JPS5950439U - 半導体露光装置 - Google Patents

半導体露光装置

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Publication number
JPS5950439U
JPS5950439U JP14592082U JP14592082U JPS5950439U JP S5950439 U JPS5950439 U JP S5950439U JP 14592082 U JP14592082 U JP 14592082U JP 14592082 U JP14592082 U JP 14592082U JP S5950439 U JPS5950439 U JP S5950439U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor exposure
exposure apparatus
chuck
temperature
mask
Prior art date
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Pending
Application number
JP14592082U
Other languages
English (en)
Inventor
慎二 筒井
松村　尊
Original Assignee
キヤノン株式会社
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Publication date
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Publication of JPS5950439U publication Critical patent/JPS5950439U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の実施例の図、 図中、１はマスク、２はウェハー、３はマスクチャック
、４はウェハーチャック、５は投影光学系、６は白金測
温抵抗体、７は発熱抵抗体、８は放熱板、９は温度制御
装置、１０は電源、１１は冷却用エアー人口、１２は冷
却用エアー出口、１３は露光用光束である。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ｌ　マスクのパターンをウェハ上に転写する半導体露光
    装置において、マスク又はウェハを固定支持するマスク
    チャック又はウェハチャックが強制加熱する発熱抵抗体
    と、強制冷却するエア冷却手段を有することを特徴とす
    る半導体露光装置。 ２　前記エアは常温のエアであり、温度制御されるマス
    クチャック又はウェハチャックは常温より高く設定され
    る実用新案登録請求の範囲第１項記載の半導体露光装置
    。 ３　前記エアは常温より低いエアである実用新案登録請
    求の範囲第１項記載の半導体露光装置。 ４　前記発熱抵抗体及びエア冷却手段は温度制御される
    マスクチャック又はウェハチャックの内部に設けられる
    実用新案登録請求の範囲第１項記載の半導体露光装置。 ５　冷却用の放熱板が設けられる実用新案登録請求の範
    囲第１項記載の半導体露光装置。 ６　前記発熱抵抗体はウェハチャック内に設けられ、一
    方、前記エア冷却手段は、マスクチャック側に設けられ
    る実用新案登録請求の範囲第１項記の半導体露光装置。 ７　温度検知手段がチャックに設けられる実用新案登録
    請求の範囲第１項記載の半導体露光装置。
JP14592082U 1982-09-27 1982-09-27 半導体露光装置 Pending JPS5950439U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61147528A (ja) * 1984-12-21 1986-07-05 Toshiba Corp レジスト処理装置
JPS63164194U (ja) * 1987-04-15 1988-10-26

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5473578A (en) * 1977-11-24 1979-06-12 Toshiba Corp Pattern exposure method of semiconductor substrate and pattern exposure apparatus
JPS54149586A (en) * 1978-05-17 1979-11-22 Hitachi Ltd Mask aligner
JPS55123131A (en) * 1979-03-16 1980-09-22 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Exposer for mask alignment

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