JPS59125642A - リ−ドレスチツプキヤリア - Google Patents
リ−ドレスチツプキヤリアInfo
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- JPS59125642A JPS59125642A JP31983A JP31983A JPS59125642A JP S59125642 A JPS59125642 A JP S59125642A JP 31983 A JP31983 A JP 31983A JP 31983 A JP31983 A JP 31983A JP S59125642 A JPS59125642 A JP S59125642A
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- JP
- Japan
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- chip
- substrate
- adhesive
- leads
- bonded
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16195—Flat cap [not enclosing an internal cavity]
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の属する技術分野
本発明はマルチチップパッケージに使用するリードレス
テップキャリアに関する。
テップキャリアに関する。
従来技術
従来のリードレスチップキャリアの代表例として198
1年6月にJ、W、5TAFFORDK、!:り「IE
EE・トランザクションズ・オン・コンポーネンツ、ハ
イプリッズ、アンド・マニュファクチャリング・チクノ
ロシイ(TRANsAcTIoNsONCOMPONE
NTS、HYBRIDS、ANDM、ANUFACTU
RINGTECHNOLOGY)VOLCHMT−2,
A2Jの第195−199頁に発表された論文[チップ
・キャリアズ−ゼア・アプリケーション・アンド・ツユ
−チャー・ディレクション(Chip Carrie
rs−Their Application an
dFuture 1)irection ) J 7%
ある。コノ論文ノ第7図の例を説明の便宜のため簡略「
ヒしで示す第1図を参照しな艇らこれ全詳述すると、こ
のリードレス@fツブ・キャリアは、サブストレート1
、このサブストレート1のキャビティ内に7エースアッ
プ状態で接着されたチップ2.このテップ2の端子5を
ワイヤボンディングにより接続したサブストレート1上
のポンディングパッド6および前記サブストレート1に
接着したカバー3から構成されている。このキャリアに
おけるICテップ2の端子5のそれぞれは、ポンディン
グパッド6からサブストレー)1内の配線全弁してサブ
ストレートlの側面に設けられt外部端子4のそれぞれ
に接続されている。
1年6月にJ、W、5TAFFORDK、!:り「IE
EE・トランザクションズ・オン・コンポーネンツ、ハ
イプリッズ、アンド・マニュファクチャリング・チクノ
ロシイ(TRANsAcTIoNsONCOMPONE
NTS、HYBRIDS、ANDM、ANUFACTU
RINGTECHNOLOGY)VOLCHMT−2,
A2Jの第195−199頁に発表された論文[チップ
・キャリアズ−ゼア・アプリケーション・アンド・ツユ
−チャー・ディレクション(Chip Carrie
rs−Their Application an
dFuture 1)irection ) J 7%
ある。コノ論文ノ第7図の例を説明の便宜のため簡略「
ヒしで示す第1図を参照しな艇らこれ全詳述すると、こ
のリードレス@fツブ・キャリアは、サブストレート1
、このサブストレート1のキャビティ内に7エースアッ
プ状態で接着されたチップ2.このテップ2の端子5を
ワイヤボンディングにより接続したサブストレート1上
のポンディングパッド6および前記サブストレート1に
接着したカバー3から構成されている。このキャリアに
おけるICテップ2の端子5のそれぞれは、ポンディン
グパッド6からサブストレー)1内の配線全弁してサブ
ストレートlの側面に設けられt外部端子4のそれぞれ
に接続されている。
このような構造では、以下に述べるような2つの欠点が
ある。
ある。
(1)サブストレート1の各辺から外部端子4全取ジ出
丁ためICチップ2の端子数が増加するにともない各辺
の外部端子4の数も増加する。この結果、1辺の長さが
増大しサブストレート1の形状が大きくなる。
丁ためICチップ2の端子数が増加するにともない各辺
の外部端子4の数も増加する。この結果、1辺の長さが
増大しサブストレート1の形状が大きくなる。
(2) このギヤ1クアでは、ICチップ2がサブス
トレート1に接着されているため、ICチップ2の発生
する熱の大部分はサブストレート1の底?伝わり、チッ
プキャリアの接続される母基板側ににげろことができる
。従ってICチップ2の集積度が上って発熱量が多くな
ると十分にチップ2を冷却できない。
トレート1に接着されているため、ICチップ2の発生
する熱の大部分はサブストレート1の底?伝わり、チッ
プキャリアの接続される母基板側ににげろことができる
。従ってICチップ2の集積度が上って発熱量が多くな
ると十分にチップ2を冷却できない。
発明の目的
本発明の目的は上述の欠点を除去するようにした超小型
のり一ドレステップキャリア全提供することにあろう 発明の構成 本発明のリードレステップキャリアは、サブストレート
と、ICチップの複数のリードを接続するよう前記サブ
ストレート表面に形成された複数のパッドと、前記サブ
ストレート表面に形成されかつ前記パッドのそれぞれに
接続された複数の接続配線と、前記サブストレート裏面
に形成されかつ他の基板と接続するよう格子状に配列さ
れた複数の端子パッドと、前記接続配線および前記端子
パッドをそれぞれ接続するよう前記サブストレート内部
に形成された複数のヴイアホール配線と金含むことを特
徴とする。
のり一ドレステップキャリア全提供することにあろう 発明の構成 本発明のリードレステップキャリアは、サブストレート
と、ICチップの複数のリードを接続するよう前記サブ
ストレート表面に形成された複数のパッドと、前記サブ
ストレート表面に形成されかつ前記パッドのそれぞれに
接続された複数の接続配線と、前記サブストレート裏面
に形成されかつ他の基板と接続するよう格子状に配列さ
れた複数の端子パッドと、前記接続配線および前記端子
パッドをそれぞれ接続するよう前記サブストレート内部
に形成された複数のヴイアホール配線と金含むことを特
徴とする。
発明の実施例
次に本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第2図から第4図を参照すると、本発明の一実施例は、
セラミックサブストレート7、ICチップ8、カバー9
、端子パッド10、ICリード11、ポンディングパッ
ド12、テップ端子13、カバー接着剤14、チップ接
着剤工5、ヴイアホール配線16、および接続配線17
から構成されている。
セラミックサブストレート7、ICチップ8、カバー9
、端子パッド10、ICリード11、ポンディングパッ
ド12、テップ端子13、カバー接着剤14、チップ接
着剤工5、ヴイアホール配線16、および接続配線17
から構成されている。
第4図を参照すると、前記セラミックサブストレート7
は、その表面にICの端子数と等しい複数個のポンディ
ングパッド12を備えている。これら複数のポンディン
グパッド12のそれぞれにICテップ8のI CI)−
ド11がボンディング接続されている。また、前記ポン
ディングパッド12のそれぞれには、セラミックサブス
トレート7の表面に形成された複数個の接続配線17の
それぞれが接続されている。さらに接続配線17のそれ
ぞれはセラミックサブストレート7内に形成されたグイ
アホール配線16のそれぞれを介してセラミックサブス
トレート7の裏面に形成された端子パッド10のそれぞ
れに接続されている。
は、その表面にICの端子数と等しい複数個のポンディ
ングパッド12を備えている。これら複数のポンディン
グパッド12のそれぞれにICテップ8のI CI)−
ド11がボンディング接続されている。また、前記ポン
ディングパッド12のそれぞれには、セラミックサブス
トレート7の表面に形成された複数個の接続配線17の
それぞれが接続されている。さらに接続配線17のそれ
ぞれはセラミックサブストレート7内に形成されたグイ
アホール配線16のそれぞれを介してセラミックサブス
トレート7の裏面に形成された端子パッド10のそれぞ
れに接続されている。
第2図から第6図を参照すると、ポンディングパッド1
2のそれぞれは接続配線17を介してグイアホール配線
16に接続され、さらにグイアホール配線16のそれぞ
れはサプス)L/−)7内を貫通して裏面の端子パッド
10のそれぞれに接続されている。
2のそれぞれは接続配線17を介してグイアホール配線
16に接続され、さらにグイアホール配線16のそれぞ
れはサプス)L/−)7内を貫通して裏面の端子パッド
10のそれぞれに接続されている。
以上の説明より明らかなように、ICチップ8の全端子
からの信号はサブストレート7の裏面の格子状に配列さ
れた外部接続用端子パッド10に供給される。従って多
数の端子を高密度に取り出すことが可能となっている。
からの信号はサブストレート7の裏面の格子状に配列さ
れた外部接続用端子パッド10に供給される。従って多
数の端子を高密度に取り出すことが可能となっている。
この端子の高密度配置を以下詳述する。
まず第1図を参照すると、従来のチップキャリアでは外
部端子4は、チップキャリアの4辺に配置されている。
部端子4は、チップキャリアの4辺に配置されている。
この結果、例えば、もし80ピンの端子を持つICチッ
プを収容し、かつ端子4の各々の間隔を1朋にとると、
サブストレート1のある。一般に、この程度のビン数を
もつICチップの寸法は、1辺が4〜5間で実現できる
から、ICチップの形状に比べて′チップキャリアの形
状は相当大きなものが必要となる。従って、チップキャ
リアとしてみた場合の端子密度は80ピン/20市×2
0朋=0.2ピン/Lイとなる。
プを収容し、かつ端子4の各々の間隔を1朋にとると、
サブストレート1のある。一般に、この程度のビン数を
もつICチップの寸法は、1辺が4〜5間で実現できる
から、ICチップの形状に比べて′チップキャリアの形
状は相当大きなものが必要となる。従って、チップキャ
リアとしてみた場合の端子密度は80ピン/20市×2
0朋=0.2ピン/Lイとなる。
これに対し本発明の第2図から第4図に示すチップキャ
リアでは、外部端子パッド10は格子状に配列されてい
る。この結果、もし、端子10の各々の間隔を従来と同
様にl II+mとしても、格子状配列の1辺の寸法は
(S780ヒンー1ビン)XIam = f3 rnm
となる。外側のパッドとサブストレートの縁との間隔を
両側で1.5 mmづつ取っても、サブストレートの1
辺の大きさは11朋にしかならない。端子密度は、80
ビン/l1mxx1.r關=0.66ビン/−となり、
従来のチップキャリアに比べて3倍以上高密度に端子を
形成することができる。
リアでは、外部端子パッド10は格子状に配列されてい
る。この結果、もし、端子10の各々の間隔を従来と同
様にl II+mとしても、格子状配列の1辺の寸法は
(S780ヒンー1ビン)XIam = f3 rnm
となる。外側のパッドとサブストレートの縁との間隔を
両側で1.5 mmづつ取っても、サブストレートの1
辺の大きさは11朋にしかならない。端子密度は、80
ビン/l1mxx1.r關=0.66ビン/−となり、
従来のチップキャリアに比べて3倍以上高密度に端子を
形成することができる。
第4図および第7図を参照すると、ICチップ8のリー
ド11の従来の形成方法では、ICテップがサブストレ
ート7上に固定された後に金ワイヤを用いてICチップ
のそれぞれの端子13およびサブストレートの端子パッ
ドのそれぞれが順次ボンディング接続される。しかし、
本発明のICチップ8のリード11は、あらかじめIC
チツフ゛8の端子13のそれぞれに接続されている。こ
のリード11は次のような工程で得られる。すなわち、
まず、写真の35朋フイルムと同じようなスプロケット
ホールを有するフィルム上に銅箔がは9つけられる。次
に、これがフ第1・リソグラフィーにより露光、現像、
およびエツチングされる。
ド11の従来の形成方法では、ICテップがサブストレ
ート7上に固定された後に金ワイヤを用いてICチップ
のそれぞれの端子13およびサブストレートの端子パッ
ドのそれぞれが順次ボンディング接続される。しかし、
本発明のICチップ8のリード11は、あらかじめIC
チツフ゛8の端子13のそれぞれに接続されている。こ
のリード11は次のような工程で得られる。すなわち、
まず、写真の35朋フイルムと同じようなスプロケット
ホールを有するフィルム上に銅箔がは9つけられる。次
に、これがフ第1・リソグラフィーにより露光、現像、
およびエツチングされる。
このようにして、フィルム上に一度に形成されたリード
11のそれぞれは、金メ・ツキを施された後、周知のT
A B (Tape Automated Bond
ing)技術によりICチップ8上の端子13のそれぞ
れに一括ボンデイング接続される。この後で、リード1
1のそれぞれを支えていたフィルムが切りはなされ、第
7図に示すようなTAB肝−ドつきのICチップが得ら
れる。
11のそれぞれは、金メ・ツキを施された後、周知のT
A B (Tape Automated Bond
ing)技術によりICチップ8上の端子13のそれぞ
れに一括ボンデイング接続される。この後で、リード1
1のそれぞれを支えていたフィルムが切りはなされ、第
7図に示すようなTAB肝−ドつきのICチップが得ら
れる。
第8図を参照すると、力/(−9の内部にはICテップ
8の本体を接着する之めの接着剤15があらかじめ塗付
されている。この接着剤には例えば、定められた温度1
50℃を30分間印加することにより固(ヒするような
熱伝導性のよい銀フィラー導電性エボキヅ系のような樹
脂接着剤が使用されている。
8の本体を接着する之めの接着剤15があらかじめ塗付
されている。この接着剤には例えば、定められた温度1
50℃を30分間印加することにより固(ヒするような
熱伝導性のよい銀フィラー導電性エボキヅ系のような樹
脂接着剤が使用されている。
さて、再び第2図から第4図を参照すると、本発明に係
るチップキャリアではICチップ801ノード11のそ
れぞれはセラミックサブストレート7上のそれぞれのポ
ンプイングツくラド12にボンディングされる。さらに
、ICテップ8本体は前記カバー9の内側に固着されて
いる。このような構造は以下に述べるような方法で製造
される。まず、セラミックサブストレート7上に、あら
かじめリード11の全てが接続され次上述のICチップ
8がフェースダウンの状態で置かれる。
るチップキャリアではICチップ801ノード11のそ
れぞれはセラミックサブストレート7上のそれぞれのポ
ンプイングツくラド12にボンディングされる。さらに
、ICテップ8本体は前記カバー9の内側に固着されて
いる。このような構造は以下に述べるような方法で製造
される。まず、セラミックサブストレート7上に、あら
かじめリード11の全てが接続され次上述のICチップ
8がフェースダウンの状態で置かれる。
次に、リード11のそれぞれとポンプイングツくラド1
2のそれぞれとの位置が合わせられる。
2のそれぞれとの位置が合わせられる。
さらに、I Cリード11のそれぞれとポンディングパ
ッド12とが一括ボンデイングされる。
ッド12とが一括ボンデイングされる。
このあと、カバー9がサブストレート7上のICチップ
8の実装面にかぶせられ、接着剤15とICチップ80
本体とが接触される。
8の実装面にかぶせられ、接着剤15とICチップ80
本体とが接触される。
次に、上述のように150℃の温度を一定時間、例えば
30分印加して、接着剤15を固〔ヒさせることにより
カバー9とICテップ8との接着が行なわれる。
30分印加して、接着剤15を固〔ヒさせることにより
カバー9とICテップ8との接着が行なわれる。
さらに、接着剤14がサブストレート7と力・く−9と
の接触面に注入され、90分間150℃の温度を維持し
て相互の接着が行なわれチップキャリアの組立が完了す
る。
の接触面に注入され、90分間150℃の温度を維持し
て相互の接着が行なわれチップキャリアの組立が完了す
る。
発明の効果
本発明には、リードレステップキャリアにおいて、サブ
ストレートの裏面に外部接続端子)々ラドを格子状に配
列し、かつICCタッグ体を熱伝導性の良好なカバー側
に接着した構造を取ることにより、多数の入出力端子を
もち発熱量の大きい超高集積(ヒICチップを超小型に
実装できるという効果がある。
ストレートの裏面に外部接続端子)々ラドを格子状に配
列し、かつICCタッグ体を熱伝導性の良好なカバー側
に接着した構造を取ることにより、多数の入出力端子を
もち発熱量の大きい超高集積(ヒICチップを超小型に
実装できるという効果がある。
第1図は従来のチップキャリアを示す図、第2図から第
4図は本発明の一実施例を示す図、第5図は本発明の一
実施例のサブストレート表面を示す図、第6図は第5図
のサブストレートの裏面を示す図、第7図は一実施例の
リード接続を示す図、および第8図は一実施例のカバー
を示す図である。 第1図から第8図において、7・・・・・・セラミック
サブストレート、8・・・・・・ICCタッグ9・・・
・・・カバー、10・・・・・・端子ハツト、11・・
・・・・ICリード、12・・・・・・ポンディングパ
ッド、13・・・・・・テップ端子、14・・・・・・
カバー接着剤、15・・・・・・チップ接着剤、16・
・・・・・グイアホール配線、17・・・・・・接続配
線口 療1防 年20 v′−3ワ ノ/ 第2ブ 第7図
4図は本発明の一実施例を示す図、第5図は本発明の一
実施例のサブストレート表面を示す図、第6図は第5図
のサブストレートの裏面を示す図、第7図は一実施例の
リード接続を示す図、および第8図は一実施例のカバー
を示す図である。 第1図から第8図において、7・・・・・・セラミック
サブストレート、8・・・・・・ICCタッグ9・・・
・・・カバー、10・・・・・・端子ハツト、11・・
・・・・ICリード、12・・・・・・ポンディングパ
ッド、13・・・・・・テップ端子、14・・・・・・
カバー接着剤、15・・・・・・チップ接着剤、16・
・・・・・グイアホール配線、17・・・・・・接続配
線口 療1防 年20 v′−3ワ ノ/ 第2ブ 第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 サブストレートと。 ICチップの複数のリード全接続するよう前記サブスト
レート表面に形成された複数のパッドと。 前記サブストレート表面に形成されかつ前記パッドのそ
れぞれに接続された複数の接続配線と、前記サブストレ
ート裏面に形成されかつ他の基板と接続するよう格子状
に配列された複数の端子パッドと。 前記接続配線および前記端子パッド全それぞれ接続する
よう前記サブストレート内部に形成された複数のグイア
ホール配線と全含むこと全特徴とするリードレスチップ
キャリア。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31983A JPS59125642A (ja) | 1983-01-05 | 1983-01-05 | リ−ドレスチツプキヤリア |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31983A JPS59125642A (ja) | 1983-01-05 | 1983-01-05 | リ−ドレスチツプキヤリア |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59125642A true JPS59125642A (ja) | 1984-07-20 |
Family
ID=11470584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31983A Pending JPS59125642A (ja) | 1983-01-05 | 1983-01-05 | リ−ドレスチツプキヤリア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59125642A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5712768A (en) * | 1992-12-30 | 1998-01-27 | Interconnect Systems, Inc. | Space-saving assemblies for connecting integrated circuits to circuit boards |
WO2000071921A2 (en) * | 1999-04-29 | 2000-11-30 | Unicap Electronics Inc. Corp. | Burrless castellation via process and product for plastic chip carrier |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57204154A (en) * | 1981-06-09 | 1982-12-14 | Nec Corp | Structure of chip carrier |
-
1983
- 1983-01-05 JP JP31983A patent/JPS59125642A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57204154A (en) * | 1981-06-09 | 1982-12-14 | Nec Corp | Structure of chip carrier |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5712768A (en) * | 1992-12-30 | 1998-01-27 | Interconnect Systems, Inc. | Space-saving assemblies for connecting integrated circuits to circuit boards |
WO2000071921A2 (en) * | 1999-04-29 | 2000-11-30 | Unicap Electronics Inc. Corp. | Burrless castellation via process and product for plastic chip carrier |
WO2000071921A3 (en) * | 1999-04-29 | 2001-08-09 | Unicap Electronics Inc Corp | Burrless castellation via process and product for plastic chip carrier |
US6675472B1 (en) | 1999-04-29 | 2004-01-13 | Unicap Electronics Industrial Corporation | Process and structure for manufacturing plastic chip carrier |
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