JPH07247263A - メチルチオベンゼン類の製造方法 - Google Patents
メチルチオベンゼン類の製造方法Info
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- JPH07247263A JPH07247263A JP6066653A JP6665394A JPH07247263A JP H07247263 A JPH07247263 A JP H07247263A JP 6066653 A JP6066653 A JP 6066653A JP 6665394 A JP6665394 A JP 6665394A JP H07247263 A JPH07247263 A JP H07247263A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 式〔Ｉ−１〕等で表わされる化合物とメチル
メルカプタンと反応させ、式〔II−１〕等で表わされる
ジチオケタール化合物を得、このジチオケタール化合物
を、キノン類又はジメチルスルホキシド及びイオウの存
在下に脱水素及び脱スルフェニル化することを特徴とす
る式〔III−１〕等で表わされるメチルチオベンゼン類
の製造方法。 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＲ5 は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基等を示
す。） 【効果】 製造方法は出発原料のシクロヘキセノン化合
物の二重結合の位置によらず目的のメチルチオベンゼン
類が製造できるため、位置選択的なメチルチオベンゼン
類の製法として有用である。
メルカプタンと反応させ、式〔II−１〕等で表わされる
ジチオケタール化合物を得、このジチオケタール化合物
を、キノン類又はジメチルスルホキシド及びイオウの存
在下に脱水素及び脱スルフェニル化することを特徴とす
る式〔III−１〕等で表わされるメチルチオベンゼン類
の製造方法。 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＲ5 は水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基等を示
す。） 【効果】 製造方法は出発原料のシクロヘキセノン化合
物の二重結合の位置によらず目的のメチルチオベンゼン
類が製造できるため、位置選択的なメチルチオベンゼン
類の製法として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は農医薬、特に除草剤の中
間体として有用なメチルチオベンゼン類の製造方法に関
する。
間体として有用なメチルチオベンゼン類の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、スルフェニルベンゼン類の製造法
としては、ニトロベンゼンを還元後、ジアゾ化、ジアゾ
ニウム塩を経由して合成する方法が一般的であった。し
かし、ベンゼン環へのニトロ化反応の位置選択性が乏し
いことやジアゾニウム塩が不安定であることから、この
方法の工業化は困難である。そのため、位置選択的なス
ルフェニルベンゼン類の容易な製造法が望まれている。
としては、ニトロベンゼンを還元後、ジアゾ化、ジアゾ
ニウム塩を経由して合成する方法が一般的であった。し
かし、ベンゼン環へのニトロ化反応の位置選択性が乏し
いことやジアゾニウム塩が不安定であることから、この
方法の工業化は困難である。そのため、位置選択的なス
ルフェニルベンゼン類の容易な製造法が望まれている。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは置換ベンゼ
ン類へスルフェニル基を位置選択的に導入するための工
業的手法の開発を目的に鋭意研究した結果、シクロヘキ
セノン誘導体を出発原料にする製造方法を見い出した。
即ち、本発明は、一般式〔Ｉ−１〕
ン類へスルフェニル基を位置選択的に導入するための工
業的手法の開発を目的に鋭意研究した結果、シクロヘキ
セノン誘導体を出発原料にする製造方法を見い出した。
即ち、本発明は、一般式〔Ｉ−１〕
【化７】 又は一般式〔Ｉ−２〕
【化８】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ
基、フェニル基又はＲ1 とＲ2 が一緒になってその環中
にヘテロ原子を含んでいてもよい環を、Ｒ3 ，Ｒ4 及び
Ｒ5 はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルカノイル
基、アルコキシカルボニル基又はカルバモイル基を示
す。）で表わされる化合物とメチルメルカプタンと反応
させ、一般式〔II−１〕
基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ
基、フェニル基又はＲ1 とＲ2 が一緒になってその環中
にヘテロ原子を含んでいてもよい環を、Ｒ3 ，Ｒ4 及び
Ｒ5 はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルカノイル
基、アルコキシカルボニル基又はカルバモイル基を示
す。）で表わされる化合物とメチルメルカプタンと反応
させ、一般式〔II−１〕
【化９】 又は一般式〔II−２〕
【化１０】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＲ5 は前記と同じ
意味を示す。）で表わされるジチオケタール化合物を
得、このジチオケタール化合物を、キノン類又はジメチ
ルスルホキシド及びイオウの存在下に脱水素及び脱スル
フェニル化することを特徴とする一般式〔III −１〕
意味を示す。）で表わされるジチオケタール化合物を
得、このジチオケタール化合物を、キノン類又はジメチ
ルスルホキシド及びイオウの存在下に脱水素及び脱スル
フェニル化することを特徴とする一般式〔III −１〕
【化１１】 又は一般式〔III −２〕
【化１２】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＲ5 は前記と同じ
意味を示す。）で表わされるメチルチオベンゼン類の製
造方法である。
意味を示す。）で表わされるメチルチオベンゼン類の製
造方法である。
【０００４】本発明においてアルキル基等のアルキルと
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ターシャ
リブチル等の直鎖又は分枝のアルキルをいう。反応は一
般式〔Ｉ−１〕又は〔Ｉ−２〕で表わされるシクロヘキ
セノン誘導体に２〜６倍モルのメチルメルカプタンを有
機溶媒中、酸触媒存在下で反応させ一般式〔II−１〕又
は〔II−２〕で表されるジチオケタール体を得る。酸触
媒としては、パラトルエンスルホン酸、硫酸、トリフル
オロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、三フッ化ホ
ウ素ジエチルエーテル錯体等が挙げられ、溶媒としては
メタノール、エタノールなどのアルコール系、塩化メチ
レン、クロロホルムなどの塩素系溶媒等が使用できる。
触媒量は通常０．０１〜０．１倍モルを使用する。反応
温度は１０〜３０℃が望ましく、反応時間は１０〜７２
時間程度である。
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ターシャ
リブチル等の直鎖又は分枝のアルキルをいう。反応は一
般式〔Ｉ−１〕又は〔Ｉ−２〕で表わされるシクロヘキ
セノン誘導体に２〜６倍モルのメチルメルカプタンを有
機溶媒中、酸触媒存在下で反応させ一般式〔II−１〕又
は〔II−２〕で表されるジチオケタール体を得る。酸触
媒としては、パラトルエンスルホン酸、硫酸、トリフル
オロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、三フッ化ホ
ウ素ジエチルエーテル錯体等が挙げられ、溶媒としては
メタノール、エタノールなどのアルコール系、塩化メチ
レン、クロロホルムなどの塩素系溶媒等が使用できる。
触媒量は通常０．０１〜０．１倍モルを使用する。反応
温度は１０〜３０℃が望ましく、反応時間は１０〜７２
時間程度である。
【０００５】こうして得られたジチオケタール体は以下
に示す二つの方法で脱水素及び脱スルフェニル化され
る。 （１）ジチオケタール体１モルに有機溶媒中、１．５〜
２．０倍モルのキノン類を加え反応させる。使用する溶
媒はベンゼン、トルエンなど反応に不活性な溶媒を使用
できる。反応温度は１時間〜１０時間程度である。キノ
ン類としてはＤＤＱ（２，３−ジクロロ−５，６−ジシ
アノ−ｐ−ベンゾキノン）やクロラニル等が使用でき
る。 （２）ジチオケタール体１モルに対し、０．３〜１．５
倍モルのイオウ粉末及び７〜５０倍モルのジメチルスル
ホキシドに必要により有機溶媒を加え、その混合物にジ
チオケタール体を加え反応させる。溶媒としてはメシチ
レン、高沸点パラフィン系炭化水素等の不活性溶媒が使
用できる。反応温度は１４０〜１６０℃、反応時間は３
０〜２時間程度である。 （１）あるいは（２）いずれの方法で反応した場合も通
常の後処理を行なうことにより目的物を得ることができ
る。
に示す二つの方法で脱水素及び脱スルフェニル化され
る。 （１）ジチオケタール体１モルに有機溶媒中、１．５〜
２．０倍モルのキノン類を加え反応させる。使用する溶
媒はベンゼン、トルエンなど反応に不活性な溶媒を使用
できる。反応温度は１時間〜１０時間程度である。キノ
ン類としてはＤＤＱ（２，３−ジクロロ−５，６−ジシ
アノ−ｐ−ベンゾキノン）やクロラニル等が使用でき
る。 （２）ジチオケタール体１モルに対し、０．３〜１．５
倍モルのイオウ粉末及び７〜５０倍モルのジメチルスル
ホキシドに必要により有機溶媒を加え、その混合物にジ
チオケタール体を加え反応させる。溶媒としてはメシチ
レン、高沸点パラフィン系炭化水素等の不活性溶媒が使
用できる。反応温度は１４０〜１６０℃、反応時間は３
０〜２時間程度である。 （１）あるいは（２）いずれの方法で反応した場合も通
常の後処理を行なうことにより目的物を得ることができ
る。
【０００６】一般式〔III −１〕あるいは〔III −２〕
で表わされる本発明の製造方法によって得られるメチル
チオベンゼン類は例えば下記反応式に従ってベンゼンチ
オール体に誘導することができる。
で表わされる本発明の製造方法によって得られるメチル
チオベンゼン類は例えば下記反応式に従ってベンゼンチ
オール体に誘導することができる。
【化１３】 一般式〔III −１〕及び〔III −２〕で表されるメチル
チオベンゼン誘導体に当量の酸化剤を作用させメチルス
ルフィニルベンゼン誘導体〔IV〕とする。酸化剤として
は過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸、過酢酸、次亜塩
素酸ソーダ、過よう素酸ソーダ等が挙げられ、溶媒とし
てはメタノール、ジオキサン、水及びこれらの混合物が
使用できる。反応時間は１〜２時間程度、反応温度は室
温から使用溶媒の沸点までで行う。触媒として５％程度
のタングステン酸ナトリウム水溶液を使用することもで
きる。次いで、得られたメタンスルフィニルベンゼン誘
導体は無水酢酸溶媒中処理すれば容易にＰｕｍｍｅｒｅ
ｒ反応型生成物のアセトキシメチルチオベンゼン誘導体
〔Ｖ〕に変換できる。無水酢酸は２〜３ｌ／ｍｏｌ程度
用い、反応温度は１００〜１４０℃程度、反応時間は４
〜８時間である。
チオベンゼン誘導体に当量の酸化剤を作用させメチルス
ルフィニルベンゼン誘導体〔IV〕とする。酸化剤として
は過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸、過酢酸、次亜塩
素酸ソーダ、過よう素酸ソーダ等が挙げられ、溶媒とし
てはメタノール、ジオキサン、水及びこれらの混合物が
使用できる。反応時間は１〜２時間程度、反応温度は室
温から使用溶媒の沸点までで行う。触媒として５％程度
のタングステン酸ナトリウム水溶液を使用することもで
きる。次いで、得られたメタンスルフィニルベンゼン誘
導体は無水酢酸溶媒中処理すれば容易にＰｕｍｍｅｒｅ
ｒ反応型生成物のアセトキシメチルチオベンゼン誘導体
〔Ｖ〕に変換できる。無水酢酸は２〜３ｌ／ｍｏｌ程度
用い、反応温度は１００〜１４０℃程度、反応時間は４
〜８時間である。
【０００７】また、一般式〔III −１〕及び〔III −
２〕で表されるメチルチオベンゼン誘導体に当量の塩素
化剤を作用させることによってもＰｕｍｍｅｒｅｒ反応
型生成物のクロロメチルチオベンゼン誘導体〔VI〕を導
くことができる。塩素化剤としては塩素、塩化スルフリ
ル、ＮＣＳ（Ｎ−クロロこはく酸イミド）等が挙げら
れ、溶媒にはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素等が使用できる。反応温度は−７５℃〜使用する溶媒
の沸点まで、望ましくは０℃〜室温であり、反応時間は
４〜８時間である。こうして得られたＰｕｍｍｅｒｅｒ
反応生成物は加水分解によって一般式〔VII 〕で表され
るベンゼンチオール類に変換できる。この加水分解は溶
媒にメタノール、ジオキサン、水及びこれらの混合物が
使用でき、水酸化ソーダ、水酸化カリウムなどの塩基を
適宜加えることによって行う。反応温度は室温、反応時
間は１〜３時間である。
２〕で表されるメチルチオベンゼン誘導体に当量の塩素
化剤を作用させることによってもＰｕｍｍｅｒｅｒ反応
型生成物のクロロメチルチオベンゼン誘導体〔VI〕を導
くことができる。塩素化剤としては塩素、塩化スルフリ
ル、ＮＣＳ（Ｎ−クロロこはく酸イミド）等が挙げら
れ、溶媒にはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素等が使用できる。反応温度は−７５℃〜使用する溶媒
の沸点まで、望ましくは０℃〜室温であり、反応時間は
４〜８時間である。こうして得られたＰｕｍｍｅｒｅｒ
反応生成物は加水分解によって一般式〔VII 〕で表され
るベンゼンチオール類に変換できる。この加水分解は溶
媒にメタノール、ジオキサン、水及びこれらの混合物が
使用でき、水酸化ソーダ、水酸化カリウムなどの塩基を
適宜加えることによって行う。反応温度は室温、反応時
間は１〜３時間である。
【０００８】こうして得られた一般式〔VII 〕で表わさ
れるベンゼンチオール体はさらに、有機溶媒中、塩基の
存在下一般式Ｒ6 −Ｈａｌ（式中、Ｒ6 はアルキル基、
アリル基、２−オキソアルキル基、ベンジル基、カルバ
モイルメチル基又はアルコキシカルボニルメチル基を、
Ｈａｌはハロゲン原子を示す。）で表わされるハロゲン
化物を反応させることにより、対応するスルフェニルベ
ンゼン類を得ることができる。ハロゲン化物としてはヨ
ウ化アルキルなどのハロゲン化アルキルの他、一般の活
性ハロゲン化合物が使用できる。塩基としては水素化ナ
トリウム、炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどの無機塩基類
や、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基類の使
用が可能である。溶媒としてはジメチルホルムアミド、
アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、ジク
ロロメタン等この反応に不活性なものが挙げられる。反
応温度は０℃〜室温程度であり、反応時間は１時間程度
である。また、この反応は、ベンゼン、トルエン等不活
性溶媒と塩基性水溶液との相間反応条件下でも行うこと
ができる。この場合、塩基としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等が挙げられ、触媒としては一般の四級
アンモニウム塩が使用できる。
れるベンゼンチオール体はさらに、有機溶媒中、塩基の
存在下一般式Ｒ6 −Ｈａｌ（式中、Ｒ6 はアルキル基、
アリル基、２−オキソアルキル基、ベンジル基、カルバ
モイルメチル基又はアルコキシカルボニルメチル基を、
Ｈａｌはハロゲン原子を示す。）で表わされるハロゲン
化物を反応させることにより、対応するスルフェニルベ
ンゼン類を得ることができる。ハロゲン化物としてはヨ
ウ化アルキルなどのハロゲン化アルキルの他、一般の活
性ハロゲン化合物が使用できる。塩基としては水素化ナ
トリウム、炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどの無機塩基類
や、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基類の使
用が可能である。溶媒としてはジメチルホルムアミド、
アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、ジク
ロロメタン等この反応に不活性なものが挙げられる。反
応温度は０℃〜室温程度であり、反応時間は１時間程度
である。また、この反応は、ベンゼン、トルエン等不活
性溶媒と塩基性水溶液との相間反応条件下でも行うこと
ができる。この場合、塩基としては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等が挙げられ、触媒としては一般の四級
アンモニウム塩が使用できる。
【０００９】
【実施例】次に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明
する。実施例１ ２−メチル−６−（メチルチオ）アニソール
の合成：
する。実施例１ ２−メチル−６−（メチルチオ）アニソール
の合成：
【化１４】 ２−メトキシ−３−メチル−２−シクロヘキセノン２
８．２ｇ（０．２０１ｍｏｌ）をメタノール４００ｍｌ
に溶解した後、パラトルエンスルホン酸２．６８ｇ
（０．０１４ｍｏｌ）を加えた。この混合溶液を２０℃
に保ち攪拌しつつ、そこにメチルメルカプタン６７．６
ｇ（１．４０ｍｏｌ）を一時間かけて吹き込んだ。その
まま３０分間攪拌した後、塩化メチレン、冷水を加えて
有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリウム水溶液及び水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下で留去した。得られた粗物をトルエン４００ｍｌ
に溶解し、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−
ベンゾキノン６８．４ｇ（０．３０２ｍｏｌ）を加え、
２時間加熱還流を行った。冷却後、吸引濾過により結晶
を除去し、濾液を１０％水酸化ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物を減圧蒸留
によって生成し、目的物２７．５ｇを得た。沸点 ９７
−９８／５ｍｍＨｇ
８．２ｇ（０．２０１ｍｏｌ）をメタノール４００ｍｌ
に溶解した後、パラトルエンスルホン酸２．６８ｇ
（０．０１４ｍｏｌ）を加えた。この混合溶液を２０℃
に保ち攪拌しつつ、そこにメチルメルカプタン６７．６
ｇ（１．４０ｍｏｌ）を一時間かけて吹き込んだ。その
まま３０分間攪拌した後、塩化メチレン、冷水を加えて
有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリウム水溶液及び水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下で留去した。得られた粗物をトルエン４００ｍｌ
に溶解し、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−
ベンゾキノン６８．４ｇ（０．３０２ｍｏｌ）を加え、
２時間加熱還流を行った。冷却後、吸引濾過により結晶
を除去し、濾液を１０％水酸化ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物を減圧蒸留
によって生成し、目的物２７．５ｇを得た。沸点 ９７
−９８／５ｍｍＨｇ
【００１０】実施例２ ４−（メチルチオ）ベンゾ
［ｂ］フランの合成：
［ｂ］フランの合成：
【化１５】 ６，７−ジヒドロベンゾ［ｂ］フラン−４（５Ｈ）−オ
ン５．４ｇ（０．０４ｍｏｌ）をエタノール１００ｍｌ
に溶解し、パラトルエンスルホン酸０．１ｇ（０．５ｍ
ｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメチルメルカ
プタン７．７ｇ（０．１６ｍｏｌ）を吹き込んだ。一晩
反応した後、反応液にヘキサン１５０ｍｌを加え、冷水
中にあけた。有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリウム
水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；塩化メチレン
／ヘキサン＝１／２）で精製し、ジチオケタール体７．
１ｇ（ｎD 27.5＝１．５７８９）を得た。ジチオケター
ル体２．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）をベンゼン２０ｍｌに溶
解し、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベン
ゾキノン３．６ｇ（１６ｍｍｏｌ）を加え、３時間加熱
還流を行った。反応溶液を冷却後、吸引濾過にて結晶を
除去し、濾液を１０％水酸化ナトリウム水溶液及び飽和
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した。得られた粗物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出液；塩化メチレン／ヘキサン
＝１／１）で精製し、目的物１．３ｇを得た。ｎD 27.5
＝１．６１８８
ン５．４ｇ（０．０４ｍｏｌ）をエタノール１００ｍｌ
に溶解し、パラトルエンスルホン酸０．１ｇ（０．５ｍ
ｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメチルメルカ
プタン７．７ｇ（０．１６ｍｏｌ）を吹き込んだ。一晩
反応した後、反応液にヘキサン１５０ｍｌを加え、冷水
中にあけた。有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリウム
水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；塩化メチレン
／ヘキサン＝１／２）で精製し、ジチオケタール体７．
１ｇ（ｎD 27.5＝１．５７８９）を得た。ジチオケター
ル体２．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）をベンゼン２０ｍｌに溶
解し、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベン
ゾキノン３．６ｇ（１６ｍｍｏｌ）を加え、３時間加熱
還流を行った。反応溶液を冷却後、吸引濾過にて結晶を
除去し、濾液を１０％水酸化ナトリウム水溶液及び飽和
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した。得られた粗物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出液；塩化メチレン／ヘキサン
＝１／１）で精製し、目的物１．３ｇを得た。ｎD 27.5
＝１．６１８８
【００１１】実施例３ １−トシル−４−（メチルチ
オ）インドールの合成：
オ）インドールの合成：
【化１６】 １−トシル−１，５，６，７−テトラヒドロ−４Ｈ−イ
ンドール−４−オン１．５ｇ（５．２×１０-3ｍｏｌ）
をエタノール：クロロホルム＝４：１混合溶媒５０ｍｌ
に溶解し、パラトルエンスルホン酸０．０７ｇ（３．６
×１０-4ｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメチ
ルメルカプタン１．５ｇ（３．１×１０-2ｍｏｌ）を吹
き込んだ。そのまま３０分間攪拌した後、塩化メチレ
ン、冷水を加えて有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物をト
ルエン４０ｍｌに溶解し、２，３−ジクロロ−５，６−
ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン１．７６ｇ（７．７７×１
０-3ｍｏｌ）を加え、１．５時間加熱還流を行った。冷
却後、吸引濾過により結晶を除去し、濾液を１０％水酸
化ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。
得られた粗物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；塩化メチレン／ヘキサン＝１／１）で精製
し、目的物１．２３ｇを得た。融点 ９０−９１℃
ンドール−４−オン１．５ｇ（５．２×１０-3ｍｏｌ）
をエタノール：クロロホルム＝４：１混合溶媒５０ｍｌ
に溶解し、パラトルエンスルホン酸０．０７ｇ（３．６
×１０-4ｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメチ
ルメルカプタン１．５ｇ（３．１×１０-2ｍｏｌ）を吹
き込んだ。そのまま３０分間攪拌した後、塩化メチレ
ン、冷水を加えて有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物をト
ルエン４０ｍｌに溶解し、２，３−ジクロロ−５，６−
ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン１．７６ｇ（７．７７×１
０-3ｍｏｌ）を加え、１．５時間加熱還流を行った。冷
却後、吸引濾過により結晶を除去し、濾液を１０％水酸
化ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。
得られた粗物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；塩化メチレン／ヘキサン＝１／１）で精製
し、目的物１．２３ｇを得た。融点 ９０−９１℃
【００１２】実施例４ ２−（メチルチオ）ナフタレン
の合成：
の合成：
【化１７】 ３，４−ジヒドロ−２（１Ｈ）−ナフタレノン２．５０
ｇ（１．７１×１０-2ｍｏｌ）をメタノール３０ｍｌに
溶解し、パラトルエンスルホン酸０．２２８ｇ（１．２
０×１０-3ｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメ
チルメルカプタン４．１０ｇ（８．５５×１０-2ｍｏ
ｌ）を吹き込み溶解させた。そのまま一晩反応させた
後、塩化メチレン、冷水を加えて有機層を分取し、２％
炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得
られた粗物をトルエン５０ｍｌに溶解し、２，３−ジク
ロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン５．６６ｇ
（３．４２×１０-2ｍｏｌ）を加え、２．５時間加熱還
流を行った。冷却後、吸引濾過により結晶を除去し、濾
液を１０％水酸化ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
下で留去した。得られた粗物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；塩化メチレン）で精製し、目的
物２．６０ｇを得た。融点 ５５−５６℃
ｇ（１．７１×１０-2ｍｏｌ）をメタノール３０ｍｌに
溶解し、パラトルエンスルホン酸０．２２８ｇ（１．２
０×１０-3ｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメ
チルメルカプタン４．１０ｇ（８．５５×１０-2ｍｏ
ｌ）を吹き込み溶解させた。そのまま一晩反応させた
後、塩化メチレン、冷水を加えて有機層を分取し、２％
炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得
られた粗物をトルエン５０ｍｌに溶解し、２，３−ジク
ロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン５．６６ｇ
（３．４２×１０-2ｍｏｌ）を加え、２．５時間加熱還
流を行った。冷却後、吸引濾過により結晶を除去し、濾
液を１０％水酸化ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
下で留去した。得られた粗物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；塩化メチレン）で精製し、目的
物２．６０ｇを得た。融点 ５５−５６℃
【００１３】実施例５ １−（メチルチオ）ナフタレン
の合成：
の合成：
【化１８】 ３，４−ジヒドロ−１（２Ｈ）−ナフタレノン２．５ｇ
（０．０１７ｍｏｌ）をメタノール２０ｍｌに溶解し、
パラトルエンスルホン酸０．２３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）
を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメチルメルカプタン
４．１ｇ（０．０８５ｍｏｌ）を吹き込み溶解させた。
一晩反応させた後、塩化メチレン、冷水を加えて有機層
を分取し、２％炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を留去し粗物を得た。ジメチルスルホキシド４０ｍｌ
にイオウ０．８０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を加え１５０
℃に加熱した溶液に、粗物のジメチルスルホキシド（２
０ｍｌ）溶液を滴下した。３０分間反応した後、冷却
し、ジエチルエーテル、冷水を加えて有機層を分取し
た。１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して粗物を得た後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出液；塩化メチレン）で精製し、目的物２．
２ｇを得た。ｎD 28＝１．６６８２
（０．０１７ｍｏｌ）をメタノール２０ｍｌに溶解し、
パラトルエンスルホン酸０．２３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）
を加え、２０℃に保ち攪拌しつつメチルメルカプタン
４．１ｇ（０．０８５ｍｏｌ）を吹き込み溶解させた。
一晩反応させた後、塩化メチレン、冷水を加えて有機層
を分取し、２％炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を留去し粗物を得た。ジメチルスルホキシド４０ｍｌ
にイオウ０．８０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を加え１５０
℃に加熱した溶液に、粗物のジメチルスルホキシド（２
０ｍｌ）溶液を滴下した。３０分間反応した後、冷却
し、ジエチルエーテル、冷水を加えて有機層を分取し
た。１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して粗物を得た後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出液；塩化メチレン）で精製し、目的物２．
２ｇを得た。ｎD 28＝１．６６８２
【００１４】実施例６ ６−［２′−（エチルチオ）プ
ロピル］−４−（メチルチオ）−３−プロピルベンゾ
［ｄ］イソキサゾールの合成：
ロピル］−４−（メチルチオ）−３−プロピルベンゾ
［ｄ］イソキサゾールの合成：
【化１９】 ６−［２′−（エチルチオ）プロピル］−６，７−ジヒ
ドロ−３−プロピルベンゾ［ｄ］イソキサゾール−４
（５Ｈ）−オン１．０ｇ（３．５５ｍｍｏｌ）をメタノ
ール３０ｍｌに溶解し、パラトルエンスルホン酸０．０
５ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌し
つつメチルメルカプタン１．０ｇ（２１ｍｍｏｌ）を吹
き込み溶解させた。一晩反応した後、塩化メチレン、冷
水を加えて有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリウム水
溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物をトルエン
３０ｍｌに溶解し、２，３−ジクロロ−５，６−ジシア
ノ−ｐ−ベンゾキノン１．２１ｇ（５．３３ｍｍｏｌ）
を加え、３．５時間加熱還流を行った。冷却後、吸引濾
過により結晶を除去し、濾液を１０％水酸化ナトリウム
水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；塩化
メチレン／ヘキサン＝１／１）で精製し、目的物０．５
５ｇを得た。ｎD 28＝１．５８０７
ドロ−３−プロピルベンゾ［ｄ］イソキサゾール−４
（５Ｈ）−オン１．０ｇ（３．５５ｍｍｏｌ）をメタノ
ール３０ｍｌに溶解し、パラトルエンスルホン酸０．０
５ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を加え、２０℃に保ち攪拌し
つつメチルメルカプタン１．０ｇ（２１ｍｍｏｌ）を吹
き込み溶解させた。一晩反応した後、塩化メチレン、冷
水を加えて有機層を分取し、２％炭酸水素ナトリウム水
溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物をトルエン
３０ｍｌに溶解し、２，３−ジクロロ−５，６−ジシア
ノ−ｐ−ベンゾキノン１．２１ｇ（５．３３ｍｍｏｌ）
を加え、３．５時間加熱還流を行った。冷却後、吸引濾
過により結晶を除去し、濾液を１０％水酸化ナトリウム
水溶液及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；塩化
メチレン／ヘキサン＝１／１）で精製し、目的物０．５
５ｇを得た。ｎD 28＝１．５８０７
【００１５】実施例７ ６−［２′−（エチルチオ）プ
ロピル］−４−（メチルチオ）−２−プロピルベンゾ
［ｄ］オキサゾールの合成：
ロピル］−４−（メチルチオ）−２−プロピルベンゾ
［ｄ］オキサゾールの合成：
【化２０】 ６−［２′−（エチルチオ）プロピル］−６，７−ジヒ
ドロ−２−プロピルベンゾ［ｄ］オキサゾール−４（５
Ｈ）−オン０．４０ｇ（１．４ｍｍｏｌ）を用い、実施
例６と同様な反応、後処理、精製により目的物０．１６
ｇを得た。ｎD 29＝１．５７６２
ドロ−２−プロピルベンゾ［ｄ］オキサゾール−４（５
Ｈ）−オン０．４０ｇ（１．４ｍｍｏｌ）を用い、実施
例６と同様な反応、後処理、精製により目的物０．１６
ｇを得た。ｎD 29＝１．５７６２
【００１６】参考例１ ４−メルカプトベンゾ［ｂ］フ
ランの合成：
ランの合成：
【化２１】 ４−（メチルチオ）ベンゾ［ｂ］フラン０．５０ｇ
（３．０ｍｍｏｌ）をメタノール３ｍｌに溶解し、過酸
化水素３０％水溶液０．６８ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を加
え、２時間加熱還流を行った。冷却後、水及び酢酸エチ
ルを加え有機層を分取し、５％チオ硫酸ナトリウム水溶
液及び飽和食塩水で洗浄した。次いで無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；酢酸
エチル）で精製し、４−（メチルスルフィニル）ベンゾ
［ｂ］フラン０．４８ｇ（ｎD 13＝１．５９４７）を得
た。得られた４−（メチルスルフィニル）ベンゾ［ｂ］
フラン０．４８ｇ（２．７ｍｍｏｌ）を無水酢酸４ｍｌ
に溶解し、１２０℃で８時間攪拌した。冷却後、減圧下
で無水酢酸を留去し粗Ｐｕｍｍｅｒｅｒ反応生成物０．
５４ｇを得た。この粗物０．５４ｇをメタノール５ｍｌ
に溶解し、３％水酸化ナトリウム水溶液７ｍｌを加え、
室温で３０分間攪拌した。その後、希塩酸を加えこの溶
液を酸性化し、塩化メチレンを加え有機層を分取した。
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム）
で精製し、目的物０．３０ｇを得た。ｎD 19＝１．６３
２０
（３．０ｍｍｏｌ）をメタノール３ｍｌに溶解し、過酸
化水素３０％水溶液０．６８ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を加
え、２時間加熱還流を行った。冷却後、水及び酢酸エチ
ルを加え有機層を分取し、５％チオ硫酸ナトリウム水溶
液及び飽和食塩水で洗浄した。次いで無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；酢酸
エチル）で精製し、４−（メチルスルフィニル）ベンゾ
［ｂ］フラン０．４８ｇ（ｎD 13＝１．５９４７）を得
た。得られた４−（メチルスルフィニル）ベンゾ［ｂ］
フラン０．４８ｇ（２．７ｍｍｏｌ）を無水酢酸４ｍｌ
に溶解し、１２０℃で８時間攪拌した。冷却後、減圧下
で無水酢酸を留去し粗Ｐｕｍｍｅｒｅｒ反応生成物０．
５４ｇを得た。この粗物０．５４ｇをメタノール５ｍｌ
に溶解し、３％水酸化ナトリウム水溶液７ｍｌを加え、
室温で３０分間攪拌した。その後、希塩酸を加えこの溶
液を酸性化し、塩化メチレンを加え有機層を分取した。
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホルム）
で精製し、目的物０．３０ｇを得た。ｎD 19＝１．６３
２０
【００１７】参考例２ ４−（ベンジルチオ）ベンゾ
［ｂ］フランの合成：
［ｂ］フランの合成：
【化２２】 ４−メルカプトベンゾ［ｂ］フラン０．２８ｇ（１．９
ｍｍｏｌ）をＤＭＦ３ｍｌに溶解し、５℃で水素化ナト
リウム（純度６０％）８０ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加
え、５分間攪拌した後、塩化ベンジル０．２６ｇ（２．
０ｍｍｏｌ）を加え、更に１５分間攪拌した。その後、
水及びジエチルエーテルを加え有機層を分取し、水及び
飽和食塩水で洗浄した。次いで、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去した。得られた粗物をヘキサンで
再結晶し、目的物０．４１ｇを得た。融点 ６７−６８
℃
ｍｍｏｌ）をＤＭＦ３ｍｌに溶解し、５℃で水素化ナト
リウム（純度６０％）８０ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加
え、５分間攪拌した後、塩化ベンジル０．２６ｇ（２．
０ｍｍｏｌ）を加え、更に１５分間攪拌した。その後、
水及びジエチルエーテルを加え有機層を分取し、水及び
飽和食塩水で洗浄した。次いで、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去した。得られた粗物をヘキサンで
再結晶し、目的物０．４１ｇを得た。融点 ６７−６８
℃
【００１８】
【発明の効果】本発明の製造方法は出発原料のシクロヘ
キセノン化合物の二重結合の位置によらず目的のメチル
チオベンゼン類が製造できるため、位置選択的なメチル
チオベンゼン類の製法として有用である。
キセノン化合物の二重結合の位置によらず目的のメチル
チオベンゼン類が製造できるため、位置選択的なメチル
チオベンゼン類の製法として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 319/14 7419−4Ｈ 323/17 7419−4Ｈ 323/18 7419−4Ｈ 323/22 7419−4Ｈ 323/30 7419−4Ｈ 323/31 7419−4Ｈ 323/39 7419−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式〔Ｉ−１〕 【化１】 又は一般式〔Ｉ−２〕 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ
基、フェニル基又はＲ1 とＲ2 が一緒になってその環中
にヘテロ原子を含んでいてもよい環を、Ｒ3 ，Ｒ4 及び
Ｒ5 はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルカノイル
基、アルコキシカルボニル基又はカルバモイル基を示
す。）で表わされる化合物とメチルメルカプタンと反応
させ、一般式〔II−１〕 【化３】 又は一般式〔II−２〕 【化４】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＲ5 は前記と同じ
意味を示す。）で表わされるジチオケタール化合物を
得、このジチオケタール化合物を、キノン類又はジメチ
ルスルホキシド及びイオウの存在下に脱水素及び脱スル
フェニル化することを特徴とする一般式〔III −１〕 【化５】 又は一般式〔III −２〕 【化６】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＲ5 は前記と同じ
意味を示す。）で表わされるメチルチオベンゼン類の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06665394A JP3534816B2 (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | メチルチオベンゼン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06665394A JP3534816B2 (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | メチルチオベンゼン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07247263A true JPH07247263A (ja) | 1995-09-26 |
| JP3534816B2 JP3534816B2 (ja) | 2004-06-07 |
Family
ID=13322080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06665394A Expired - Lifetime JP3534816B2 (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | メチルチオベンゼン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3534816B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998055454A3 (en) * | 1997-06-05 | 1999-03-04 | Takeda Chemical Industries Ltd | Benzofurans and benzothophenes as suppressors of neurodegeneration |
| WO2010058858A1 (ja) | 2008-11-21 | 2010-05-27 | ラクオリア創薬株式会社 | ５－ｈｔ２ｂ受容体拮抗活性を有する新規ピラゾール－３－カルボキサミド誘導体 |
-
1994
- 1994-03-10 JP JP06665394A patent/JP3534816B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998055454A3 (en) * | 1997-06-05 | 1999-03-04 | Takeda Chemical Industries Ltd | Benzofurans and benzothophenes as suppressors of neurodegeneration |
| US7008950B1 (en) | 1997-06-05 | 2006-03-07 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Benzofurans as suppressors of neurodegeneration |
| WO2010058858A1 (ja) | 2008-11-21 | 2010-05-27 | ラクオリア創薬株式会社 | ５－ｈｔ２ｂ受容体拮抗活性を有する新規ピラゾール－３－カルボキサミド誘導体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3534816B2 (ja) | 2004-06-07 |
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