JPS59132413A - 磁気ヘツドコアの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドコアの製造方法Info
- Publication number
- JPS59132413A JPS59132413A JP535283A JP535283A JPS59132413A JP S59132413 A JPS59132413 A JP S59132413A JP 535283 A JP535283 A JP 535283A JP 535283 A JP535283 A JP 535283A JP S59132413 A JPS59132413 A JP S59132413A
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- Japan
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- core
- burr
- core thin
- thin plate
- thin plates
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は録音、再生可能な磁気ヘッドコアに係り、さら
に詳しくはコア積層体の隙間に電気絶縁性を有する微粒
子（以下、絶縁粒子）を入れ、バイアス電流を少なくし
た磁気ヘッドコアの製造方法に関するものである。
に詳しくはコア積層体の隙間に電気絶縁性を有する微粒
子（以下、絶縁粒子）を入れ、バイアス電流を少なくし
た磁気ヘッドコアの製造方法に関するものである。
従来技術
従来においては録音再生可能なヘッド用コアのコア形汰
は第１図に示すように、厚さ約Ｑ、 ｌ ｍｍの薄板か
らプレス抜きしたコア薄板１をパリを除去しないでその
まま例えば６枚積層して所定のトランク幅にし樹脂層２
で固定をしていた。
は第１図に示すように、厚さ約Ｑ、 ｌ ｍｍの薄板か
らプレス抜きしたコア薄板１をパリを除去しないでその
まま例えば６枚積層して所定のトランク幅にし樹脂層２
で固定をしていた。
また、樹脂層２で接着固定を行なう場合にはコア薄板ど
うしが加圧硬化されるため、樹脂が均一とならず、コア
どうしが接触したり、またプレス抜きのまま積層するた
め、第２図に示１−ように外周のパリ３により、コアど
うしが端部で接触をおこし、そのためにうず電流を生じ
、バイアス電流が増加するという欠点があった。
うしが加圧硬化されるため、樹脂が均一とならず、コア
どうしが接触したり、またプレス抜きのまま積層するた
め、第２図に示１−ように外周のパリ３により、コアど
うしが端部で接触をおこし、そのためにうず電流を生じ
、バイアス電流が増加するという欠点があった。
目 的
本発明は以上のような従来の欠点を改良するためになさ
れたもので、磁気ヘッド用コアのノ（すな除去すると共
にコア薄板の間に絶縁粒子を存在させ、コア薄板どうし
の接触、またコア薄板外周の供することを目的としてい
る。
れたもので、磁気ヘッド用コアのノ（すな除去すると共
にコア薄板の間に絶縁粒子を存在させ、コア薄板どうし
の接触、またコア薄板外周の供することを目的としてい
る。
実施例
以下、図面に示す実施例に基いて本発明の詳細な説明を
する。
する。
第１実施例
第３図は本発明の一実施例を示すもので、図中、第１図
および第２図と同一部分には同一符号が付しである。図
において１はコア薄板で研摩あるいは化学エツチングで
外周のパリを除去しである。
および第２図と同一部分には同一符号が付しである。図
において１はコア薄板で研摩あるいは化学エツチングで
外周のパリを除去しである。
コア薄板１，１間には絶縁粒子４を介在させである。こ
の絶縁粒子層の厚みはトラック幅の規格に入るべく、０
２μｍ以下が望ましい。
の絶縁粒子層の厚みはトラック幅の規格に入るべく、０
２μｍ以下が望ましい。
絶縁粒子はセラミック等からなり、前述のコア薄板間に
均一に入り込んでおり、コア薄板どうしの接触を防いで
いる。
均一に入り込んでおり、コア薄板どうしの接触を防いで
いる。
つぎに、以上のように構成された本実施例の製造方法を
説明する。例えばパーマロイ、センダストなどの高透磁
率物質で形成された薄板をコア形状にプレス抜きした後
、タンブラ−をかけ、パリ取りを行い、その後磁性焼鈍
を行う。７ｃの後粒径が１０μｍ程度の酸化アルミニウ
ム、Ａｌ２Ｏ３などの絶縁粒子が重量比で１０多混入し
ているエポキシ樹脂をコア両面にスプレーした後、スプ
レーされたコア薄板を複数枚積層する。そして加圧硬化
させて接着同定し完成となる。このような製造方法で作
った本発明製品と、パリがあり、かつ絶縁粒子を混入し
ない従来品と、従来品に対してパリを除去したか又は絶
縁粒子を混入した各側との比較を第１表に示す。第１表
はメタルテープをテープ速度４．７５ ｃｍ／ｓｅｃで
走行させ、周波数８０−のバイアス電流がピークオーバ
ー・マイナス２ｄＢとなる電流匝である。
説明する。例えばパーマロイ、センダストなどの高透磁
率物質で形成された薄板をコア形状にプレス抜きした後
、タンブラ−をかけ、パリ取りを行い、その後磁性焼鈍
を行う。７ｃの後粒径が１０μｍ程度の酸化アルミニウ
ム、Ａｌ２Ｏ３などの絶縁粒子が重量比で１０多混入し
ているエポキシ樹脂をコア両面にスプレーした後、スプ
レーされたコア薄板を複数枚積層する。そして加圧硬化
させて接着同定し完成となる。このような製造方法で作
った本発明製品と、パリがあり、かつ絶縁粒子を混入し
ない従来品と、従来品に対してパリを除去したか又は絶
縁粒子を混入した各側との比較を第１表に示す。第１表
はメタルテープをテープ速度４．７５ ｃｍ／ｓｅｃで
走行させ、周波数８０−のバイアス電流がピークオーバ
ー・マイナス２ｄＢとなる電流匝である。
本実施例は以上のように構成されているため、コア薄板
間の樹脂の不均一からくる、コア薄板どうしの接触、ま
た、コア薄板の外周パリによる接触を防ぎ、バイアス電
流の増卵を防いでいる。
間の樹脂の不均一からくる、コア薄板どうしの接触、ま
た、コア薄板の外周パリによる接触を防ぎ、バイアス電
流の増卵を防いでいる。
第２実施例
第４図、第５図は本発明の池の実施例で図において、符
号１はコア薄板！、片面だけ外周パリを除去し、他の半
面には積層する前に予め絶縁粒子４が付着させら９てお
り、外周パリを除去した面と絶縁粒子を付着させた面と
が向い合わさるように積層されている。
号１はコア薄板！、片面だけ外周パリを除去し、他の半
面には積層する前に予め絶縁粒子４が付着させら９てお
り、外周パリを除去した面と絶縁粒子を付着させた面と
が向い合わさるように積層されている。
つぎに、以」二のよう（二構成された本実施例の製造方
法について説明する。
法について説明する。
絶縁粒子である酸化カルシウムＣａＯ、粒子を例えばメ
チルセルロースのようなセルロース系の樹脂中に混入し
て、これらを磁性板にスプレー等で付着させ、七の後プ
レス抜きを行なう。その際絶縁粒子が付着しである面（
ニバリが出ないように打ち抜く。−１（の後研摩によ１
）絶縁粒子が付着していない方の外周からパリをとり、
゛バリをとった面と絶縁粒子を付着した面とが向い合う
ように複数のコア薄板を積層し、積層されたコア薄板を
レーザー溶接により固定する。レーザー溶接箇所５が多
いと高周波特性が劣化するので、コアの形成を保つため
の最少箇所を溶接すればよく、例えば第４図のように２
箇所とする。また他の溶接方法では溶接部が大きくなり
すぎ高周波特性が劣化する。
チルセルロースのようなセルロース系の樹脂中に混入し
て、これらを磁性板にスプレー等で付着させ、七の後プ
レス抜きを行なう。その際絶縁粒子が付着しである面（
ニバリが出ないように打ち抜く。−１（の後研摩によ１
）絶縁粒子が付着していない方の外周からパリをとり、
゛バリをとった面と絶縁粒子を付着した面とが向い合う
ように複数のコア薄板を積層し、積層されたコア薄板を
レーザー溶接により固定する。レーザー溶接箇所５が多
いと高周波特性が劣化するので、コアの形成を保つため
の最少箇所を溶接すればよく、例えば第４図のように２
箇所とする。また他の溶接方法では溶接部が大きくなり
すぎ高周波特性が劣化する。
この後に磁性焼鈍し完成となる。このようにして製造さ
れた本発明に係る磁気ヘッド用コアと、従来品に対して
パリを除去したか又は絶縁粒子を混入した各側との比較
を第２表（−示す。尚、測定条件は第１表と同様である
。
れた本発明に係る磁気ヘッド用コアと、従来品に対して
パリを除去したか又は絶縁粒子を混入した各側との比較
を第２表（−示す。尚、測定条件は第１表と同様である
。
第１表
第２表
このように、本発明の磁気へラドコアの製造方法を採用
すると、パリの除去及び絶縁粒子の介在による相互作用
によって、積層されたコア薄板同士の接触を回避する事
ができる。そのため、バイアス電流がより小さくなって
、しかもバラツキ（標準偏差）を少くできるという効果
が得らｇる。
すると、パリの除去及び絶縁粒子の介在による相互作用
によって、積層されたコア薄板同士の接触を回避する事
ができる。そのため、バイアス電流がより小さくなって
、しかもバラツキ（標準偏差）を少くできるという効果
が得らｇる。
効果
以−Ｌの説明から明らかなように、本発明によれば磁気
〜ラド用コアにおいて積層されたコア薄板どうしの接触
によるバイアス電流の増加を防止する効果がある。
〜ラド用コアにおいて積層されたコア薄板どうしの接触
によるバイアス電流の増加を防止する効果がある。
第１図は従来構造を示す斜視図、第２図は第１ゝ図のＡ
−Ａ線断面図、第３図は本発明の第１実施例の断面図、
第４因は本発明の第２実施例の斜視図、第５図は第４図
のＢ−Ｂ線断面図である。 １・・・コア薄板 ２・・樹脂層３・・・バ
リ ４・・・絶縁粒子５ ・溶着部 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
−Ａ線断面図、第３図は本発明の第１実施例の断面図、
第４因は本発明の第２実施例の斜視図、第５図は第４図
のＢ−Ｂ線断面図である。 １・・・コア薄板 ２・・樹脂層３・・・バ
リ ４・・・絶縁粒子５ ・溶着部 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
Claims (3)
- （１）プレス加工によって形成されたコア薄板からパリ
を除去する工程と、パリを除去する工程の前又は後でコ
ア薄板に電気絶縁性を有する微粒子を混入した樹脂を付
着させる工程と、微粒子と樹脂が付着したコア薄板の複
数枚を積層する工程と、積層されたコア薄板を固定する
工程とを有する事を特徴とする磁気へラドコアの製造方
法。 - （２） パリを除去する工程の後にエポキシ樹脂を付
着させ、積層されたコア薄板を該エポキシ樹脂の接着力
によって固定することを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の磁気へラドコアの製造方法。 - （３） パリを除去する工程の前にセルロース系の樹
脂を付着させ、積層されたコア薄板をレーザ溶接によっ
て固定することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の磁気へラドコアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP535283A JPS59132413A (ja) | 1983-01-18 | 1983-01-18 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP535283A JPS59132413A (ja) | 1983-01-18 | 1983-01-18 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59132413A true JPS59132413A (ja) | 1984-07-30 |
Family
ID=11608795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP535283A Pending JPS59132413A (ja) | 1983-01-18 | 1983-01-18 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59132413A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113470960A (zh) * | 2021-07-07 | 2021-10-01 | 惠州市安可远磁性器件有限公司 | 铁镍金属磁粉芯的生产工艺 |
-
1983
- 1983-01-18 JP JP535283A patent/JPS59132413A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113470960A (zh) * | 2021-07-07 | 2021-10-01 | 惠州市安可远磁性器件有限公司 | 铁镍金属磁粉芯的生产工艺 |
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