JPS59130424A - フオトマスク形成方法 - Google Patents
フオトマスク形成方法Info
- Publication number
- JPS59130424A JPS59130424A JP58232710A JP23271083A JPS59130424A JP S59130424 A JPS59130424 A JP S59130424A JP 58232710 A JP58232710 A JP 58232710A JP 23271083 A JP23271083 A JP 23271083A JP S59130424 A JPS59130424 A JP S59130424A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- developing
- transferred
- plate
- conveyer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フォトマスク形成方法に関し特にフォトマス
クへの自動印字方法に関する。
クへの自動印字方法に関する。
半導体装＆特にＩＣの製作にあたっては、フォトマスク
を使用してシリコンウェーハ等の被処理体に微細なパタ
ーンの遮蔽膜を形成し、これをマスクとして選択酸化２
選択不純物拡散４選択エツチング等を行なっている。こ
のようなフォトマスクは通常パターンジェネレータによ
り１０倍の原版を製作し、これをステップ・アンドリピ
ータにより行列に配列しながら縮小投影露光し、これを
現像、ベーク、エツチング等の処理を行って完成する。
を使用してシリコンウェーハ等の被処理体に微細なパタ
ーンの遮蔽膜を形成し、これをマスクとして選択酸化２
選択不純物拡散４選択エツチング等を行なっている。こ
のようなフォトマスクは通常パターンジェネレータによ
り１０倍の原版を製作し、これをステップ・アンドリピ
ータにより行列に配列しながら縮小投影露光し、これを
現像、ベーク、エツチング等の処理を行って完成する。
すなわち、上記縮小投影露光により上記フォトマスクに
は、上記した微細なパターンの遮蔽膜を形成するｆこめ
の所望のパターンが露光される。
は、上記した微細なパターンの遮蔽膜を形成するｆこめ
の所望のパターンが露光される。
この種のフォトマスクには、投入されたシリコンウェー
ハ等の被処理体が、半導体装置の製作工程においていか
に処理されるかを、被処理体の流れに浴って知るために
、品種名等のインデックスが設けられているのが一般的
である。
ハ等の被処理体が、半導体装置の製作工程においていか
に処理されるかを、被処理体の流れに浴って知るために
、品種名等のインデックスが設けられているのが一般的
である。
従来、このインデックス（印字）を設ける作業は、上記
現像作業の前に作業者が行い、印字、現像、ベークとい
う各作業を作業者が各装置間を持ち廻って行なっている
。そのため、各作業間に人間による手作業が入るため、
フォトマスクばぎずつぎやすく、破損することがあると
ともに、塵埃などによる汚染により、この工程の歩留ま
りに太ぎな影響をおよぼしていると共に、フォトマスク
の品質を低下させているという問題がある。
現像作業の前に作業者が行い、印字、現像、ベークとい
う各作業を作業者が各装置間を持ち廻って行なっている
。そのため、各作業間に人間による手作業が入るため、
フォトマスクばぎずつぎやすく、破損することがあると
ともに、塵埃などによる汚染により、この工程の歩留ま
りに太ぎな影響をおよぼしていると共に、フォトマスク
の品質を低下させているという問題がある。
それゆえ、本発明の目的は、フォトマスクに印字する作
業を、自動化して、印字、現像、ベークを−貫して行な
い、人間による手作業をなくして、高品質でかつ高歩留
まりのものを得ることができるフォトマスク形成方法を
提供することにある。
業を、自動化して、印字、現像、ベークを−貫して行な
い、人間による手作業をなくして、高品質でかつ高歩留
まりのものを得ることができるフォトマスク形成方法を
提供することにある。
以下、本発明の一実施例を、本発明を実施する上で用い
られるフォトマスク用自動印字現像ベーク装置を用いて
詳述する。
られるフォトマスク用自動印字現像ベーク装置を用いて
詳述する。
図面は、上記したフォトマスク用自動印字現像ベーク装
置を示す概略斜視図である。
置を示す概略斜視図である。
上記のフォトマスク用自動印字現像ベーク装置は、基台
１表面の一方向に印字すべきフォトマスクすなわち所望
のパターンが露光されたフォトマスクを自動印字装置３
に自動的に供給するローダ２と、自動印字装置３．自動
現像装置４．ベーク炉５それに処理されたフォトマスク
を自動的にカセット８に収納するアンローダ６が具設さ
れ、これらの装置間を通して被処理体であるフォトマス
クを移送させるエアベアリング、吸着アームまたはベル
トコンベア等の搬送具７が装備されているものである。
１表面の一方向に印字すべきフォトマスクすなわち所望
のパターンが露光されたフォトマスクを自動印字装置３
に自動的に供給するローダ２と、自動印字装置３．自動
現像装置４．ベーク炉５それに処理されたフォトマスク
を自動的にカセット８に収納するアンローダ６が具設さ
れ、これらの装置間を通して被処理体であるフォトマス
クを移送させるエアベアリング、吸着アームまたはベル
トコンベア等の搬送具７が装備されているものである。
また、基体１内には図示していないが、上記各装置の駆
動機構や制御機構が内蔵されており、これらはコントロ
ールパネル９により自動的に動作￥ることができろよう
になっている。
動機構や制御機構が内蔵されており、これらはコントロ
ールパネル９により自動的に動作￥ることができろよう
になっている。
］０はキーボード装置、１１はテレビジョン等のディス
プレイ装置であり１、これらは、自動印字装置３の一部
であり、印字作業を遠隔操作できるようになっており、
印字すべき文字（品種名、製作番号等のインデノータス
）を入力表示等を行なうことができるものである。
プレイ装置であり１、これらは、自動印字装置３の一部
であり、印字作業を遠隔操作できるようになっており、
印字すべき文字（品種名、製作番号等のインデノータス
）を入力表示等を行なうことができるものである。
本発明によれば、上記ローディングカセット１２にチャ
ージされている印字すべきフォトマスク（以下、プレー
トと略称する）をローダ２により１枚ずつ取り出し、か
つ搬送具７によって移送し、自動印字装置３に入れる。
ージされている印字すべきフォトマスク（以下、プレー
トと略称する）をローダ２により１枚ずつ取り出し、か
つ搬送具７によって移送し、自動印字装置３に入れる。
ここで、プレートに品種名、製作番号等をキーボード装
置１０およびディスプレイ装置１１によって遠隔操作す
ることにより印字したのち、ふたたび搬送具７により移
送して自動現像装置４に入れる。ここで、現像、水洗処
理を行なったのち、搬送具７によりグレートを移送し、
ベーク炉に入れる。ここで必要時間ベーク（熱処理）を
行なったのち、搬送具７によってプレートを移送し、ア
ンローダ６によってアンローディングカセット８に収納
（７て一連の処理を終了させる。なお、本実施例では、
４個のアンローティングカセット８を用意して、処理後
のプレートの保管も兼用させている。
置１０およびディスプレイ装置１１によって遠隔操作す
ることにより印字したのち、ふたたび搬送具７により移
送して自動現像装置４に入れる。ここで、現像、水洗処
理を行なったのち、搬送具７によりグレートを移送し、
ベーク炉に入れる。ここで必要時間ベーク（熱処理）を
行なったのち、搬送具７によってプレートを移送し、ア
ンローダ６によってアンローディングカセット８に収納
（７て一連の処理を終了させる。なお、本実施例では、
４個のアンローティングカセット８を用意して、処理後
のプレートの保管も兼用させている。
上述したように本発明によれば、所望のパターンが露光
された印字すべきフォトマスク（プレート）の供給から
印字作業、現像作業、ベーク作業を通して処理後のグレ
ートの収納までを一貫して人手によらず行なうことがで
きるものである。したがって、人手作業によるものとは
異なり、フォトマスクの汚染や外観不良がなく、傷がつ
いたり破損したりすることもない。そのため、この工程
での歩留まりや品質が改善でき、省力化と合理化が達成
できる。
された印字すべきフォトマスク（プレート）の供給から
印字作業、現像作業、ベーク作業を通して処理後のグレ
ートの収納までを一貫して人手によらず行なうことがで
きるものである。したがって、人手作業によるものとは
異なり、フォトマスクの汚染や外観不良がなく、傷がつ
いたり破損したりすることもない。そのため、この工程
での歩留まりや品質が改善でき、省力化と合理化が達成
できる。
本発明は、上述したような実施態様に限定されず種々の
態様とすることができる。
態様とすることができる。
図面は、本発明を実施する上で用いられるフォトマスク
用自動印字現像ベーク装置を示す概略斜視図である。 １・・・基台、２・・ローダ、３・・・自動印字装置、
４・・・自動現像装置、５・・・ベーク炉、６・・・ア
ンローダ、７・・・搬送具、８・・・アンローディング
カセット、９・・コントロールパネル、１ｏ・・キーボ
ード装置、１１・・・ディスプレイ装置、１２・・・ロ
ーディングカセット。
用自動印字現像ベーク装置を示す概略斜視図である。 １・・・基台、２・・ローダ、３・・・自動印字装置、
４・・・自動現像装置、５・・・ベーク炉、６・・・ア
ンローダ、７・・・搬送具、８・・・アンローディング
カセット、９・・コントロールパネル、１ｏ・・キーボ
ード装置、１１・・・ディスプレイ装置、１２・・・ロ
ーディングカセット。
Claims (1)
- １ 被処理体に微細なパターンを形成するための所望の
パターンを有するフォトマスクの形成方法であって、上
記所望のパターンが露光されたフォトマスクに印字処理
、現像、ベーク処理をその順番で自動的に行うことを特
徴とするフォトマスク形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58232710A JPS59130424A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | フオトマスク形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58232710A JPS59130424A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | フオトマスク形成方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15093776A Division JPS5375863A (en) | 1976-12-17 | 1976-12-17 | Sutomatic printing develop and baking devices for photo masks |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59130424A true JPS59130424A (ja) | 1984-07-27 |
Family
ID=16943563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58232710A Pending JPS59130424A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | フオトマスク形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59130424A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4939313A (ja) * | 1972-08-15 | 1974-04-12 | ||
| JPS5091273A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-21 | ||
| JPS5375863A (en) * | 1976-12-17 | 1978-07-05 | Hitachi Ltd | Sutomatic printing develop and baking devices for photo masks |
-
1983
- 1983-12-12 JP JP58232710A patent/JPS59130424A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4939313A (ja) * | 1972-08-15 | 1974-04-12 | ||
| JPS5091273A (ja) * | 1973-12-12 | 1975-07-21 | ||
| JPS5375863A (en) * | 1976-12-17 | 1978-07-05 | Hitachi Ltd | Sutomatic printing develop and baking devices for photo masks |
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