JPS606149U - 半導体露光装置 - Google Patents
半導体露光装置Info
- Publication number
- JPS606149U JPS606149U JP9814683U JP9814683U JPS606149U JP S606149 U JPS606149 U JP S606149U JP 9814683 U JP9814683 U JP 9814683U JP 9814683 U JP9814683 U JP 9814683U JP S606149 U JPS606149 U JP S606149U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor exposure
- exposure equipment
- casing
- abstract
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案の実施例を示す側面図。
図中、１は照明系キャビネット、２は投影光学系鏡筒、
３は顕微鏡、４Ａはマスク・チャック、４Ｂはウェハ・
ステージ、６はケージング、７は給気装置、１０は集塵
フィルター、１１は拡散板である。
３は顕微鏡、４Ａはマスク・チャック、４Ｂはウェハ・
ステージ、６はケージング、７は給気装置、１０は集塵
フィルター、１１は拡散板である。
Claims (1)
- フォトマスクのパターンをウェハ上に転写するための装
置に於いて、前記装置の照明部を除いた部分を包み込む
ためのケージングと、ケージング中に一定温度の流体を
供給するための手段を具えることを特徴とする半導体露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9814683U JPS606149U (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 半導体露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9814683U JPS606149U (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 半導体露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS606149U true JPS606149U (ja) | 1985-01-17 |
Family
ID=30233152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9814683U Pending JPS606149U (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 半導体露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606149U (ja) |
-
1983
- 1983-06-24 JP JP9814683U patent/JPS606149U/ja active Pending
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