JPS6061721U - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置Info
- Publication number
- JPS6061721U JPS6061721U JP15137483U JP15137483U JPS6061721U JP S6061721 U JPS6061721 U JP S6061721U JP 15137483 U JP15137483 U JP 15137483U JP 15137483 U JP15137483 U JP 15137483U JP S6061721 U JPS6061721 U JP S6061721U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- temperature
- light emitting
- point position
- irradiation device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Arrangement Of Elements, Cooling, Sealing, Or The Like Of Lighting Devices (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案実施例の正面断面図、第２図は同じく側
面断面図を示す。 １・・・装置箱、２・・・ミラー、３・・・副ミラー、
４・・・紫外線ランプ、４ａ・・・発光部、４ｂ・・・
電極部を取り囲むバルブ部、５・・・前面ガラス、６・
・・被照射物（半導体ウェハー）、７・・・冷却ファン
、８・・・ダクト。
面断面図を示す。 １・・・装置箱、２・・・ミラー、３・・・副ミラー、
４・・・紫外線ランプ、４ａ・・・発光部、４ｂ・・・
電極部を取り囲むバルブ部、５・・・前面ガラス、６・
・・被照射物（半導体ウェハー）、７・・・冷却ファン
、８・・・ダクト。
Claims (1)
- 紫外線ランプの発光部をミラーの前面に突出させ、この
ミラーの背部に位置する当該ランプの電極部を取り囲む
バルブ部とミラーの背面を空冷可能な冷却手段を設け、
電極部を取り囲むバルブ部の最冷点位置の温度と発光部
の温度差が１０°Ｃ以上になるようにするとともに、最
冷点位置の温度を２０〜３０°Ｃに保持することを特徴
とする紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15137483U JPS6061721U (ja) | 1983-10-01 | 1983-10-01 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15137483U JPS6061721U (ja) | 1983-10-01 | 1983-10-01 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6061721U true JPS6061721U (ja) | 1985-04-30 |
| JPH0356045Y2 JPH0356045Y2 (ja) | 1991-12-16 |
Family
ID=30335462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15137483U Granted JPS6061721U (ja) | 1983-10-01 | 1983-10-01 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6061721U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63240030A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体処理装置 |
-
1983
- 1983-10-01 JP JP15137483U patent/JPS6061721U/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63240030A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0356045Y2 (ja) | 1991-12-16 |
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