JPS591213B2 - 「はつ」水シリカの製造方法 - Google Patents

「はつ」水シリカの製造方法

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JPS591213B2
JPS591213B2 JP8650279A JP8650279A JPS591213B2 JP S591213 B2 JPS591213 B2 JP S591213B2 JP 8650279 A JP8650279 A JP 8650279A JP 8650279 A JP8650279 A JP 8650279A JP S591213 B2 JPS591213 B2 JP S591213B2
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憲明 水谷
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Tokuyama Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は撥水シリカの製造方法に関する。
詳しくは水と溶媒相する有機溶媒の存在下に2鎖化珪素
を有機ハロゲン化珪素化合物と反応させる撥水シリカの
製造方法である。従来撥水シリカの製造方法は種々の技
術が提案されている。
例えば乾式法で得られた2酸化珪素を高温下で有機ハロ
ゲン化珪素化合物の蒸気と反応させる方法;四塩化炭素
、ベンゼン、トルエン等の有機溶媒中で乾燥した2酸化
珪素を有機ハロゲン化珪素化合物と反応させる方法等か
ある。しかしこれらの方法は吸湿性である2酸化珪素か
ら完全に水を除去する処理が必要で必ずしも満足出来る
技術とは云えない。即ぢ2酸化珪素から水を除去する手
段として高温処理、真空脱気処理等の複雑な処理工程を
行う必要があるはかりでなく、反応自身も複雑になるの
で工業的に安価に撥水シリカを得ることが出来ない欠陥
があつた。また湿式法で得られた2酸化珪素即ち含水珪
酸を含むスラリー溶液に有機ハロゲン化珪素化合物を加
え、濾過後300〜4000Cの高温下に加熱処理する
方法(特開昭51−14900)が提案されている。
しかし上記方法は高温で加熱処理することが必要である
はかりでなく、有機ハロゲン化珪素化合物のうちもつと
も安価に入手出来るトリメチルモノクロルシランを使用
出来ない欠陥がある。即ちトリメチルモノクロルシラン
に代表されるモノハロゲン化珪素化合物は水と作用して
他の有機ハロゲン化珪素化合物の様にポリマーとならず
沸点の低い二量体にしかなり得ない。したがつて反応生
成物を乾燥する間にその二量体は揮発し2酸化珪素中に
残存しない為上記方法で得られた2酸化珪素は撥水性を
得る事が出来なかつた。本発明者は前記撥水シリカの製
造技術の欠陥を補うべく鋭意研究を重ねて来た。その結
果特定の有機溶媒の存在下に2酸化珪素と有機ハロゲン
化珪素化合物を反応させれは、特に後処理として加熱処
理を必要とせす、また有機ハロゲン化珪素化合物の種類
の如何によらず撥水性の良好な撥水シリカを得ることが
出来ることを知見し本発明を完成させた。即ち本発明は
水と溶媒相する有機溶媒の存在下に2酸化珪素を有機ハ
ロゲン化珪素化合物と反応させる撥水シリカの製造方法
である。
本発明で用いる2酸化珪素はその製法の如何にかかわら
す使用出来る。
一般に2酸化珪素を工業的に製造する方法としては乾式
法と湿式法に区別される。該乾式法による2酸化珪素の
製法は四塩化珪素を空気と水素とともに高温下に処理し
、脱塩化水素することによつて製造する方法に代表され
る。また該湿式法による2酸化珪素の製法は珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム等の珪酸アルカリを硫酸、塩酸、硝
酸等の鉱酸で分解して製造する方法に代表される。該乾
式法と湿式法とによつて得られる2酸化珪素の差異は種
々あるが湿式法によつて得られる2酸化珪素は表面シラ
ノール基が乾式法のそれに比べると2〜3倍或いはそれ
以上に多い点である。本発明にあつては後述するが、有
機ハロゲン化珪素化合物を該シラノール基と反応させる
ことによつて2酸化珪素に撥水性を付与するものである
ので湿式法によつて得られる2酸化珪素に特に有効な手
段と言える。また本発明で用いる有機ハロゲン化珪素化
合物は撥水シリカの原料として公知のものが特に制限さ
れず使用出来る。
特に好適に使用される代表的な有機ハロゲン化珪素化合
物はトリアルキルモノハロゲン化シラン、ジアルキルジ
ハロゲン化シラン、モノアルキルトリハロゲン化シラン
等である。該アルキルとしては一般に低級アルキル特に
炭素原子数1〜4の脂肪族炭化水素残基が、またハロゲ
ンとしては塩素、臭素、ヨウ素等が好適である。就中ト
リメチルモノクロルシラン、ジメチルジクロルシラン、
モノメチルトリクロルシラン、トリエチルモノクロルシ
ラン、ジエチルジクロルシラン、モノエチルトリクロル
シラン等の低級アルキルクロルシラン類が安価にしかも
容易に入手出来るので好適である。更に本発明で用いる
有機溶媒は使用条件下に水と溶媒和するものであれは特
に制限なく使用出来る。
一般にはメタノール、エタノール、イソプロパノール、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコ
ール類;アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルケト
ン等のケトン類、メチルエチルアミン、ジエチルアミン
等のアミン類等が好適に使用出来る。特にメタノール、
エタノール、イソプロパノール等の安価なアルコール類
を用いると好適である。本発明の最大の特徴は前記2酸
化珪素を有機ハロゲン化珪素化合物との反応を水と溶媒
和する有機溶媒中で行う点である。
前記した如く有機ハロゲン化珪素化合物特にトリアルキ
ルモノクロルシランは水が存在すると縮合を起し、シラ
ノール基との反応はほとんど生起しない。これに対して
、前記有機溶媒が存在すると該縮合反応に優先してシラ
ノール基との反応が進行するのである。この知見は全く
驚異的な現象である。しカル前記有機溶媒のどのような
作用によつて上記現象が生起するのかその作用機構は現
在尚明確ではない。本発明者は有機溶媒中でのシラノー
ル基が活性化され水分がトリアルキルモノクロルシラン
の縮合反応に作用するより早くシラノール基とトリアル
キルモノクロルシランとの反応をひき起すのではないか
と推定している。勿論トリアルキルモノクロルシラン以
外の有機ハロゲン化珪素化合物にあつても同様にシラノ
ール基との反応性が良好である。前記説明から明らかな
如く本発明に於ける水と溶媒和する有機溶媒は該有機溶
媒中に水が含まれていても十分に本発明の効果を発揮す
る。従つて該有機溶媒として水分を含む粗製品を用いる
ことも出来る。即ち湿式法で得られる2酸化珪素所謂含
水珪酸、ホワイトカーボン、シリカゲルと称されるもの
は乾燥した製品だけでなく含水珪酸を製造する中間工程
で得られる含水珪酸ケーク、含水珪酸を含むスラリー溶
液を使用することも出来る。また前記本発明の処理を終
了した後撥水シリカを分離した溶液は本発明の有機溶媒
として再使用することも出来る。これらの利点は工業的
に大きなメリツトで本発明の完成は意義深いものと言え
る。しかしながら前記有機溶媒が極端に希釈された状態
になると有機ハロゲン化珪素化合物と水との反応を防ぐ
ことが出来ない場合もあるので一般には5%以上好まし
くは30%以上の有機溶媒を含む態様で使用するのが好
ましい。本発明に於ける原料の添加順序は特に限定され
ず必要に応じて適宜選択して実施すれはよい。
例えば有機溶媒中に2酸化珪素及び有機ハロゲン化珪素
化合物を同時に又は別々に添加して反応させてもよく、
予め有機溶媒と有機ハロゲン化珪素化合物とを混合して
おき2酸化珪素を添加反応させてもよい。工業的には反
応器に有機溶媒を存在させ、2酸化珪素と有機ハロゲン
化珪素化合物を供給する方法、上記方法で得られる撥水
シリカを濾布、遠心分離等で分離した後、分離母液に有
機ハロゲン化珪素化合物を添加し有機ハロゲン化珪素化
合物及び有機溶媒の濃度を調整して反応器に循環使用す
る方法等が好適に採用される。本発明に於ける2酸化珪
素と有機ハロゲン化珪素化合物との反応は2酸化珪素に
対する有機ハロゲン化珪素化合物(以下単に0HSと略
記する)のモル比即ち0HS/SiO2モル比が1.0
〜1.5の範囲で一般に飽和状態となり0HS/SiO
2モル比を上記以上に増加させてもそれ以上の反応はし
ない。
勿論上記数値は2酸化珪素の比表面積、2酸化珪素の表
面に存在するシラノール基の量0HSの種類等によつて
異なり一概に限定されるものではない。例えはトリメチ
ルモノクロルシランを用い、比表面積が300Tr1/
9の含水珪酸粉末で表面シラノール基量が8個/100
八2のものを用いると前記0HS/SiO2モル比が1
程度でほぼ反応が飽和される。従つて一般には0HSを
2酸化珪素に対してモル比で0.5以上好ましくは1.
0以上の範囲で反応させるのが好適である。また該0H
Sの2酸化珪素に対するモル比は濃度が高くても反応し
た撥水シリカを分離した母液を循環使用すれはよいので
必要に応じて適宜決定すれはよい。本発明に於ける2酸
化珪素と0HSとの反応条件は特に限定されず室温から
反応系の沸点まで広い範囲が採用出来る。
しかし反応温度が低くすぎると反応時間が長時間を必要
とするので一般には5『C〜反応系の沸点で、0.5〜
2時間反応させるのがもつとも好適である。また本発明
に於ける反応装置は特に限定されず公知の反応装置を必
要に応じて選択して用いれはよい。前記反応によつて得
られる撥水シリカは適当な手段例えは濾布による濾過、
遠心分離機等によつて分離したものを必要に応じて洗浄
、乾燥して製品とすればよい。
前記説明で明らかな如く本発明で得られる撥水シリカは
2酸化珪素のシラノール基と0HSとが化学的に反応し
0HSが2酸化珪素に強固に結合されて得られる。
従つて2酸化珪素に単に撥水剤をコーテイングしたもの
に比べると撥水性が著しく良好である。本発明を更に具
体的に説明するため以下実施例を挙げて説明するが本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
尚実施例における測定データーは次の方法によつて測定
したものである。(a)撥水性撥水シリカ0.59をピ
ストン形プレス成型器を用い2t0n/CrlLの荷重
をかけてプレス成型し直径20m7!L、厚み1〜2m
mの円形板状試験片を作る。
この試験片を接触角測定用とする。試験片上にマイクロ
注射器を用いて0.001CC程度の水滴を落としエル
マゴニオメータ式接触角測定器(パーキン・エルマ社製
)で接触角θを測定し、この接触角の値で撥水性を表示
した。尚接触角の測定は新実験化学講座18「界面とコ
ロイド]〔日本化学会、(株)丸善発行、(昭和52年
10月20日発行)〕の97頁「C.接触角の測定法」
によつた。(b)化学分析 (1)炭素分析 微量炭素分析装置(川崎製鉄株式会社製)により撥水シ
リカの含有する炭素量を分析した。
(11)残留塩素分析 AgCl沈澱滴定法により撥水シリカの含有する残留塩
素量の分析を行なつた。
尚、この測定は新分析化学講座7.「容量分析の応用」
〔日本分析化学会、共立出版株式会社発行〕の56頁8
.3A,.GayLussac法によつた。実施例 1 湿式沈澱法により製造された含水ケーク状2酸化珪素(
通称ホワイトカーボンの製造中間工程で得られる粗製品
(含水率87.5%、PH6.O、105℃24時間乾
燥後の粉末比表面積300イ/9のもの)を用いて以下
の方法により撥水シリカを製造した。
反応容器は環流器、ガラス製3枚羽根付攪拌装置、外部
加熱装置(Max.lkWのマントルヒーター)を装備
した200CC3口丸底フラスコを用いた。まず上記反
応容器内へイソプロパノール(以下1PAと略記する)
をはりこみ、更に上記含水ケーク状2酸化珪素809を
入れ、攪拌機により800rPInで攪拌し2酸化珪素
の均一スラリ一にする。
その後攪拌しながら、トリメチルモノクロルシラン(東
レシリコーン社製、B.p.58℃以下TMSと略記す
る)を投入し、マントルヒーターにより加熱を行なつて
スラリーの沸点である74℃まで昇温し、2時間リラツ
クスを行なつた。反応終了スラリーはブフナ一で(株)
東洋濾紙製Al).2濾紙を用いて吸引濾過した。濾別
された2酸化珪素を100CCの常温の1PAで洗浄し
て、反応副生成物のHC′の除去を行なつた。得られた
ケーク状2酸化珪素は時計皿へ受し、蒸気間接加熱式乾
燥器に入れ、105皿Cで24時間乾燥し、その後空気
中に24時間放置して冷却と水分調節を行ない、下記測
定用の試料とした。この撥水シリカの化学分析結果は含
有炭素量3.3%、残留塩素量0.014%であり、水
との接触角は1400で極めて良好な撥水性を示した。
実施例 2 実施例1に於て用いた1PAに変えて、実施例1に於て
2酸化珪素を濾別して得られた濾液を用いTMSの使用
量を5CCとした以外は実施例1と同様に反応及び操作
を行なつた。
得られた撥水シリカの化学分析結果は、炭素含有量3.
0%、残留塩素量0.014%であり、水との接触角は
130で極めて良好な撥水性を示した。実施例 3 実施例1に於いて用いたTMSに変えてジメチルジクロ
ルシラン(東レシリコン社製、B.p.7OクC)を用
いた以外は実施例1と同様に反応及び操作を行なつた。
その結果、得られた撥水シリカの化学分析結果は含有炭
素量4.0%、残留塩素量0.014%であり、水との
接触角は135塩で良好な撥水性を示した。実施例 4 実施例1に於ける含水ケーク状2酸化珪素に変えて下記
の性状を持つ湿式沈澱法で製法された含水珪酸微粉末(
通称ホワイトカーボン)を用いた。
上記含水珪酸微粉末159を1PA300CC中へ懸濁
させ、TMSlOCCをカロえ、2時間リブラックスを
行ない反応生成物を得た。その後は実施例1と同様の操
作を行ない撥水シリカを得た。得られた撥水シリカの化
学分析結果は含有炭素量3.3%、残留塩素量0.01
4%であり、水との接触角は140留で良好な撥水性を
示した。実施例 5 実施例1に於ける含水ケーク状2酸化珪素に変えて乾式
法で得られた2酸化珪素(商品名エアロジル200、日
本エアロジル社製)を用いた。
該2酸化珪素159を1PA300CC中へ懸濁させT
MSlOCC加えた後2時間リブラックスを行ない反応
生成物を得た。その後は実施例1と同様にして撥水シリ
カを得た。得られた撥水シリカの化学分析結果は含有炭
素量1.5%、残留塩素量0.001%であり、水との
接触角は125留で良好な撥水性を示した。
実施例 6 実施例1に於いて用いた1PAに変えてアセトンを用い
た以外は実施例1と同様に反応及び操作を行なつた。
その結果、得られた撥水シリカの化学分析結果は含有炭
素量2.8%、残留塩素量0.012%であり、水との
接触角は135量と極めて良好な撥水性を示した。実施
例 7 実施例1に於いて用いた1PAに変えてジエチルアミン
を用いた以外は、実施例1と同様に反応及び操作を行な
つた。
その結果、得られた撥水シリカの化学分析結果は含有炭
素量2.9(!)、残留塩素量0.010C11)であ
り、水との接触角は130、と良好な撥水性を示した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 水と溶媒和する有機溶媒の存在下に2酸化珪素を有
    機ハロゲン化珪素化合物と反応させることを特徴とする
    撥水シリカの製造方法。
JP8650279A 1979-07-10 1979-07-10 「はつ」水シリカの製造方法 Expired JPS591213B2 (ja)

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