JPS59135471A - 湿し水不要平版印刷版 - Google Patents

湿し水不要平版印刷版

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JPS59135471A
JPS59135471A JP876283A JP876283A JPS59135471A JP S59135471 A JPS59135471 A JP S59135471A JP 876283 A JP876283 A JP 876283A JP 876283 A JP876283 A JP 876283A JP S59135471 A JPS59135471 A JP S59135471A
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JP
Japan
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photosensitive layer
layer
printing plate
dampening water
lithographic printing
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JP876283A
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JPH041900B2 (ja
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Masaaki Yamada
政明 山田
Kuniyuki Sakai
酒井 国行
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は湿し水不要平版印刷版に関するものであり、支
持体上に、特に選ばれた感光層とシリコーンゴム層を塗
設した湿し水不要平版印刷版に関するものである。
従来のオフセット方式による平版印刷では、湿し水の組
成、供給量等とインキのノくランスが印刷結果に大きな
影響を及ぼすため、湿し水の供給について非常に高度な
技術が要求される。このためオフセット印刷業界では、
湿し水が不要な平版印刷版の出現が久しく待望されてい
た。
近年、この要求を満たすものとして、数多ぐの湿し水不
要平版印刷版に関する提案がなされている。
たとえば、特開昭55〜59466号公報および特開昭
55−11[]249号令報にはノボラック樹脂のナフ
トキノン−1,2−シアノド−5−スルホン酸エステル
を感光層とした湿し水不要平版印刷版が開示されている
。この印’1lil1版はシリコーンゴム層を浸透し、
露光部のカルボン酸化合1勿に変化した部分を溶解する
溶媒を含浸させたブラシ、布等で表面をこすり、露光部
の感光層をめ解すると共に、上部のンリコーン層を剥き
とる方法で現像を行なっている。しかしながら、その現
像速度は十分でなく、またその速度にばらつきあり、特
に乾燥雰囲気に保存された場合に現像速度が著しく低下
するという欠点があった。
本発明者らは」一連のような問題点を)W4決すべぐ鋭
意検旧した結果、感光層として、数平均分子量(+a・
)が650以下で分散度〔重量平均分子量(・)とMn
  ト(7) 比(Mw/ Mn) ]が6以下である
ノボラック型フェノール樹脂のオルトナフトキノン−−
7アジドー5 −スルホン酸エステルを用いると.現像
速度が速く,−またその速度にばらつきがなく.しかも
乾燥雰囲気に保存された場合にも現像速度がほとんど変
化しない事を見出し,本発明をなすに到った。
すなわち、本発明は支持体上に十〇己感光性樹脂からな
る感光層.シリコーンゴム層をこの順に塗設してなる湿
し水不要平版印刷版に関するものである。
本発明の構成からなる湿し水不要平版印刷版の現像速度
が前記のようにほとんど変動しない理由は.未だ解明さ
れていないが.以下のように説明できると考えられる。
即ち.従来のノボラック樹脂のオルトナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステルを感光層とした印刷版の現像速
度が十分でなくまた速度が変動するのは,露光により生
成したケラン化合物が感光層中に存在する水分と反応し
て,カルボン酸化合物が生成するはかりでなく,ノボラ
ック樹脂に由来する残存水酸基と反応してエステル結合
による橋かけが一部で起こす,シかもカルボン酸化合物
とエステル結合の生成比率が露光時の感光層中に存在す
る水分率によって変動するためと考えられる。当然.乾
燥雰囲気に保存した場合には,エステル結合の生成比率
が高くなり現像速1反がおそくなる事は言う寸でもない
本発明で用いる Mnが650以1&で分散度が6以下
のノボラック型フェノール樹脂のナフトキノ7 − 1
. 2−7アシドー5−スルホン酸エステルもし7〈ば
4−スルホン酸エステルを感光層とした場合には,エス
テル結合による槁かけ構造を生成しても.分子量および
分散度が小さいため分子量が巨大化せず現像溶媒のアル
コール等に対して溶解性がそれほど低下しないためと推
測される。
以下に本発明の構成を詳細に述へる。
感光層としては,ノエノール瞥たはクレゾールをホルム
アルデヒドと縮合して得られるMnが650以下で分散
度が6以下であるノボラック型フェノール樹脂のオルト
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸ニス
テルモLl;i−4−スルホン酸エステルが用いられる
。Mnが650より犬きく分散度がろより大きいノボラ
ック型フェノール樹脂から合成した感光性樹脂は.橋か
け反応が起った場合.現像溶媒のエタノール等に対する
俗解性が非常に低下するため本発明の構成には適さない
。このようなMnが650以下で分散度が6以下である
ノボラック型フェノール樹脂は,触媒の種類,および添
加量フェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドの
仕込比,反応温度および時間等を適宜コンi・ロールす
る事により得ることができる。あるいは分別操作により
イ↓n /!:)小もijJ能である。寸たエステル化
率(iRスペクトルから定量)は65〜100係のもの
が用いられる。エステル化率が65%より小さい場合に
は露光部と未露光部の現像溶媒に対する溶解性に差が出
現しにぐい。
感yC層の厚さは05〜5μが好ましい。薄くしすぎる
とピンホールの原因になり.厚くしすきるとクラックが
発生しやすくなり,¥18だ経済的な見地からも不利と
なる。
感光層中にはその性能を損わない限り,必要な添加剤,
例えば顔料.染刺.樹脂.町塑剤等を加えることができ
る。
本発明に用いられるインキ反発層として,1更用される
シリコーンゴム層のJM−ミtriG.5〜IQQ7z
好ましくは1〜50μのものが用いられる。石川なンリ
コーンゴムは次のような繰返し単位を有する分子量数千
〜数十万の線状有機ポリシロキサン金主成分とする/リ
コーンゴムである。
f( C −Sニー0−1− (Rは炭素数1〜10のアルキル基あるいはフェニル基
であり,Rの60係以十かメチル基であるものが好丑し
い。) この線状面槻ポリ/ロキザンは,通常末端水酸基t 有
するものを用い,アセトキシンラン、ケト側ギンムシラ
ン、アルコオギシンラン等の橋かけ剤を存在させ有機ス
ズ化合物等の触媒共存下に。
熱処理により橋かけし、シリコーンゴム層として用いら
れる。
甘だ必要に応じて、シリコーンコム層と感光層間あるい
は感光層と支持体間の接着のために1層間に公知の7リ
コーンブライマやシリコーンカッ7’ l)ング剤層を
設けたり、シリコーンゴム層アルいは感光層に公知の7
リコーンプライマやシランカップリング剤を添加するこ
とも効果的である。
支持体としては1紙、プラスチックフィルム捷たはシー
ト、天然あるいは人造ゴムシート、金属板等が用いられ
る。これらの支持体はハレーション防止その他の目的で
さらにコーティング層重たは貼合せ層を設は支持体とし
て用いることも可能である。
以上説明したようにして構成さゎ、た湿し水不要平版印
刷版の表面を形成するシリコーンコム層は。
きすの発生、はこりの付着などを防止するために保護フ
ィルムを積層することもできる。有用な保護フィルムと
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル。ポリビニルアルコール。
ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
本発明に基つぐ湿し水不要平版印刷版は1例えば次のよ
うにして製造される。甘ず、支持体の士ニリハースロー
ルコータ、エアナイフコータ、メーヤハーコータ等の通
常のコータあるいはホエラのような回転塗布装置を用い
、感光性物質溶液を塗布、乾燥後、この感光層の十に同
様な方法で必要に応して接着層を4布、乾燥して1次い
でシリコーンコム浴液を同様に塗布し1通常100〜1
20゛Cの温順で数分間熱処理して十分に硬化させシリ
コーンゴム層を形成する。さらに必要ならば保護フィル
ムをこのシリコーンゴム層の」−1にラミイ・−タ等を
用いて積層する。
このようにして製造され/辷本発明の湿し水不要平版印
刷版は1例えば所定のパターンを有するネガフィルムを
真空密着して紫外線により露光される。紫外線を発生ず
る光源としては、水銀灼、カーボンアーク灯、ギセノー
ンランプ、メタルハライドランプ、螢光す]等を用いる
ことができる。次いで現像液を含浸させた布、ブラシ等
の現像ノくラドで表面をこすると露光部の感光層が溶解
するとともに」二部のシリコーンゴム層が容易にはきと
られ支持体が露出する。
現像液として釦、シリコーンコム層を浸透し。
かつ露光さi′1.た感光層のみを溶解するものが用い
られる3、このようなJA像液としてはメタノール。
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感光層へ
の浸透をより容易にするため、シリコーン層を膨潤さぜ
得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を混合して用いる
ことも好ましい。
以上実施例を示し1本発明をさらに詳1111に説明す
るが1本発明の実施の態様がこれにより眼力類されるも
のではない。
実施例1 化成処J!11アルミ板(住友軽金属製)にMn= 4
34 。
M−w/ Mn = 2.1のフェノールノボラックi
!J ll旨のナントギノン−1,2−7ア/ド−5−
スルホン酸エステル(エステル化率74係)の7重量L
l)7オキサン溶液をホエラで回転塗布後100 ’C
で65分間乾燥させて24μの感光層を形成した。この
十にγ−アミノプロピルトリエトキンシラノ(gcc製
、A−110O)の05重敞係アイツノクー(エッソ製
)溶液をホエラで回転塗布後、120’O,60秒間乾
燥した。この十に次の組成をもつシリコーン組成物の7
%アイソパー溶液をホエラで回転塗布後、120”0.
35分間加熱した。
(、)  ボリゾメチルシロギザン(ンナ子量約8力。
末端OH基)          100部(IJ) 
 エチルトリアセトキシシラン    5部(C)  
シフチル錫アセテート      02賛IS得ら−I
zたシリコーンコム層の厚みは26μであった。
上V己のようにして得られた印刷原版f 23’c x
60%RHおよびシリカゲル十のテシケータ中VC7日
間保存後、真空密着l−た100μ〜15mmの線巾の
直線画像を有するイ・カフイルレムを通I7てメタルハ
ライドランプ(岩崎電気製アイドルフイル2OLIO,
)を用い、1mの距離から60秒露光した。次いで版面
を現像液のエタノールに1分間浸漬した後、パッド(用
島織物製、ロングランカーペット)で10g/Cl11
2の荷重下にこすると、露光部は除去され化成処理アル
ミ表面が露出したネガフィルムに忠実な画像が得られた
。この時、現像速度として支持体表面が露出するまでの
こすり回数を求めた。その結果を次の6つの比較例とと
もに表1に掲げた。
比較例1 実施例1の感光層f Mn = 818. Mv+/ 
Mn = 5.6のフェノールノボラック樹脂のナフト
キノン−1,2−ノアシト−5−スルホン酸エステル(
エステル化率58%)にかえて、同一条件で保存後、露
光現像した。
比較例2 実施例1の感光層をMn=6081MW/1vl・−6
8のフェノールノボラック樹脂のナフトキノン−1,2
−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エステル化率6
4係)にかえて、同一条件で保存後、露光現像した。
比較例6 実施例1の感光層k Mn = 713 、 MW/ 
Mn = 2.5のフェノールノボラック樹脂のナフト
キノン−12−ジアジド−5−スルホン酸エステル(エ
ステル化率66係)にかえて、同一条件で保存後、露光
現像した。
表1 現像速度の比較 表1のテークから、実施例1では現像速度が非常に速い
のに対し、比較例1,2.3ともおそいことがわかる。
とくにシリカゲルデシケータ中に保存した場合には、そ
の差がさらに顕著になり。
実施例1では現像速度がほとんど変らないのに対し、比
較例1,2.ろとも大略2倍おそくなった。
実施例2 厚さ0.25 mmのポリエチレンテレフタレートのフ
ィルムの士に、厚さり、 25 nuTlのンヨアAコ
゛ム硬度70のニトリルゴム層を設けた支持体の十に。
石n = 620.  Mw/ Mn = 2.6  
のフェノールノボラック樹脂のナフトキノン−1,2−
ジアジド−5−スルホン酸エステル(エステル化率61
%)を感光層とする印刷原版を実施例1と同一な方法で
得。
評1曲した。
現像速度は23°OX/)O%RHX7日保存で8回、
26゛C×シリ力ケルデシケータ×7日イ呆存で9回で
あった。
実施例ろ 実施例1の感光層f、< Mn = 406. MW/
 Mn = 1.7のフェノールノボラック樹脂のナフ
トキノン−1゜2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(エステル化率66φ)にかえて製造し、評価した。
現像速度ば2ろ゛C×60%RHX7日イ山す存で4回
、26°0×シリ力ゲルデシゲータ×7日保存で6回で
あった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体上にオルトナフトキノンジアジド化合物からなる
    感光層、シリコーンゴム層をこの順に塗設してなる湿し
    水不要平版印刷版において、オルトナフトキノンジアジ
    ド化合物として数平均分子量(yn)が650以下で分
    散度(重量平均分子量(Mw )とlJnとの比菌−/
    Mn) ]が6以下であるノボラック型フェノール樹脂
    のオルトナフトキノンヅアジドスルホン酸エステルを用
    いたことを特徴とする湿し水不要平版印刷版。
JP876283A 1983-01-24 1983-01-24 湿し水不要平版印刷版 Granted JPS59135471A (ja)

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JPH041900B2 JPH041900B2 (ja) 1992-01-14

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1249341A1 (en) * 2001-04-09 2002-10-16 Agfa-Gevaert Lithographic printing plate precursor
EP1256444A1 (en) * 2001-04-09 2002-11-13 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US6846613B2 (en) 2001-04-09 2005-01-25 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursors

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EP1249341A1 (en) * 2001-04-09 2002-10-16 Agfa-Gevaert Lithographic printing plate precursor
EP1256444A1 (en) * 2001-04-09 2002-11-13 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US6846613B2 (en) 2001-04-09 2005-01-25 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursors

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JPH041900B2 (ja) 1992-01-14

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