ酪酸誘導体およびその製造法；、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 ５、補正によシ増加する発明の数 なし６、補正の対
象 明細書の発明の詳細な説明の欄１、 明細書第１
０頁第２行乃至第３行の「１−メトキシカルボニルメチ
ル」を「１−メトキシカルボニルエチル」と訂正する。
３．１５ （３Ｈ、Ｂ ’、 ＣＩ（５ＳＯ２０）
、 ４．１０ （３Ｈｏ Ｓ ＋特許出願人 三共株式
会社 代理人 弁理士樫出庄治 手続補正書（自発） 昭和５９年２月２１日 特許庁長官 若 杉 相 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第 １６６３１ 号 ２、発明の名称 ３−オキシ酪酸誘導体およびその製造法；、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 ５、補正によシ増加する発明の数 なし６、補正の対
象 明細書の発明の詳細な説明の欄１、 明細書第１
０頁第２行乃至第３行の「１−メトキシカルボニルメチ
ル」を「１−メトキシカルボニルエチル」と訂正する。
２ 明細書第１０頁第４行の
「１−メトキシカルボニルメチル」を「メトキシカルボ
ニルメチル」と訂正する。
ニルメチル」と訂正する。
３ 明細書第３１頁第１行の
Ｆ−０ＣＲ５） Ｊを「＠−Ｏジ９」と訂正する。
４、 明細書第４０頁第９行の
「無色油状物」ヲ「結晶（融点４６〜７℃〕」と訂正す
る。
る。
５、 明細書第４１頁第９行と第１０行の間に次の語句
を追加する。
を追加する。
「参考例７
ン塩
４−メタンスルホニルオキシ−３−オキノー２−メトキ
シイミノ酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル２７１ｇの酢酸
２０〇−溶液に室温で塩化水素ガスを５０分間吹きこん
だ後、反応液を減圧濃縮し、残留物中の酢酸をトルエン
との減圧留去によって除去する。残留油状物を酢酸エチ
ル８０Ｔｎｌに溶解し、水冷下撹拌しながらジシクロヘ
キシルアミ２１８ｍ１’ｌ１滴加する。３０分後、目的
物のジシクロヘキシルアミン塩１７．１１をｅ取し、酢
酸エチルで洗浄する。結晶母液を濃縮し、残留物を少量
の酢酸エチル中に溶解し放置すると二次結晶２．４ｇを
得ることができた。
シイミノ酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル２７１ｇの酢酸
２０〇−溶液に室温で塩化水素ガスを５０分間吹きこん
だ後、反応液を減圧濃縮し、残留物中の酢酸をトルエン
との減圧留去によって除去する。残留油状物を酢酸エチ
ル８０Ｔｎｌに溶解し、水冷下撹拌しながらジシクロヘ
キシルアミ２１８ｍ１’ｌ１滴加する。３０分後、目的
物のジシクロヘキシルアミン塩１７．１１をｅ取し、酢
酸エチルで洗浄する。結晶母液を濃縮し、残留物を少量
の酢酸エチル中に溶解し放置すると二次結晶２．４ｇを
得ることができた。
融点１２６−１２８℃。」
以上
Claims (6)
- （１）一般式 〔式中、 Ｒ１は置換基を有するかまたは有しないアリ
ール基を示し、 Ｒは水素原子またはカルボキシ基の保
護基を示し、ＡおよびＢは水素原子または一緒になって
ヒドロキシイミノ基または一緒になって＝ＮＯＲ’ （
Ｒ３は置換基を有するかまたは有しない直鎖若しくは分
枝鎖状のアルキル、アルケニル、アルキニルまたはシク
ロアルキル基金示す。）で表わされる基を示す。〕で表
わされる新規な３−オキソ酪酸誘導体。 - （２）一般式 ％式％ （式中、 Ｒ４はカルボキシ基の保護基を示し、Ｘは塩
素原子または臭素原子を示す。）で表わされる化合物に
、一般式 ％式％ （式中、 Ｒ１は置換基を有するかまｆｃは有しないア
リール基を示し、 Ｍｏは金属イオンまたは有機アンモ
ニウムイオンを示す。）で表わされる芳香族カルボン酸
塩を反応させて得られる一般式 ％式％ （式中 Ｒ１およびＲ４は前述したものと同意義を有す
る。）で表わされる化合物の製造法。 - （３）一般式 ％式％ （式中、 Ｒ１は置換基を有するかまたは有しないアリ
ール基金示し Ｒ４はカルボキシ基の保護基を示す。 ）で表わされる化合物をニトロソ化して、一般式 （式中 Ｒ１およびＲ４は前述したものと同意義を有す
る。）で表わされる化合物の製造法。 - （４）一般式 （式中、 Ｒ１は置換基を有する力）まｆｃ＆ま有しな
いアリール基金示し Ｒ４＆エカルボキシ基の保護基
を示す。）で表わされる化合物を、一般式 Ｒ５−
Ｙ （式中、 Ｒ３は置換基を有する力・またヲ１有しない
直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル、アルケニル、アルキ
ニルまたはシクロアルキル基金示し、Ｙは求核性脱離基
金示す。）で表わされる化合物によジアルキル化して得
られる一般式（式中 ’Ｒ１，Ｒ５およびＲ’ ）ｉ前
述したものと同意義を有する。）で表わされるイし合物
の製造法。 - （５）一般式 （式中、 Ｒ１は置換基を有する力・また（ま有しない
アリール基金示し、 Ｒはカルボキシ基の保護基を示し
、 Ｒ５は水素原子または置換基を有するかまたは有し
ない直鎖若しくは分枝鎖状のアルキル、アルケニル、ア
ルキニルまたはシクロアルキル基金示す。）で表わされ
る化合物をカルボキシ基の保護基の除去反応に付するこ
と全特徴とする一般式 （式中、Ｒ１およびＲ５は前述したものと同意義金有す
る。）で表わされる化合物の製造法。 - （６）一般式 ％式％ （式中 Ｒ４はカルボキシ基の保護基を示し、又は塩
素原子または臭素原子を示す。）で表わされる化合物に
、一般式 ％式％ （式中、Ｒ１は置換基を有するかまたは有しないアリー
ル基を示し、Ｍｏは金属イオンまたは有機アンモニウム
イオンを示す。）で表わされる芳香族カルボン酸塩を反
応させて得られる一般式 ％式％ （式中 Ｒ１およびＲ４は前述したものと同意義を有す
る。）で表わされる化合物をニトロソ化して、一般式 （式中、Ｒ１およびＲ４は前述したものと同意義を有す
る。）で表わされる化合物を製造し、これ全一般式 （式中、ＲＲは置換基を有するかまたは有しない直鎖若
しくは分枝鎖状のアルキル、アルケニル、アルキニルま
たはシクロアルキル基金示し、Ｙは求核性脱離基を示す
。）で表わされる化合物と反応させて、一般式 （式中、Ｒ’、Ｒ’およびＲ４は前述したものと同意義
を有する。）で表わされる化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58016631A JPS59141541A (ja) | 1983-02-03 | 1983-02-03 | ３−オキソ酪酸誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58016631A JPS59141541A (ja) | 1983-02-03 | 1983-02-03 | ３−オキソ酪酸誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59141541A true JPS59141541A (ja) | 1984-08-14 |
Family
ID=11921708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58016631A Pending JPS59141541A (ja) | 1983-02-03 | 1983-02-03 | ３−オキソ酪酸誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59141541A (ja) |
-
1983
- 1983-02-03 JP JP58016631A patent/JPS59141541A/ja active Pending
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