JPS59108772A - オキサゾール誘導体 - Google Patents

オキサゾール誘導体

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JPS59108772A
JPS59108772A JP21882582A JP21882582A JPS59108772A JP S59108772 A JPS59108772 A JP S59108772A JP 21882582 A JP21882582 A JP 21882582A JP 21882582 A JP21882582 A JP 21882582A JP S59108772 A JPS59108772 A JP S59108772A
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lower alkyl
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oxazole
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JP21882582A
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Eiichi Fujita
藤田 榮一
Yoshimitsu Nagao
長尾 善光
Shozo Yamada
省三 山田
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Taiho Pharmaceutical Co Ltd
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Taiho Pharmaceutical Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記一般式(1)で表わされる新規なオキサゾ
ール誘導体及びその製造法に関する。
し式中、R1はアリール基、又は窒素原子を1若しくは
2個含有し置換基として低級アルキルし若しくは有しな
い5又は6員環の芳香族複素環基金、■尤2は低級アル
キル基金、4は0又は1若しくは2の整数を意味する。
〕 上記一般式中中、R1で表わされるアリール基としては
フェニル基,ナフチル基等を、又、窒素原子を1若しく
は2個含有する5又は6員環の芳香族複素環基としては
、ピラゾリル基,イミタ゛ノ’)ル基,ピリジル基等全
具体的に例示すること力・てきる。又、R,及びR2に
おける低級アルキルては炭素数1〜6のアルキル基、例
えばメチル。
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、  see
ーブチル,  tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル
基等の直鎖状又は分校状のアルキル基を示すこと力;で
きる。
本発明の一般式(1+で表わされる化合物は文献未記載
の新規化合物であり、し11えば抗菌、抗)〈クチリア
作用を有し医薬として有用な化合物である。
本発明化合物(1)はf+lJえば次に示す方法により
製造することができる。
〈A法〉 1式中、又はハロゲン原子を、・R2は前記意味を示す
。Jで表わされる化合物と、一般式 1式%([) 1式中、Mはアルカリ金属原子又は銀原子k、R。
は前記意味を、ITIはO又は2の整数を示す。jで表
わされる化合物を反応させる。
一般式((1)中、Xのハロゲン原子としては塩素。
臭素,ヨウ素原子を例示することができる。一般式()
1)で表わされる化合物は新規化合物であり、例えは下
記一般式(■で表わされる化合物にハロゲン化剤を反応
させて製造することができる。
1、式中、1(2は前記意味を示す。〕一般式叩の化合
物の製造法の詳細は後記参考例において詳述する。父、
一般式(1■)においてMで表わされるアルカリ金属原
子としてはリチウム、ナトリウム、カリウム等ヲレ11
示することがてきる。
化合物(IIおよび(I[l+の反応は好適には溶媒中
で行われる。溶媒としては反応に関−リしない限り特に
限定されないが、一般にテ1−ラハイド口フラン。
ジオキサン、ジメトキシメタン等のエーテル類。
ジメチルスルホキサイド、ジメチルホルムアミド等の非
プロトン性極性溶媒が挙げられる。化合物叩およびfi
ll)の使用割合は適宜選択すれば良く、一般的には化
合物叩に対し、化合物flllを1モル−2モル描量使
用するのが好ましい。反応温度も適宜決定されるが、通
常は一20°C−d媒の還流温度程度が好ましく、一般
に約1〜24時間程度で反応は十分に完結する。尚、反
応は18−クラウン−6等のクラウンエーテルを触媒量
添加することにより促進される。
く方法〉 一般式 1式中、R,及び■尤2は前記意味を示す。〕・で表わ
される化合物′f:It化剤と反応させることにより一
般式 [、式中、nは1又2の整数を、R1及び1(2d、前
記届、味を示す。〕で表わされる本発明化合物を製造で
きる。「酸化剤としては各種のものを1吏用てき、例え
ば過酢酸、過安息香酸2m−クロル過安息香酸。
過フタル酸等の過酸類、過酸化水素、オゾン、過酸化ベ
ンゾイル等の過酸化物、クロム酸、過マンガン酸カリウ
ム等の酸化金属類2次亜塩素酸すトリウム、メタ過ヨウ
素酸ナトリウム等の次亜/’tロゲン酸類等が挙げられ
る。本反応は好適にはm0中で行われる。溶媒としては
反応に関与しないものであれば特に限定されないが、水
、メタノール。
エタノール等のアルコール類、塩化メチレン等のハロゲ
ン化炭化水素類が使用される。酸化剤の使用割合は所望
する本発明化合物に応じて適宜に決定され限定的ではな
い。例えば一般式(1,/I)においてnが1であるス
ルホキサイド化合物を製造する際には、一般式ヤ)で表
わされる化合物に対し、通常等モル量前後用いるのがよ
く、所望により若干過剰針使用することもてきる。一方
、一般式■において!〕が2であるスルホン化合物を製
造する際には、酸化剤の使用割合は原料である一般式(
V)の化合物に対し、約2倍モル以上、通常約2〜3倍
モル量とするのが良い。
反応温度は適宜決定されるが、通常は一40°C〜溶媒
の沸点温度の範囲が好ましく、反応時間は一般に約1〜
24時間程度で十分である。
反応終了後、目的化合物は公知の方法、例えば抽出、再
結晶、カラムクロマトグラフィー等により容易に単離精
製することができる。
以下、本発明を参考例及び実施例により詳細に説明する
。又、表1には本発明化合物及びその物理化学的性質を
示す。尚、各実施例における化合物fii号d2表1に
記載する査号と一致するものである。
参:4しIJ 2−メチルオキサゾール−4−カルボン酸−t−ブチル
エステル7.32!;’、N−ブロモコハク0イミド1
0.68!?、過酸化ベンゾイル6Q m9 f、H四
塩化炭素200耐中に入れ、光照射下に4時間還流する
。冷接、不溶物を濾別し、濾液は水洗し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。四塩化炭素を留去して得られる残渣
ヲシリカゲルカラムクロマトグラフイーにて精製し、無
色油状の2−ブロモメチル−オキサゾール−4−カルボ
ン酸−七−ブチルエステル435yを得る。
沸点 115〜118°C/ 0.1 mm Hg’H
−NMR(1,00MHz、CDCl3 )δ: 1.
58  (9H,s、 −Coo−t−Bu )4.4
7  (2H,s、 −CH2−)8.14 (lH2
S、オキサゾール環5位プロトン)A/Is(M+) 
 261 CgH,□NO3B r  として計算値rn/e 2
61.000実測値rn/e 261.003 実7ii!i[2リ 1 50%水素化ナトリウム670mg、乾燥テI・ラハイ
ドロフラン27m1の懸濁液に、望素気流、水冷下に、
ベンゼンチオール1.43a+t’を滴下する。
同温で5分間撹拌後、2−ブロモメチル−オキサゾール
−4−カルボン酸−t−ブチルエステル3.33y、1
8−クラウン−6(100Ing) k乾燥テトラハイ
ドロフラン10m1に溶解した溶液全上記反応液に滴下
し、同温で更に1.5時間撹拌する。
テトラハイドロフランを留去し、残7f tジエチルエ
ーテルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、ジエチルエーテルを留去し、残Ut ’lcシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて18製し、得られた油
状物を石油エーテルよシ結晶化させ、この結晶とエーテ
ル−石油エーテルよI:> #lr結晶し、融点045
〜655°Cの無色微細針状結晶の2−フェニルチオメ
チル−オキサゾール−4−カルボン酸−t−ブチルエス
テル(化合物t):t、(zy(収率81%)を得た。
実施例2 表1に記載の化合物4及び7を得るべく原料を選んで、
他は実施例1と同様にして化合物4及び7を得た。
実施例3 ベンゼンスルフィン酸ナトリウム32yに、室温、窒素
気流下に1.2−ブロモメチル−オキサゾール−4−カ
ルボン酸−t−ブチルエステル21yおよび18−クラ
ウン−6(5011Z& )のアセトニトリル溶液20
肩tを滴下し8時間撹拌する。アセトニトリル2留去し
残iTh塩化メチレンで抽出し、無水硫酸すl・リウム
で乾燥する。塩化メチレンを留去し、残渣にエーテルを
加えて結晶を濾取し、エタノールよシ再結晶し、融点1
80〜181°Cの無色微細針状結晶の2−ベンゼンス
ルホニルメチル−オキサゾール−4−カルボン酸−1−
ブチルエステル(化合物3 )1.99y(収率76条
)を得た。
実施例4 化合物1(846mg)及び塩化メチレン7 tnlの
溶液に窒素気流下、氷冷し、70% m−クロロ過安息
香酸752mg  と塩化メチレン14m1の溶液を滴
下し、同温で;30分間撹拌する。不溶物を濾去し、濾
液は炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。乾燥後、塩化メチレンを留去し、得
られた残/lifシリカケルカラムクロマトグラフィー
にて精製し、得られた油状物をエーテルよす結晶化し、
エーテル−石油エーテルより再結晶し、融点129〜1
30°Cの微細板状晶の2−ベンゼンスルフィニルメチ
ル−オキサソール−4−カルボン酸−t−ブチルエステ
ル(化合物2 ) 743〜(収率83%)を得た。
実/l′iiJ例5 表1に記載の化合物5及び8を得るべく原料を選んで、
他は実h(M 1914と同様の方法により化合物5&
び8を青た。
実h1!lIりIJ 5 2−(ピリジル−2−チオメチル)−オキサゾール−4
−カルボン酸−t−ブチルエステル584mgをジクロ
ルメタン5 mlに溶解し、これを窒素気流下、氷冷し
、m−クロロ過安息香酸1.08y’tジクロルメタン
20 mlに溶解した溶液を滴下し、同温で:30分、
さらに室温で5時間撹拌する。不溶物を濾去し濾液全濃
縮する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにてオ青製し、エタノールより再結晶し、融点1
73−174°Cの無色微細針状晶の2−(α−ピリジ
ンスルボニルメチル)−オキサシーツl;−4−カルボ
ン酸−t−ブチルエステル(化合物6)447n1g(
収率69%)’を得た。
実施例7 表1に記載の化合物3及び9を得るべく原料を選んで、
他は実施例6と同様の方法により化合物X3及び9を得
た。
徳島県板野郡松茂町満穂開拓20

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 1式中、1t1はアリール基、又は窒素原子を1若しく
    は2個含准し置換基として低級アルキル基を有し若しく
    は有しない5又は6員環の芳香族複素環基金、Iぢは低
    級アルキル基を、lは0又は1若しくid2の整数を意
    味する。〕で表わされるオキサゾール誘導体。
  2. (2)一般式 1式中、Xはハロゲン原子ヲ、R2は低級アルキル基を
    意味する。lで表わされる化合物と、一般式1式%(0
    ) 0式中、R4は、アリール基、又は窒素原子を1若しく
    は2個含有し置換基として低級アルキル基を有し若しく
    は有しない5又は6員環の芳香族複素環基を、Mはアル
    カリ金属原子又は銀原子金、mは0又は2の整数を意味
    する。〕で表わされる化合物を反応させることを特徴と
    する一般式〔式中、R1、R2及びmは前記意味を示す
    。〕で表わされるオキサゾール誘導体の製造法。
  3. (3)一般式 〔1式中、R1はアリール基、又は蟹素原子金1若しく
    は2個含有し置換基として低級アルキル基を有し若しく
    は有しない5又は6員環の芳香族複素1.(基を、R2
    は低級アルキル基を意味する。jで表わされる化合物k
     +gz化剤と反応させることを特徴とする一般式 し式中、nは1又は2の整数を、R,およびR2は前記
    意味を示す。−1で表わされるオキサゾ−ル誘導体の製
    造法。
JP21882582A 1982-12-13 1982-12-13 オキサゾール誘導体 Granted JPS59108772A (ja)

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