JPS59124045A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ｌ　発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。

先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。

このような光記録媒体のうち、暗室による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発罠なっている。

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その１例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うものがある。

そして、このよ５なヒツト形成型の媒体の１例として、
基体上に、光吸収色素からなる記録層を設層して、色素
を融解してンットを形成するものや、ニトロセルロース
等の自己酸化性化合物と光吸収色素とを含む記録層を設
層し、ニトロセルロース等を分解させてピットを形成す
るものや、熱可塑性樹脂と光吸収色素とからなる記録層
を塗設し、樹脂および色素を融解してピットを形成する
ものなどが知られている。

ところで、％に半導体レーザー等の長波長光用の色素と
して、カルボシアニン色素が知られている。

しかし、カルボシアニン色素、特にビニレン鎖の両端の
環として、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、
イミダゾール、ピリジン等をもつものを、単独または樹
脂と相溶して塗布して記録層を形成すると、塗布性が悪
く、反射永が低く、善き込み感度および読み出しのＳ／
Ｎ比が十分とれないという欠点がある。

■　発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、書き込み感度が高く、読み出しのＳ／Ｎ比の高い、上
記したようなカルボシアニン色素を用いた光記録媒体を
提供することを主たる目的とする。

とのよ）な目的は、以下の本発明によって達成される。

すなわち、本発明は、 基体上に、下記一般式（Ｉ）で示される色素からなるか
、この色素を含む組成物からなる記録層を有しくただし
、記録層中に、−重積酸素クエンチャーは含まれないも
のとする。）基体裏面側から、書き込みおよび読み出し
を行うように構成されたことを特徴とする光記録媒体で
ある。

式（Ｄ　　Φ−Ｌ＝Ｆ（Ｘ　）ｍ （上記式〔■〕中、Φおよび１は、それぞれ、芳香族環
が縮合してもよい千アヅール環、オキサゾール環、セレ
ナゾール環、イミダゾール環またはピリジン塩を表わす
。

ただし、ΦおよびＷの窒素原子には、炭素原子数４以上
の置換または非置換のアルキル基は結合しないものとす
る。

Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニン色素
を形成するための連結基を表わす。

Ｘ−は、陰イオンを表わし、ｍは０または１である。） なお、本発明者らは、この出願の先願において、上記の
よ）なカルボシアニン色素と、−重積酸素クエンチャー
とを言む記録層を用いると、記録光のくりかえし照射に
よる再生劣化と、室内光下での保存による保存劣化とが
減少する旨を提案しているので、本発明においては、−
重積酸素クエンチャーを含む場合を除外するものである
。

また、やはりこの出願の先願として、ΦまたはＷのＮ原
子に炭素原子数４以上のアルキル基を有するものを提案
しているので、これ・らも、本発明においては除外する
ものである。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の光記録媒体の記録層中には、色素が含有される
。

上記式［Ｉ）において、ＶおよびΦは、芳香族環、例え
ばベンゼン環、ナフタレン環、ツェナ／トレン環等が縮
合してもよい。

チアゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環、イミ
ダゾール環、ピリジン環等をあられす。

これらのおよびＷは、同一でも異なっていてもよいが、
通常は同一のものであり、これらの環には、種々の置換
基が結合していてもよい。　なお、Φは、環中の置素原
子か十蹴術をもち、Ｖは、環中の窒素原子が中性のもの
である。

これらのおよびＷの骨格環としては、下記の式〔ΦＩ〕
〜〔ΦＸ」で示されるもσ）であることが好ましい。

なお、下記においては、構造はΦの形で示される。

〔ΦＩ〕

Ｒ□ 〔Φ■〕 １ 〔Φ■〕 〔ΦＶ〕 く （」ｔＬ）。

〔Φ■〕

〔Φ■〕 ）ｔｌ 〔Φ■〕 〔Φ■〕 〔ΦＸ″１　　　　　Ｋ、 Ｒ□ このような各種環において、環中の窒素原子（イミダゾ
ール環では２個の輩索原子）（結合する基ｉｔ、（ｉｔ
□、　１１□′　）は、置換またしま非置換のアルキル
基また（１アＩ）−ル基である。

ただし・　１（１・Ｒ１′力ゝ置侠ま”たｋまＪト懺換
のアルギル基であるとき、炭素原子数は　４杉下である
。

なお、Ｒよ、　Ｒ□′がさらに置換基を有するものであ
る場合、置換基としては、スルホ／酸基、アルキルカル
ボニルオキシ基、アルキル−ｒミド基、アルキルスルホ
／アミド基、アルコキシオキシ基、アルキルアミノ基、
アルキルカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、
水酸基、ハロゲン原子等いずれであってもよい。

なお、後述のｍが０である場合、Φ中の窒素原子に結合
する基Ｒ□は、置換アルキルまたはアリール基であり、
かつ−電荷をもつ。

＝７方、Φおよびグで表わされる環中の所定の位置には
、さらに他の置換基−Ｒ４が結合していてもよい。　こ
のよへな置換基としては、アルキル基、アリール基、複
素環残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニル
オキシ基、カルボ／酸基等桟々の置換基であってよい。

　そして、これらの置換基の数（ｐ、　ｑ、　ｒ、　ｓ
、　ｔ）は、通常、０または１〜４程度とされる。　な
お、ｐ％ｑ、　ｒ、　ｓ、　ｔが２以Ｊであるとき、複
数のＩｔ、は互いに異なるもσ）であってよい。

他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式［Ｌ
Ｉ　］〜［ＬＶＩ［：］のいずれかであることが好まし
い。

式［ＬＩ］ ＣＨ＝　ＣＨ−ＣＨ＝　ＣＨ−Ｃ＝　ＣＨ−Ｃ旧ＣＨ−
ＣＨ式〔Ｌｖ〕 式（ＬＭ　’）　　Ｃｌ４＝ＣＩ−１−Ｃ＝ＣＨ−ＣＩ
−１番 式〔Ｌ■）　　ＣＨ−Ｃ＝ＣＩ−１−ＣＨ？ ここに、Ｙは、水素原子または１画の基を表わす。　こ
の場合、１価の基としては、メチル基等の低級アルキル
基、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ
基、ジンエニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基。

モルホリノ基、イミダゾリジン基、エトキシカルボニル
ピペラジン基などのジ置換アミン基、アセトキシ基等の
アルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基などの一γ
ルキルチオ基、シアン基、ニトロ基、　１３ｒ、　ＣＬ
等のハロゲン原子などであることが好ましい。

なお、これら式（ＬＩ　）〜〔Ｌ■〕の中では、トリカ
ルボシアニン連結基、符に式ＣＬ　Ｉｆ　、１１、（Ｌ
ｍ）が好ましい。

さらに、Ｘ−は陰イ゛オンでふり、その奸ましい例とし
ては、■−１Ｂｒ　　、　Ｃ６Ｏ，、ＢＦ、　　。

挙げることができる。

なお、ｍはｏｔたは１である力ζ、！ｎ　ｉＪ”　０で
あるときには、通常、Φのｌ（か−′醒荷をもち５分子
内塩となる。

次に、本発明の光吸収色素の具体例を挙げるが、本発明
はこれらのみに限定されるものではない。

オ）］　　　’　　［（Ｚｌｌ］　　　　　　Ｃ，Ｈ５
゜１）２　　　　　（Φｎ　）　　　　　　Ｃ２Ｈ６５
−Ｃｔ＋）３　　　　　ＣΦＬ〕Ｃ２１−１．５−ｏｃ
ｌ１５−　（１ｃ＋−＋３ １）４〔Φ■〕””　　　（５−ｏｅｔｉ−１，Ｊ５’
　　　　　［＋１　〕ｃ２Ｈ５−１）６〔ΦＩ）　　　
　　　Ｃ２日５−−　　　　　［Ｌ　ｎ　〕−）ｊ　　
　　　　　ＣｔＯ−ＣＬ　ｒｎ　］　　　Ｎ（Ｃ６Ｈワ
）２ＣｔＯｃｔｎ）　　　　　Ｈ（ −［Ｌ　ｌ　］　　　　　Ｈ１ ［Ｌｔｖ〕−、１ −［Ｌ　ＩＩ　］　　　　　Ｈ’　　　　　　　　　１
１）７〔ΦＩＩＩ　　　　　ＣＨ ２６□ Ｉ）８〔Φｎ＋　　　　　ｃＨ− １Ｊ９　　　　〔ψＩＩ）　　　　　ＣＨ−１）１０　
　　　　　〔Φ１１）　　　　　　　ｃ）（−Ｄｌｌ　
　　　［（＃ＩＩ〕Ｃ２ｌ−１５−ＩＪＩ　２　　　　
　　　Ｃｄ）　ＩＩＩ　〕（ＣＨ２）　２０ＣＯＣＨ，
−１）１３　　　　［Φｎ）　　　ＣＨＣＨＯ）Ｊ　　
　　　ｓ　−ｃｔ　　　　−１）１４　　　　　　　［
（１）ＩＶ］　　　　　　　Ｃ２Ｈ５−Ｌ）１５　　　
　［ｔＶ）　　　　Ｃ，Ｈ５−１）１６　　　　（（／
ＩＪＶ）　　　　Ｃ２Ｈ６−１Ｊ１７　　　　（ΦＶ’
）　　　　Ｃ２Ｈ５−１、）１８　　　　　　［＋／Ｊ
’Ｖ、］　　　　　　Ｃ２ｆ−１，−−２６４− 〔Ｌ　Ｉ　）　　　ＨＣｔＯ。

［Ｌ　ｌ　］　　　ＣＨ，、１ （ｔ、ｖ〕Ｈ。

［Ｌｖ　〕　　　　　Ｈ１ （ＬＷＩ　　　　−Ｉ （１−ｍ　］　　　Ｎ（ｃａＨｉ　）ｐ　　　　Ｃ６ｏ
４［Ｌｌｌ）　　　　）ｊ　　　　　　　　ＣｔＯ［Ｌ
　ｎ　’Ｊ　　　　ＨＣｌ０ （Ｌ　ＩＴ　）　　　　１４　　　　　　　　　Ｉ［Ｌ
　ＩＩＩ　］　　　　Ｎ５ＣＯＯＣ，，Ｈ５Ｃ１Ｏ［Ｌ
　＋＋＋　］　　　ｏ　Ｃｌ−１３１（ＬＩｌ〕Ｈ１ Ｄ１９〔ΦＶｌｌ　）　　　　　ＣＨＣＩＩ　０１１　
　　　　−Ｄ２０〔ΦＶｌｌ　〕Ｃ２Ｈ，，− Ｄ２】　　　　　　　　　　〔ΦＶｌｌ　　）　　　　
　　　　　　　　（ＣＨ２）、、ＵＣＩＪＣＨ３−−１
）２２　　　　　〔ｑ）〜市Ｅ　　　　　　Ｃ，１１，
−−１）２３　　　　　　　　　　　ＣΦ■　）　　　
　　　　　　　　　ＣＨ，，０口、ＣＨ９８０３ト１　
　　　　　−　　　　　　　　　　　−Ｄ２４〔ΦＶｆ
ｆｌ　］　　　　　　　ＣＪＩ５−　　　　−１Ｊ２５
　　　　　　　　　　　ＣΦＫ　　〕　　　　　　　　
　　　　　Ｃ２）Ｌ、、　　　　　　　　　　　　　　
　　　−−１）２６　　　　　（Φ■〕Ｃ１、Ｈ−−（
Ｌ　ＩＩ　」Ｈ（コｔｏ。

〔ＩＩロ　］　　　　　　　　　Ｈ１ ［ＬＩＩ）、　　　　　ｌ−１１ ［Ｌ　ｍ　］　　　Ｎ（Ｃ，、Ｈ，）２Ｃｔ（Ｊ４〔Ｌ
　　Ｉｌｌ　　）ｌ　　　　　　　　Ｎ（ｃ、、ト１．
）、■〔１月１　　’３　　　　　　　　　ｔ（Ｃｔす
。

ＣＬＩＴＪ　　　　　ＨＣｔ（Ｊ４ このような色素は、公知の方法に準じて合成することが
できる。

すなわち、まず対応す６　（ρ’−ＣＨ５（（Ｄ’は前
記のΦに対応する環を表わ・す。）を過剰のＲＩＩ　Ｃ
”ｘはアルキル基または了り−ル基）とともに加熱して
、Ｒ工をΦ′中の窒素原子に導入してΦ−ＣＨ５Ｉ−を
得る。″次いで、これを不飽和ジアルデヒドとアルカリ
触媒を用いて脱水縮合すればよい。

このような色素は、単独で記録層を形成することもでき
る。

あるいは樹脂とともに記録層を形成中る。

用いる樹脂としては、自己酸化性のもの。

あるいは熱可塑性樹脂が好適である。

記録層に官有される自己鹸化性の樹脂は。

昇温したとき、酸化的な分解を生じろものであるが、こ
れらの）ち、特に二Ｉ・ロセルロースが好適である。

また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した色素の昇温に
より、軟化するものであり、熱可塑性樹脂としては、公
知の棟々のものを用いることができる。

これらのうち、特に好適に用いることカーできる熱可塑
性樹脂には、以下のよへなものカーある。

ｉ）ポリオレフイ／ ポリエチレン、ポリ１０ビレ／、ポリ４−メチルペンテ
ン−１など。

ｉｉ）ポリオレフィン共重合体 例えばエチレン−酢酸ビニル共風合体、エチレン−アク
リレート共重合体、エチレ／−アクリル酸共重合体、エ
チレ／−７゛ロビレン共合体、エチレ／−ブテノ−１共
重合体、エチレン−無水マレイノ酸共重合体、エチレン
プロピレンターホリマ−（ＥＰ′ｒ）など。

この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。

ｉｉ）塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリルニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｉｖ）塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体、塩化ビニリ
ゾ／−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。

■）ポリスチレン ｖｉ）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリルニトリル共重合体（ＡＳ樹
脂）、スチレ／−アクリルニトリル−ブタジェン共重合
体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−無水マレイン酸共重合体
（ＳＭＡ４ｆｊＪ脂）、スチレン−アクリルエステルー
アクリルアミド共重合体、ス−ｆ−し７−ブタジェン共
重合体（ＳＢ）（）、スチレン−塩化ヒニリテン共重合
体、スチレン−メチルメタアクリレート共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｖｉｉ）スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、ｐ−）ｆルスチレン、２
，５−ジクロルスチレン、α、β−ビニルナフタレ／、
α−ビニルピリジ／、アセナフテン、ビニルアントラセ
ンなど、あるいはこれらの共重合体、例えハ、α−メチ
ルスチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体。

ｖｉｉ）クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデノ−スチレンの単独マたは共重合体。

ｉｘ）テルペン［ｎ・Ｉ力旨ブ、「いしピコライト例え
ば、α−ピネンかも得られるリモネ／の重合体であるテ
ルペン１ｍ　ＪＪｉ４やβ−ピネンかも得られるピコラ
イＩ・１、 Ｘ）アク１１ル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。

説 １（、。

着 −ｃｔｔ−ｃ− Ｃ：　−ＯＲ３゜ １ 上記式において、ｋ□。は、水素原子またはアルキル基
を表わし、Ｒｐｏは、ｔｌｆ換または非置換のアルキル
基を表わす。　この場合、上記式において、１１□。は
、水素原子または炭素原子数１〜４の低級アルキル基、
特に水素原子またはメ壬ル基であることが好ましい。　
また、Ｒ２ｏは、置換、非置換いスレのアルキル基であ
ってもよいが、アルキル基の炭素原子数は１〜４である
ことが好ましく、また１（２ｏが置換アルギル基である
ときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、〕
・ロゲン原子または−ｒミノ基（特にジアルキルアミノ
基）であることプ１１好ましい。

このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが１通常は、上記式で示される原子団
の１種または２種以上をくりかえし単位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。

ｘｉ）ポリアクリルニトリル 苅）アクリルニトリル共重合体 例えば、アクリルニド１１ルーＬ′１￥酸ビニル共重合
体、アク１１ルニト１１ル一塙化ヒニル共重合体、アク
リルニド１）ルースチレン共重合体、アクリルニトリル
−増化ビニリデン共重合体、アクリルニトリルーヒニル
ビリジン共重合体、アクリルニトリル−メタクリル醒メ
チル共重合体、アクリルニトリル−ブタジェン共重合体
、アク１１ルニトリルーアクリル酸ブチル共重合体など
、 この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｘｉｉ）ダイア七トンアクリルアミドホリマーアクリル
ニトリルにアセト／を作用させたタイアセトンアクリル
アミドポリマー。

ｉリボリ酢酸ビニル ｘｖ）酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリルｍｌエステル、ビニルエーテル、エチ
レン、塩化ビニル等との共重合体など。

共重合比は任意のものであってよい。

廟）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。

ｘｖｉ　）ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、ナイロン
６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２．ナイロン９、
ナイロン】１、ナイロン１２、ナイロン１３等の通常の
ホモナイロンの他、ナイロン６／６６／６１０、ナイロ
ン６／６６／１２、ナイロン６／６６／１１等の共重合
体や、場合によっては変性ナイロンであってもよい。

ｘｖｉｉ）ポリエステル 例えば、シュウ酸、コノ＼り酸、マレイン酸、τジγン
酸、セバステン酸等の脂肪族二基＃ｒ、あるいはイソフ
タル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の都合物や、共縮合物が好適である。　そして、これセ
のうちでは、特に脂肪族二基４酸とクリコール類との縮
合物や、クリコール類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は
、　ｔＦ！ｆに好適である。

さらに、例えば無水フタル酸とグリセ１１ンとの縮合物
であるクリプタル梱脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される
。

ｘｉｘ）ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルエールコールを、７セタール化して得られる
ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂は
いずれも好適に使用される。

この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。

ｘｘ）ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂 特に、クリコール類と、ジイソシアネートｓとの縮合に
よって得られるポリウレタンＭ（脂、就中アルキレンク
リコールとアルキレ／ジイソシアネートとの縮合によっ
て得られるポリウレタン樹脂が好適である。

ｘｘｉ）ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセクールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキナ
イドーエチレンオヤサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。

ｘｘｉｉ）セルロース銹導体 有機酸エステル、エーテルないしこれらの混合体。

ｘＸｉｉ）ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、ジオキシ
ジフェニルプロパノカーボネート等の各４’Ｊ１ホリヵ
ーボネ−ト。

ｘｘｉｖ　）上記ｉ）〜ｘＫｉｉｉ）の２棟以上のブレ
ンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。

なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の分子量等は独
々のものであってよい。

このよ）な自己酸化性化合物または熱可塑性樹脂と、前
記の色素とは、通常、Ｎ量比で１対０．１〜１００の広
範な量比にて設層される。

このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよく、その厚さは、０．２μｍ以下とすること
が好ましい。

これにより、基体裏面側からの書き込みおよび読み出し
の際の感度がきわめて高くなり、またＳ／Ｎ比が高くな
る。

なお、厚さが０．０５〜０．１μｍとなると、より一層
好ましい結果を５る。

なお、色素のみで記録層を形成するときには、蒸着、ス
パッタリング等によってもよい。

なお、このような記録層には、この他、他のポリマーな
いしオリゴマー、各棟ｏＪ塑剤、界面活性剤、帯電防止
剤、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤等が含有されていて
もよい。

なお、塗布′に用いる溶媒としては、例えばメナルエチ
ルケトン、メナルイソブナルケト／、シクロヘキサノン
等のケトン糸、酢酸フチル、　酢゛酸エチル、カルビト
−ルアヤテート、フ゛チルカルピトールアセアート等の
上ステル系、メチルセロンルブ、工千ルセロソルフ等の
エーテル系、ナいシトルエン、キシレン等ノ芳香族系、
ジクロロエタン等のハロクン化アルキル系などを用いれ
ばよい。

このような記録層を設層する基体の材質には特に制限は
なく、各種樹脂、カラス、セラミックス、金属等いずれ
であってもよい。

また、その形状は使用用途に応じ、テーフ＼ディスク、
ドラム、ベルト等いずれでル）つてもよい。

なお、基体は１通常、トラツキンク用の溝を有する。　
また、必要に応じ、反射層等の下地層や鋳熱層などを有
するものでル・つてもよい。

また、記録層上には、必要に応じ、透明基体を用いると
きに裏面として機能する反射層や、＠棟酸上層保一層、
ハーフミラ一層などを設けることもできる。

本発明の媒体は、このよ５な基体の一面上に上記の記録
層を有するものであってもよく、その両面に記録層を有
するものであってもよい。　また、基体の一面上に記録
層を塗設したものを２つ用い、それらを記録層が向かい
あうようにして、所定の間隙をもって対向させ、それを
密閉したりして、ホコリやキズがつかないようにするこ
ともできる。

■　発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ンｊいし回転下において、記録光
を、基体汲面側からハルス状に照射する。　このとき、
記録ノ台中の色層の発熱により、自己酸化性の側胎が分
ａｈ−するか、あるいは熱可塑性樹脂や、色素か融ｊψ
［し、ビットが形成される。

この場合、特に、トリフｆいしテトラカルボフッ３フ色
素を用いるときには、７５０．７８０．８３０　ｎｍの
波長の記録半導体レーサー、ターイオードなどを用いた
とき、きわめて良好な丼き込みを行５ことができる。

このように形成されたヒツトは、やはり媒体の走行ない
し回転下、上記のＶ長の指しみ出し光を基体裏面側から
照射して、その反射光を検出することにより読み出され
る。

なお、記録層に熱０工塑性４ｕｌ　Ｊｌ）］を用いると
きには、一旦記録層に形成したビットを元ないし熱で消
去し、書書き込みを行うこともできまた、記録ないし読
み出し光としては、Ｈｅ７−Ｎｅし一七一等を用いるこ
ともできる。

■　発明の具体的効果 本発明によれば、基体晟ｍ　ＩＲＩＩがら告ぎ込みおよ
び読み出しを行うので、書き込４感度および飢み出しの
Ｓ／Ｎ比はきわめて尚いものとなる。

本発明者らは、本発明の効果を雑誌するため種々実験を
行った。

以下にその１例を示す。

実施例 色素ＡＤ２０（イーストマン・コダック社製）およびＤ
２９、Ｄ４３（ともに日本感光色素研死所製）と、下記
表１に示される樹脂と−を用い、表１に示される量比に
て、所定の温媒中に溶解し、直径１５ｃｍのアクリルデ
ィスク基板上に、０．０７μ慣の厚さに塗亜設層して、
各種媒体を得た。

この場合１表１において、ＮＣは、窒素含！１１．５〜
１２．２％、ＪＩＳＫ６７０３にもとずく粘匿２０秒の
ニトロセルロースである。

また、ＣＩは、クマロン−イノテン樹脂（日鉄化学社製
Ｖ−１２０数平均分子量７３０）、ＮＹは、６，６−ナ
イロン（数平均分子量３万）、ＰＳは、ポリスチレン（
数平均分子鍬３万）をそれぞれ宍わす。

なお１表ＩＫは樹脂（Ｒ）／色素（１））の重量比が示
される。

このよへにして作成した各媒体につぎ、これをｔｓｏｏ
ｒｐｍで回転させながら、ＡｔＧａＡｓ−ＱａＡｓ半導
体レーザー記録光（８３０ｎｍ　）を１μ毒φに集光し
く集光部出力Ｉ　Ｑ　ｍＷ　）、パルス巾］ＱＱｎｓｅ
ｃ、所定周波数で、パルス列状に基体裏面側および記録
層表面側から照射して、書き込みを行った。

この後、］ｍＷの半導体レーザー（８３０ｎｍ　）読み
出し光をｌμｓｅｃ巾、３ＫＨｚのパルスとして、基体
裏面側および記録層表面側から照射して、反射光のピー
ク−ピーク間のＣ／Ｎ比を測定を−だ。

なお、衆１には、４０　ｄＢ以−ヒのＣ／Ｎ比が得られ
る書き込み光のパルス巾の逆Ｒが、書き込み感度として
併記される。

表１に示される結果から、本発明の効果があきらかでル
）る。

実施例 実験例】の媒体Ａ４〜７を用い、実験例１と同様に書き
込みを行ったのち、赤外酊ヒーターを用い、媒体を１５
０℃、１５秒間加熱して消去を行ったところ、各媒体と
も、くりかえし複数回の消去、再書き込みが良好にでき
ることが確認された。

出願人　東京゛亀気化学上栗株式会社 代理人　弁理士　石　井　陽　− 手＃、売補正占　（自発） 昭和５８年　２月　５日 １、本件の表示 昭和５７年特許願第２３４２４５号 ２、発明の名称 光記録媒体 ３、補正をする者 を件との関係　　　　　　　　特許出願人任　　所　　
　　東京都中央区日本橋−丁目１３番１号名　　称　　
　（３０６）　　東京電気化学工業株式会社代表者　素
野福次部 ４、代理人　　〒１７１ 住　　所　　　　東京都豊島区西池袋五丁目１７番１１
号矢部ビル１階　　電話　９８８−１６８０別紙のとお
り。ただし、明細書の浄書（内容に変更なし）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　　ｍ体上に、下記一般式ＣＩ）で示される色素か
   らなるか、この色素を含む組成物からなる記録層をｈし
   くただし、記録層中に、−重積酸素クエンチャーは含ま
   れないものとする。）基体裏面側から、書きこみおよび
   読み出しを行うように構成されたことを特徴とする光記
   録媒体。 式〔１〕 Φ−Ｌ＝ｖ（Ｘ−）ｆｆｌ （上記式ＣＩ’）中、Φおよび重は、それぞれ、芳香族
   環が縮合してもよいチアゾール環、オキサゾール環、セ
   レナゾール環、イミダゾール環またはピリジン環を表わ
   す。 ただし、Φおよび！の窒素原子には、炭素原子数４以上
   の置換または非置換のアルキル基は結合しないものとす
   る。 Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニン色素
   を形成するだめの連結基を表わす。 Ｘ−は、陰イオンを表わし、ｍはＯまたはｌである。） ２　　記録層が、色素と、自己醇化性または熱ｉｉＪ塑
   性の樹脂とを含む組成物からなる特許請求の範囲第１項
   に記載の光記録媒体。 ３　　記録層が塗布膜である特許請求の範囲第１項また
   は第２項に記載の光記録媒体。 ４、　記録層か０．２１Ｌｍ以下である特許請求の範囲
   第１項ないし第３項のいずれかに記載の光記録媒体。