JPS59132634U - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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JPS59132634U
JPS59132634U JP2771183U JP2771183U JPS59132634U JP S59132634 U JPS59132634 U JP S59132634U JP 2771183 U JP2771183 U JP 2771183U JP 2771183 U JP2771183 U JP 2771183U JP S59132634 U JPS59132634 U JP S59132634U
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JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor manufacturing
semiconductor wafer
manufacturing equipment
vacuum chamber
photoresist solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP2771183U
Other languages
English (en)
Inventor
靖 中村
Original Assignee
日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はフォトレジスト液が塗布された半導体ウェーハ
を示す側面図、第２図はバッチ処理型の従来の加熱乾燥
装置を示す側断面図、第３図は枚葉処理型の従来の加熱
乾燥装置を示す側断面図、第４図は本考案の一実施例を
示す側面図、第５図は第４図の要部の動作状態を示す拡
大した側面図である。 １・・・フォトレジスト液、２・・・半導体ウェーハ、
１７・・・加熱ステージ、１８・・・ヒータブロック、
１９・・・真空チャンバー、１９ａ・・・室、２０・・
・上下動機構。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. フォトレジスト液が塗布された半導体ウェーハを載置し
    て加熱する加熱ステージと、加熱ステージに上記半導体
    ウェーハを覆うように被せられる真空チャンバーと、真
    空チャンバーと加熱ステージとを相対的に上下動せしめ
    る上下動機構とを具備してなり、半導体ウェーハ上に塗
    布されたフォトレジスト液を真空チャンバー内で真空引
    きしながら加熱乾燥するようにしたことを特徴とする半
    導体製造装置。
JP2771183U 1983-02-25 1983-02-25 半導体製造装置 Pending JPS59132634U (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5339330A (en) * 1976-09-24 1978-04-11 Hitachi Ltd Application of adherends to articles
JPS53142181A (en) * 1977-05-18 1978-12-11 Toshiba Corp Manufacture of semiconductor element
JPS5726433A (en) * 1980-07-23 1982-02-12 Hitachi Ltd Bake of photoresist or the like and apparatus therefor

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5339330A (en) * 1976-09-24 1978-04-11 Hitachi Ltd Application of adherends to articles
JPS53142181A (en) * 1977-05-18 1978-12-11 Toshiba Corp Manufacture of semiconductor element
JPS5726433A (en) * 1980-07-23 1982-02-12 Hitachi Ltd Bake of photoresist or the like and apparatus therefor

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