JPS59105614A - 曲面セルの製法 - Google Patents

曲面セルの製法

Info

Publication number
JPS59105614A
JPS59105614A JP21551982A JP21551982A JPS59105614A JP S59105614 A JPS59105614 A JP S59105614A JP 21551982 A JP21551982 A JP 21551982A JP 21551982 A JP21551982 A JP 21551982A JP S59105614 A JPS59105614 A JP S59105614A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
substrate
base plates
curved
mold
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21551982A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Sugimoto
杉本 四士男
Motozou Hatsutori
服部 基造
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP21551982A priority Critical patent/JPS59105614A/ja
Publication of JPS59105614A publication Critical patent/JPS59105614A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、曲面を有する電気光学的表示を行う曲面セル
の製法に関するものである。
従来から液晶セル等の電気光学的表示セルは電卓、時計
等に幅広く使用されているが、実質的に何れも表示面が
平坦なものばかシであ右。
第1図は、従来の平坦な液晶表示素子の断面図を示した
もので、透明電極(4A)を有する表基板(1)と透明
電極(4B)を有する裏基板(2)とをシール材(3ン
、で透明電極が相対向するようにして接着され、内部に
液晶(5ンが封入されている。
ツイストネマチック(TN)型液晶表示素子の場合には
、両基板Q外側に一対の偏光膜(6A)、(6B)が配
されて用いられている。
このTN型液晶表示素子は、透明電極に斜め蒸着又はラ
ビング等によル配向処理されておシ、基板近傍で液晶分
子は電圧を印加しない状態では水平に近く寝ており、又
、電圧を印加した状態では垂直に近い角度で立っている
。しかし、この電圧印加時の立って似る状態においても
、完全に垂直に立っていないため0N−OFFのコント
ラスト比が見る場所によって異なるいわゆる視角依存性
を有している。
この視角依存性は、液晶表示素子が小さかったり、見る
方向が限定されている場合には問題とならないが、自動
車のインスツルメントパネルのように一辺が150腸を
越えるような大型の液晶表示素子の場合には、液晶表示
素子の端部の表示が児にくくなる欠点がある。これを解
消するために液晶表示素子を曲面状にすることが提案さ
れているが、生性性の良い製法が確立されていなかった
本発明は、曲面を有する曲面セルを生産性良く製造する
ことを目的としたものであシ、相対向する2枚の電極を
有する曲面基板をシールした電気光学的表示曲面セルの
製法において、2枚の基板に電極パ、ターンを形成する
工程、パターンが形成された基板を所望の曲率に曲面化
する工程、少なくとも一方の基板にシール材を付与し、
該2枚の基板をシール材にて接合する工程とからなる曲
面セルの製法である。
本発明は電極パターンを平坦状態で先ず形成し、その後
所望の曲率を持った型で2枚の基板を所望の曲率になる
ように曲面化するため、電極のパターニングが容易に作
業性良くでき、印刷装置、エツチング装置等も従来の装
置がそのまま使用できるので、生産性も良い優れたもの
である。又、電極をベタに基板上に形成する工程も平坦
状態で通常の基板と同じに行うことができるため生産性
が低下しなく、原材料の在庫上の問題も生じ・ない。
又、本発明ではシールを完成する工程以後は曲面状態で
行うため、曲率が設計値とずれることがなく、又、シー
ル後回げることによるシール部への常時かかる外力を生
じなく、表示素子としての取付が容易となりかつシール
の信頼性も良い。
次いで本発明を工程を追いながら説明する。
本発明に使用する基板としては、ガラス、プラスチック
のいずれも可能である。ガラスを基板として用いること
は、耐水性、耐熱性、光学特性からみてプラスチックの
基板に比して有利であシ、特に高い信頼性を要求される
場合にはガラス基板の使用が好ましい。ただし、ガラス
を基板として曲面セルを形成することは、プラスチック
を基板として用いる場合よりも困難で製造プロセス上大
きな問題があるため本発明の製法を利用するメリットが
大きく、以下の説明では原則としてガラスを基板として
用いて説明する。
本発明では、基板の曲率半径は200〜2000祁程度
とされ、基板の太きさも長辺側が100解以上のセルに
利用されることが好ましく、断面が円弧状、放物線状、
双曲線状等所望の一次曲面パターンが可能である。本発
明ではこのような曲率半径を得るためにガラス板の場合
には0.3ffiff+以下の厚みとすることが好まし
い。これは、曲面にガラス成形後、平坦にならす場合に
有利であシ、ガラスが厚ずぎると平坦にした際に割れを
生じやすいため、0.3間以下の厚みとすることが好ま
しい。
これは、特に配向層の形成、シール材の印11J等を曲
面状態でなく平坦にならして行うことが作業性上好まし
いためである。もつともその厚みは、曲率、セルの大き
さ、必要とされる強度等を考慮して決定されれば良く、
曲面に形成後平坦にする際に割れない厚みとすれば良い
又、一方の基板をガラス、他方の基板をプラスチックと
するとか、3枚以上の基板を使用して複層セルとするこ
ともできる。
以下の説明では、電気光学的表示素子として液晶表示素
子の例について説明するが、エレクトロクロミック表示
素子、電気、泳動表示素子等も同様にすれば適用できる
本発明に使用する基板は、必要に応じて5102、Al
、 Os等のアンダーコートを蒸着法、CV’D法等に
よシ形成し、工’1’o 1sno2  等の透明電極
、反射性電極を蒸着、スパッタリング、イメーン7゜レ
ーティング法等によシ形成する。
次いで、この基板に電極ノくターンを形成す、乙。
この電極のパターニングは、予め形成した透明電極、反
射性電極上にレジストを塗布してエツチングする、直接
電極を所望パターンに形成する等して所望の電極パター
ンを形成する。この電極パターンは必要に応じて2層に
する、基板の両面に形成する2種の電極材料例えばIT
Oと金属リードとする等しても良く、日の字状セグメン
ト、ドツトマトリックス、図形表示、パーグラフ、その
他科種表示パターンを形成すれば良い。
具体的には、スクリーン印刷によp所定のパターンにレ
ジストを印刷し、このレジストのついた基板を塩酸等の
エッチャントに浸漬しエツチングを行い、次いでレジス
トを除去すれば所望のパターンの電極が形成できる。も
ちろんスクリーン印刷の代シにホトレジストを付着させ
て行うこともできる。
本発明では、この工程までは平面状の基板を用いるため
、通常の基板のパターニングと同様に作業を進めること
ができる。
次いで、パターニングされた基板が曲面化される。平板
状の基板を加熱プレス成形、加熱自重曲げ等の方法によ
シ、一つずつ若しくは連続成形されれば良い。
ガラス基板の場合、所望の形状の加熱プレス用金型を用
い、その間にパターニングされたガラス基板を配しガラ
ス板の徐冷点(粘性が101jポイズの温度)以下でか
つガラス板の歪点(粘性が1014・6ボイズの温度)
よシ30℃低い温度以上の温度に加熱して、ガラスを永
久変形させ所望の形状とすれば良い。
この加熱温度は、通常のガラス板の成形温度に比しては
るかに低い温度であり、徐冷点以下としたことは徐冷点
を越えるとパターニングした電極がダメになるためであ
シ、又歪点よシ30℃低い温度未満ではガラスが変形し
にくいためである。特に徐冷点と歪点の間の温度で成形
することが電極の劣化及び成形時間との関係で好ましい
この曲面化された基板は、必要に応じて洗浄乾燥される
次いで必要に応じて配向処理を行り。
この工程では、曲面状態のまま処理しても良いが平坦に
ならして処理する方が作業性が良いため、吸着テーブル
、固定用の治具等を用いて平坦にならす方が好ましい。
との配向処理としては、5i02 、 Al2O3,Z
rO2等の斜め蒸着による水平配向処理、ラビングによ
る水平配向処理、シラン系等の材料による垂直配向処理
等があシ、液晶表示素子の動作モードによシ、適宜選択
して行なわれれば良い。もちろん、これに先立って51
02、Al2O3、ZrO2等の無機物の蒸着、ポリイ
ミド樹脂、シリコン樹脂等の樹脂の印刷、塗布等による
オーバーコートを形成しておいても良い。
この工程も平坦な状態で行うと、従来の工程と同一の作
業で良く、生産性が良い。
次いで、シール材を少なくとも一方の基板にスクリーン
印刷等により付与する。
もちろん、このシール材付与工程も基板を平坦にならし
た状態で行う方が作業性が良く好ましい。
これと同様に必要に応じて導電性ペーストによる基板間
トランスファーの印刷、リード端子部への導電ペースト
の印刷、工Cテップをガラス基板上へ配置するための導
電ペーストの印刷等も平坦な状態で行う。又、必要に応
じて表示面にガラスファイバー、アルミナ粒子等のスペ
ーサー散布を行う。
次いで2枚の基板を電極面が相対向するように配置し、
所望の曲率の型に配置してシール杓を硬化させ一体化さ
せる。この型の曲率は、尚初にガラス基板を形成した曲
率と同一の曲小とされていることが好ましいが、シール
に著しく悪影響を生じせしめない範囲でかつ所望の曲率
がシール後に変化しない範囲であれは正確に一致してい
ない型も使用可能である。
第2図は、このシール工程の代表的例の説明図であ夛、
所望の曲率の型(7)上に2枚の基板をシール材を介し
て相対向せしめたセル(8)を配置し、可撓性の隔壁膜
(9)を配し、型と隔壁膜の間の空気を減圧してセルを
型と隔壁膜で固定圧着するところを示している。もちろ
んこれに加熱、紫外線照射等を行いシール材を硬化させ
てセルを完成させる。
その後、液晶を注入し、注入口を封止し、必要に応じて
表面にカラー印刷、ノングレア印刷等を行い、偏光板、
カラー偏光板、カラーフィルター、反射板、導元板、光
源咎を配置して液晶表示素子を構成する。もつともセル
表面への印刷層等はシール材の硬化工程で悪影響を生じ
ンにりれは、シール材硬化前の平坦な状態で行うことも
できる。
さらに必要に応じて、この曲面液晶表示素子の前向に保
護用透明板を配して取付を行う。
以上の例ではTN型液晶表示素子の例に基づいて説明し
たが、他の動作モードの液晶表示素子、エレクトロクロ
ミック表示素子、電気泳動表示素子等も同様に応用でき
る。
本発明の電気光学的表示素子は、自動車用表示素子、デ
ィスプレ一端末用表示素子のように大型で、特に横巾の
大きい表示素子であって、1人乃至小人数の人が特定位
置から表示素子全体を見る用途に適しておシ、曲面のた
め周囲からの光の反射による悪影響も少なくコントラス
ト良く表示を見ることができる。
実施例 厚み0.15 、の表ガラス板(180X110箭)及
び裏ガラス板(180X 100 tttm )に平ら
な状態で真空蒸着−次酸化法で40OAの工TOmを形
成した。次いでスクリーン印刷にて有機溶剤インク除去
型のレジストインクを電極パターンと同一パターンに印
刷し、乾燥後塩酸と硝酸の混合液に浸漬し、エツチング
を行い、次いでこのレジストをイソプロピルアルコール
にて除去し、所望の電極パターンを形成した。
次いでこの基板を曲率半径3oot’sを有する金型に
入れ530℃2時間保持して曲面ガラス基板を形成した
。次いでこの基板をイソプロピルアルコールで超音波洗
浄した後、フ四ン乾燥を−こし、洗浄を行った。
次に、この基板を平らなテーブルに吸着せしめ、ラビン
グによシ水平配向処理を行なった。
次に、平坦にしたまま表基板にシール材としてエポキシ
樹脂をスクリーン印刷し、裏基板にトランスファー用の
導電ペーストをスクリーン印刷した。
その後、第2図の例に示した所望の形状の同一曲率のヒ
ーター付の金型を使用し、2枚の基板を1TO面が相対
向するように配置して、型内を減圧して150℃10分
間0.3鯉、/dの圧力で加熱圧着してシール材を硬化
せしめてセル化した。
このセル内に液晶を注入し、注入口を封止し、偏光膜を
2枚両面に粘着して有効表示面積170×90酬の30
01の曲率半径を有する液晶表示素子を製造した。
本発明は、このように製造が容易で、特に電極形成及び
そのパター;ングは基板が平板状の状態で行なわれるた
め通常の基板と全く同一の作業性で処理でき、従来の印
刷機械等の各種装置が使用でき生産性が良い。
又、配向処理、シール印刷等も曲面化した基板を平坦に
ならして処理することによシ吸着手段又は固定手段を除
いて通常の各種装置が使用できるので生産性が良い。
又、シール工程では、シールは所望の曲率に曲げられた
状態で行なわれるため、シールに無理な力もかからなく
信頼性の尚い電気光学表示セルを得ることができるもの
であシ、今後種々の応用が可能なものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の゛液晶表示素子の断面図。 第2図は本発明の液晶セルのシール工程の説明図。 1゛:表基板 2:裏基板 3:シール材 4A、4B:透明電極

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  相対向する2枚の電極を有する曲面基板をシ
    ールした電気光学的表示曲面セルの製法において、 (I)2枚の基板に電極パターンを形成する工程 (1)  パターンが形成された基板を所望の曲・率に
    曲面化する工程 (1)  少なくとも一方の基板にシール材を付与し、
    該2枚の基板をシール材にて接合する工程 とからなる曲面=セルの製法。
  2. (2)基板として0.3 wn以下の厚みのガラス基板
    を使用する特許請求の範囲第1項記載の曲面セルの製法
JP21551982A 1982-12-10 1982-12-10 曲面セルの製法 Pending JPS59105614A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21551982A JPS59105614A (ja) 1982-12-10 1982-12-10 曲面セルの製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21551982A JPS59105614A (ja) 1982-12-10 1982-12-10 曲面セルの製法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59105614A true JPS59105614A (ja) 1984-06-19

Family

ID=16673753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21551982A Pending JPS59105614A (ja) 1982-12-10 1982-12-10 曲面セルの製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59105614A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6159313A (ja) * 1984-08-30 1986-03-26 Toyota Motor Corp 液晶セルの製造方法
JPS62238526A (ja) * 1986-04-10 1987-10-19 Stanley Electric Co Ltd 曲面状液晶表示素子の製造方法
JP2010262275A (ja) * 2009-04-07 2010-11-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置
WO2018173258A1 (ja) * 2017-03-24 2018-09-27 シャープ株式会社 フィルム貼付装置、elデバイスの製造装置、elデバイスの製造方法、及びコントローラ
JP2021517271A (ja) * 2018-05-17 2021-07-15 エルジー・ケム・リミテッド 光学デバイスの製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6159313A (ja) * 1984-08-30 1986-03-26 Toyota Motor Corp 液晶セルの製造方法
JPS62238526A (ja) * 1986-04-10 1987-10-19 Stanley Electric Co Ltd 曲面状液晶表示素子の製造方法
JP2010262275A (ja) * 2009-04-07 2010-11-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置
US11163182B2 (en) 2009-04-07 2021-11-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US11243420B2 (en) 2009-04-07 2022-02-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US11906826B2 (en) 2009-04-07 2024-02-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
WO2018173258A1 (ja) * 2017-03-24 2018-09-27 シャープ株式会社 フィルム貼付装置、elデバイスの製造装置、elデバイスの製造方法、及びコントローラ
JP2021517271A (ja) * 2018-05-17 2021-07-15 エルジー・ケム・リミテッド 光学デバイスの製造方法
US11513381B2 (en) 2018-05-17 2022-11-29 Lg Chem, Ltd. Method for manufacturing optical device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2957385B2 (ja) 強誘電性液晶素子の製造方法
CA2072112C (en) Color filters, their production process, color liquid crystal panels and method of driving the panels
JPH04268532A (ja) 液晶表示素子
JP4577734B2 (ja) 低反射型抵抗膜式タッチパネルおよびその製造方法
JPH06230398A (ja) 液晶表示素子及びその製造方法
JPS59105614A (ja) 曲面セルの製法
JPH02132417A (ja) 調光レンズ体とその製造方法及び調光レンズ体に使用するポリカーボネート部材の製造方法
JPH08278489A (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JPS5957218A (ja) 曲面セルの製法
JP2001125108A (ja) 配向膜の製造方法及び液晶装置の製造方法
TWI749786B (zh) 低溫成型液晶配向膜之製程設備及其應用之面板製程
JP2007033982A (ja) 液晶表示装置の製造方法
JPH07301790A (ja) 液晶表示素子及びその製造方法
TWM606857U (zh) 低溫成型液晶配向膜之製程設備
JP2007140132A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
JPS59133A (ja) 液晶表示装置
JPH0475025A (ja) Lcdパネル
JPS58187914A (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP2737330B2 (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JP2834933B2 (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP2001083532A (ja) 液晶素子
JP5057900B2 (ja) 液晶パネルの製造方法
JP2003066423A (ja) 表示素子及びその製造方法
JPH02221922A (ja) 液晶表示装置
JPH09189915A (ja) 液晶表示素子の製造方法