JPH0466572A - N―アルキルピラゾール誘導体の製法 - Google Patents
N―アルキルピラゾール誘導体の製法Info
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- JPH0466572A JPH0466572A JP17422790A JP17422790A JPH0466572A JP H0466572 A JPH0466572 A JP H0466572A JP 17422790 A JP17422790 A JP 17422790A JP 17422790 A JP17422790 A JP 17422790A JP H0466572 A JPH0466572 A JP H0466572A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(III)
ル誘導体の
(式中、R2及びR3は同−又は異なっても良い低級ア
ルキル基を示す。) で表されるピラゾール類と一般式(II)RI−X(■
) (式中、R1は低級アルキル基を示し、Xはハロゲン原
子を示す。) で表されるアルキルハライド類を塩基の存在下に不活性
溶媒としてジメチルスルホキッド(DMSO)、ジオキ
サン、スルポラン、又は水及びDMSO、アルコール類
、ジオキサン若しくはスルホランから選ばれる溶媒との
混合物中で反応させることを特徴とする一般式(1)(
式中、R1,R2及びR3は前記に同じ。)で表される
N−アルキルピラゾール誘導体の製造方法に関するもの
である。
ルキル基を示す。) で表されるピラゾール類と一般式(II)RI−X(■
) (式中、R1は低級アルキル基を示し、Xはハロゲン原
子を示す。) で表されるアルキルハライド類を塩基の存在下に不活性
溶媒としてジメチルスルホキッド(DMSO)、ジオキ
サン、スルポラン、又は水及びDMSO、アルコール類
、ジオキサン若しくはスルホランから選ばれる溶媒との
混合物中で反応させることを特徴とする一般式(1)(
式中、R1,R2及びR3は前記に同じ。)で表される
N−アルキルピラゾール誘導体の製造方法に関するもの
である。
本発明の製造方法による一般式(1)で表されるN−ア
ルキルピラゾール誘導体は、医薬、農薬、化学品等を製
造する際の原料又は中間体として有用な化合物である。
ルキルピラゾール誘導体は、医薬、農薬、化学品等を製
造する際の原料又は中間体として有用な化合物である。
一般式(I)で表されるN−アルキルピラツル誘導体の
製造方法としては、例えばJournal fur P
raktischa Chemie 110 、 P2
35−263(1925)に本発明と類似の製造方法が
開示されている。
製造方法としては、例えばJournal fur P
raktischa Chemie 110 、 P2
35−263(1925)に本発明と類似の製造方法が
開示されている。
しかし、本発明晋等は高収率で更に経済的に一般式(1
)で表されるN−アルキルビラツル誘導体を得ることが
できる製造方法を開発すべく、鋭意研究を重ねた結果、
特定の不活性溶媒を選択することによりアルキル化剤で
ある一般式(II)で表されるアルキルハライド及び塩
基の使用量を少なくすることができ、且つ高収率で目的
物が得られることを見出し2、本発明を完成さセたもの
である。
)で表されるN−アルキルビラツル誘導体を得ることが
できる製造方法を開発すべく、鋭意研究を重ねた結果、
特定の不活性溶媒を選択することによりアルキル化剤で
ある一般式(II)で表されるアルキルハライド及び塩
基の使用量を少なくすることができ、且つ高収率で目的
物が得られることを見出し2、本発明を完成さセたもの
である。
本発明の一般式(1)で表されるN−アルキルピラゾー
ル誘導体の製造方法を、例えば図式的に示すと下記の通
り示すことができる。
ル誘導体の製造方法を、例えば図式的に示すと下記の通
り示すことができる。
I(不活性溶媒 RI
(III) (1)(式中
、R1,R2及びR3は同−又は異なっても良い低級ア
ルキル基を示す。) 即ち、−船人(II[)で表されるピラゾール類と一般
式(II)で表されるアルキルハライド類を塩基の存在
下に不活性溶媒としてDMSO17;オキサン、スルホ
ラン、又は水及びDMSO、アルコール類、ジオキサン
若しくはスルホランとの混合物中で反応させることによ
り一般式(+)で表されるN−アルキルピラゾール誘導
体を製造することができる。
、R1,R2及びR3は同−又は異なっても良い低級ア
ルキル基を示す。) 即ち、−船人(II[)で表されるピラゾール類と一般
式(II)で表されるアルキルハライド類を塩基の存在
下に不活性溶媒としてDMSO17;オキサン、スルホ
ラン、又は水及びDMSO、アルコール類、ジオキサン
若しくはスルホランとの混合物中で反応させることによ
り一般式(+)で表されるN−アルキルピラゾール誘導
体を製造することができる。
本発明で使用する不活性溶媒はDMSO、ジオキサン又
はスルホランを単独で使用するか、水及びDMSO、ア
ルコール類、ジオキサン若しくはスルホランとを混合し
て使用すれば良く、アルコール類としては水と相溶性を
有するアルコ−ル類、例エバメチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール等の脂肪族低級アルコール類を使用することができ
、好ましくはイソプロピルアルコールを使用するのが良
い。
はスルホランを単独で使用するか、水及びDMSO、ア
ルコール類、ジオキサン若しくはスルホランとを混合し
て使用すれば良く、アルコール類としては水と相溶性を
有するアルコ−ル類、例エバメチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール等の脂肪族低級アルコール類を使用することができ
、好ましくはイソプロピルアルコールを使用するのが良
い。
水とDMSO、アルコール類、ジオキサン又はスルホラ
ンは任意の混合割合で使用すれば良く、予め混合して使
用しても良く、別々に添加しても良く、水は使用する塩
基を熔解させるだめの水として使用しても良い。
ンは任意の混合割合で使用すれば良く、予め混合して使
用しても良く、別々に添加しても良く、水は使用する塩
基を熔解させるだめの水として使用しても良い。
FG ’K (11)で表されるアルキルハライド類の
使用量は一般式(III)で表されるピラゾ=ル類に対
して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば
良く、好ましくは不活性溶媒としてDMSO、ジオキサ
ン又はスルホランを単独で使用する場合は1.1〜1.
2倍モルを、DMSO,アルコール類、ジオキサン又は
スルホランを水と混合して使用する場合は1.2〜1.
3倍モルのアルキルハライドを使用するのが良い。
使用量は一般式(III)で表されるピラゾ=ル類に対
して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば
良く、好ましくは不活性溶媒としてDMSO、ジオキサ
ン又はスルホランを単独で使用する場合は1.1〜1.
2倍モルを、DMSO,アルコール類、ジオキサン又は
スルホランを水と混合して使用する場合は1.2〜1.
3倍モルのアルキルハライドを使用するのが良い。
本発明で使用できる塩基としては、例えばナトリウム、
カリウム等のアルカリ金属類又はカルシウム、マグネシ
ウム等のアルカリ土類金属類の水酸化物、水素化物又は
アルコラード類を使用することができる。
カリウム等のアルカリ金属類又はカルシウム、マグネシ
ウム等のアルカリ土類金属類の水酸化物、水素化物又は
アルコラード類を使用することができる。
塩基の使用量は、−船人(I[I)で表されるピラゾー
ル類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択すれば
良く、好ましくは等モル乃至1.5倍モルの範囲で使用
すれば良い。
ル類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択すれば
良く、好ましくは等モル乃至1.5倍モルの範囲で使用
すれば良い。
本反応は等モル反応であるので一般式(II)で表され
るアルキルハライド類及び−船人(III)で表される
ピラゾール類を等モル使用すれば良いが、何れかを過剰
に使用することもできる。
るアルキルハライド類及び−船人(III)で表される
ピラゾール類を等モル使用すれば良いが、何れかを過剰
に使用することもできる。
反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選
択すれば良く、好ましくはDMSO、ジオキサン又はス
ルホランを単独で不活性溶媒として使用する場合は室温
付近で、水とDMSO、ジオキサン又はスルホランとの
混合溶媒として使用する場合は室温乃至加温下で、水と
アルコール類との混合溶媒として使用する場合は沸点付
近で行うのが良い。
択すれば良く、好ましくはDMSO、ジオキサン又はス
ルホランを単独で不活性溶媒として使用する場合は室温
付近で、水とDMSO、ジオキサン又はスルホランとの
混合溶媒として使用する場合は室温乃至加温下で、水と
アルコール類との混合溶媒として使用する場合は沸点付
近で行うのが良い。
反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが、数
分乃至60時間程度の範囲である。
分乃至60時間程度の範囲である。
反応終了後、常法により目的物を単離し、必要に応して
精製を行うことにより目的物を製造することができる。
精製を行うことにより目的物を製造することができる。
本発明の製造方法による一般式(1)で表されるN−ア
ルキルピラゾール誘導体は、下記に図示する特開昭63
−267762号公報に開示された方法によりホルミル
化し、例えば除草剤、殺虫剤の中間体とすることもでき
る。
ルキルピラゾール誘導体は、下記に図示する特開昭63
−267762号公報に開示された方法によりホルミル
化し、例えば除草剤、殺虫剤の中間体とすることもでき
る。
R’ POCl3
R(I) (
A)(式中、R’、R”及びR3↓ま前記に同じ。)即
ち、−船人(1)で表されるN−アルキルピラゾール誘
導体を、31 N−アルキルピラゾール誘導体に対して
1.3乃至1.6倍モルのオキシ塩化リンの存在下にN
、N−ジメチルホルムアミドと反応させることにより一
般式(A)で表されるホルミルピラゾール誘導体を製造
することができる。
R(I) (
A)(式中、R’、R”及びR3↓ま前記に同じ。)即
ち、−船人(1)で表されるN−アルキルピラゾール誘
導体を、31 N−アルキルピラゾール誘導体に対して
1.3乃至1.6倍モルのオキシ塩化リンの存在下にN
、N−ジメチルホルムアミドと反応させることにより一
般式(A)で表されるホルミルピラゾール誘導体を製造
することができる。
以下に本発明の製法による一般式(1)で表されるN−
アルキルピラゾール誘導体の代表的な実施例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
アルキルピラゾール誘導体の代表的な実施例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1.LH−3,5−ジメチル−1−プロピルピラ
ゾールの製造 IH−3,5−ジメチルピラゾール5og(0,69モ
ル)をイソプロピルアルコール50mに溶解し、水60
m1に水酸化ナトリウム27.6g (0,52モル)
を溶解した水溶液を加えた溶液にn−プロピルブロミF
79.9g(0,65モル)を加え、16時間加熱還流
下に反応を行った。
ゾールの製造 IH−3,5−ジメチルピラゾール5og(0,69モ
ル)をイソプロピルアルコール50mに溶解し、水60
m1に水酸化ナトリウム27.6g (0,52モル)
を溶解した水溶液を加えた溶液にn−プロピルブロミF
79.9g(0,65モル)を加え、16時間加熱還流
下に反応を行った。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、目的物をエーテ
ル(200mx3)で抽出し、エチル層を飽和食塩水(
200mux2)で洗浄し、無水g酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を常圧下に留去した。
ル(200mx3)で抽出し、エチル層を飽和食塩水(
200mux2)で洗浄し、無水g酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を常圧下に留去した。
得られた油状物を更に減圧蒸留することにより、目的物
66.0gを得た。
66.0gを得た。
沸点 89°C(28mm/Hg) 、収率 92%1
N−3,5−ジメチルピラゾール9.6g(0,10モ
ル)をジメチルスルホキシド30m2に溶解し、水酸化
カリウム粉末6.16g(0,11モル)とn−プロピ
ルプロミド13.53g(0,11モル)を加え、室温
で12時間反応を行った。
N−3,5−ジメチルピラゾール9.6g(0,10モ
ル)をジメチルスルホキシド30m2に溶解し、水酸化
カリウム粉末6.16g(0,11モル)とn−プロピ
ルプロミド13.53g(0,11モル)を加え、室温
で12時間反応を行った。
反応終了後、反応液に飽和食塩水150滅を加え、目的
物をエルチル(100mj!X2)で抽出し、エーテル
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を常圧下に留去
した。
物をエルチル(100mj!X2)で抽出し、エーテル
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を常圧下に留去
した。
得られた油状物を更に減圧蒸留することにより、目的物
14.12gを得た。
14.12gを得た。
沸点 89°C(28mm/ Hg) 、収率 93%
実施例2.1 F−I−3,5−ジメチル−1−イソブ
チルピラゾールの製造 LH−3,5−ジメチルピラゾール29.8g(0,3
1モル)をイソプロピルアルコール30mに溶解し、水
35dに水酸化ナトリウム16.4g (0,41モル
)を溶解した水溶液を加えた溶液にi−ブチルプロミド
53.5g(0,39モル)を加え、48時間加熱還流
下に反応を行った。
実施例2.1 F−I−3,5−ジメチル−1−イソブ
チルピラゾールの製造 LH−3,5−ジメチルピラゾール29.8g(0,3
1モル)をイソプロピルアルコール30mに溶解し、水
35dに水酸化ナトリウム16.4g (0,41モル
)を溶解した水溶液を加えた溶液にi−ブチルプロミド
53.5g(0,39モル)を加え、48時間加熱還流
下に反応を行った。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、目的物をエーテ
ル(150dX3)で抽出し、ユテル層を飽和食塩水(
150dX2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を常圧下るこ留去した。
ル(150dX3)で抽出し、ユテル層を飽和食塩水(
150dX2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を常圧下るこ留去した。
得られた油状物を更に減圧蒸留することにより、目的物
38.0gを得た。
38.0gを得た。
沸点 98°C(28mm/ Hg) 、収率 80%
参考例1.II(−4−ポルミル−35−ジメチル−1
−プロピルピラソールのH造 C3H,−n ’
Cd5−n乾燥したDMF23.3g (0,32モル
)にオキシ塩化リン49.0g (0,32モル)を2
0〜25°Cで攪拌下に徐々に滴下し、滴下終了後、同
温度で更に30分間攪拌を行った。
参考例1.II(−4−ポルミル−35−ジメチル−1
−プロピルピラソールのH造 C3H,−n ’
Cd5−n乾燥したDMF23.3g (0,32モル
)にオキシ塩化リン49.0g (0,32モル)を2
0〜25°Cで攪拌下に徐々に滴下し、滴下終了後、同
温度で更に30分間攪拌を行った。
次いで11(−3,5−ジメチル−1−プロピルピラソ
ール29.4g (0,21モル)を加えて溶解させた
後、75〜80°Cで加熱した。
ール29.4g (0,21モル)を加えて溶解させた
後、75〜80°Cで加熱した。
反応液の温度が100°Cになり、塩化水素ガスを放出
した後、同温度で5時間反応を行った。
した後、同温度で5時間反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、更に氷冷し7た反応液を
氷水300 ml中に注ぎ、濃水酸化ナトリウム水溶液
で中和し、酢酸エチル(200ml×3〕で目的物を抽
出した。酢酸エチル層を無水硫酸すトリウムで乾燥後減
圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)tこより精製す
ることにより目的物32.4gを得た。
氷水300 ml中に注ぎ、濃水酸化ナトリウム水溶液
で中和し、酢酸エチル(200ml×3〕で目的物を抽
出した。酢酸エチル層を無水硫酸すトリウムで乾燥後減
圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル)tこより精製す
ることにより目的物32.4gを得た。
収率 92%
IH−へ°?LR(δ値、 TMS/CDCl3.pp
m)0.89(3H,t、J=7.5Hz)、 1
.80(2H,m、J=7.5112゜)、 2.4
0(3H,s)、 2.47(3H,s)、 3.
91(28,q、J=7.5Hz)、 9.86(LH
,s)ばか2名 平成3年5月14日
m)0.89(3H,t、J=7.5Hz)、 1
.80(2H,m、J=7.5112゜)、 2.4
0(3H,s)、 2.47(3H,s)、 3.
91(28,q、J=7.5Hz)、 9.86(LH
,s)ばか2名 平成3年5月14日
Claims (4)
- (1)、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^2及びR^3は同一又は異なっても良い低
級アルキル基を示す。) で表されるピラゾール類と一般式(II) R^1−X(II) (式中、R^1は低級アルキル基を示し、Xはハロゲン
原子を示す。) で表されるアルキルハライド類を塩基の存在下に不活性
溶媒としてジメチルスルホキシド、ジオキサン、スルホ
ラン、又は水及びジメチルスルホキシド、アルコール類
、ジオキサン、スルホランとの混合物中で反応させるこ
とを特徴とする一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1、R^2及びR^3は前記に同じ。)で
表されるN−アルキルピラゾール誘導体の製造方法。 - (2)、一般式(II)で表されるアルキルハライド類を
一般式(III)で表されるピラゾール類に対して等モル
乃至1.5倍モル使用することを特徴とする請求項第1
項記載のN−アルキルピラゾール誘導体の製造方法。 - (3)、塩基を一般式(III)で表されるピラゾール類
に対して等モル乃至1.5倍モル使用することを特徴と
する請求項第1項記載のN−アルキルピラゾール誘導体
の製造方法。 - (4)、不活性溶媒としてのアルコール類がイソプロピ
ルアルコールであることを特徴とする請求項第1項記載
のN−アルキルピラゾール誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2174227A JP2984848B2 (ja) | 1990-06-30 | 1990-06-30 | N―アルキルピラゾール誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2174227A JP2984848B2 (ja) | 1990-06-30 | 1990-06-30 | N―アルキルピラゾール誘導体の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0466572A true JPH0466572A (ja) | 1992-03-02 |
JP2984848B2 JP2984848B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=15974949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2174227A Expired - Fee Related JP2984848B2 (ja) | 1990-06-30 | 1990-06-30 | N―アルキルピラゾール誘導体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2984848B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9034164B2 (en) | 2010-08-31 | 2015-05-19 | Horiba, Ltd. | Particle characterization cell and particle characterization instrument |
-
1990
- 1990-06-30 JP JP2174227A patent/JP2984848B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9034164B2 (en) | 2010-08-31 | 2015-05-19 | Horiba, Ltd. | Particle characterization cell and particle characterization instrument |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2984848B2 (ja) | 1999-11-29 |
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