JPS5910373B2 - 透明注形重合物の製造方法 - Google Patents
透明注形重合物の製造方法Info
- Publication number
- JPS5910373B2 JPS5910373B2 JP50113438A JP11343875A JPS5910373B2 JP S5910373 B2 JPS5910373 B2 JP S5910373B2 JP 50113438 A JP50113438 A JP 50113438A JP 11343875 A JP11343875 A JP 11343875A JP S5910373 B2 JPS5910373 B2 JP S5910373B2
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
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- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なる透明注形重合物およびその製法を提供
せんとするものである。
せんとするものである。
従来透明なプラスチツク材料として知られているものに
ポリメタクリル酸メチル、ジエチレングリコールピスア
リルカーボネート重合体（ＣＲ−３９）、ポリカーボネ
ート樹脂などがあり、これらの材料は軽量で美しくまた
丈夫であるために無機ガラスの用途の一部におきかわつ
て広く用いられている。しかしながら上記のプラスチツ
ク材料の大きな欠点はそのままでは著しく耐摩耗性、ひ
つかき強度に劣り、表面が傷つきやすく実用上の耐久性
が十分とはいえない点にある。この欠点を補う方法とし
て、上記の材料の表面を耐摩耗性に富んだ被覆膜でおお
つて耐摩耗性を改善する方法がよく知られており、種に
試みられているが、この方法は有効ではあるが被覆用硬
化性原料の調製、塗布および硬化などの余分の諸工程を
必要とし、経済的に製品のコスト高を招くとともに、技
術的にも種々の困難があつてことに大型の製品に欠陥な
し均一な被覆膜を形成させる技術はいまだ十分に発達す
るに至つていないのが実情と考えられる。本発明はこの
点にかんがみ、透明材料そのものが耐摩耗性において従
来の材料より著しくすぐれている材料とその製法を提供
せんとすることを目的としている。すなわち本発明は囚
なるシリコン化合物と８なるビニル単量体を組合せた混
合物を使用し、これを注形重合用鋳型内に注入して相対
的低温において光もしくは電離性放射線を照射したのち
触媒とともに加熱する方法より成るものである。従来シ
リコン化合物とビニル単量体とは、注形重合用材料とし
てこれを混合して用いる例は知られていない。その理由
は、シリコン化合物とビニル単量体の重合体は一般に相
溶性、親和性に乏しく、たとえば塗膜や被覆膜のような
薄層あるいは薄膜の状態においては十分な光透過率を有
する場合もあるが、注形重合物のような一定の容積厚み
を有する塊状物、板状物等を作る場合には透明性を失い
透明材料として使用しうる材料をうることができなかつ
た点によるものと考えられる。シリコン化合物とビニル
単量体の混合物とが相溶性を失うことなく重合して透明
な共重合物もしくは混合重合物を作ることができるよう
工夫すれば、シリコン化合物のすぐれた耐摩耗性とビニ
ル重合物のすぐれた機械的強度が兼備せられた透明材料
が得られ目的を達することができると考え、発明者らは
研究の結果本願の方法に到達した。本発明は囚 一般式 〔式中、Ｒ，は＋ＣＨ２ＣＨ２＋ｎ１（ｍは２〜６），
−ＣＨ２−ＣＨ−，または−ＣＨ−ＣＨ２−を表わし、
Ｒ２はＣ２〜４の直鎖状または枝分れ状アルキレン基を
表わし、Ｒ３はＣ１〜４の直鎖状または枝分れ状アルキ
ル基を表わし、Ｒ４は０Ｒ３またはＣ１〜，の直鎖状ま
たは枝分れ状アルキル基を表わし、Ｒ５はフエニルまた
はＣ，〜３の直鎖状または枝分れ状アルキル基を表わし
、ＸはＨまたはＣＨ，を表わし、そしてｎは１〜３の整
数である）を有するシリコン化合物又はこれらの加水分
解物から選ばれた少なくとも１種以上の化合物、８一般
式νυ 〔式中ＲはＣ，〜８の直鎖状または枝分れ状のアルキル
あるいはヒドロキシアルキル、グリシジルまたはベンジ
ルを表わし；Ｒｌ，Ｒ２およびＲ３はを表わし、Ｒｌ，
Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つは−ＣＨ，−０−Ｃ−
ＣＸ：ＣＨ，であり、Ｒ４は直鎖状または枝分れ状のア
ルキル基を表わし、Ｒ５はＣ，→の直鎖状または枝分れ
状のアルキレン基を表わし、ＸはＨまたはＣＨ，を表わ
し、ｎは１以上の整数を表わす）を有する重合性単量体
少なくとも１種、および０硫酸、塩酸、クロルスルホン
酸、過塩素酸、塩化スルフリル、クロルスルフオン酸、
塩化鉄、ホウ酸エチル、ナフテン酸コバルト、ナフテン
酸亜鉛、ナフテ７酸鉄、オクテン酸コバルト、オクテン
酸亜鉛、オクテン酸鉄、ラウリ７酸亜鉛、ラウリン酸コ
バルト、ラウリン酸鉄、アンモニア、苛性カリ、苛性ソ
ーダ、Ｐトルエンスルホン酸、りん酸、トリクロル酢酸
、ピロリん酸、ポリリん酸、三弗化硼素、四塩化チタン
、三塩化アルミニウム、過沃素酸、沃素、臭素、四塩化
スズ、またはルイス酸とアルコールあるいはエーテル等
との錯化合物から選ばれた硬化用触媒とを混合し、シリ
コン化合物と重合性単量体の合計重量に対しシリコン化
合物が２０〜７０重量％を構成し、シリコン化合物と硬
化触媒の合計重量に対して硬化触媒が０．０５〜１０重
量％を構成し、この混合物を注形重合用鋳型もしくは型
枠内に注入充填し、室温以下の温度において光もしくは
電離性放射線を照射したのち、このものを６０℃以上の
温度に加熱して重合硬化を完結せしめることを特徴とす
る透明注形重合物の製造方法に関する。
ポリメタクリル酸メチル、ジエチレングリコールピスア
リルカーボネート重合体（ＣＲ−３９）、ポリカーボネ
ート樹脂などがあり、これらの材料は軽量で美しくまた
丈夫であるために無機ガラスの用途の一部におきかわつ
て広く用いられている。しかしながら上記のプラスチツ
ク材料の大きな欠点はそのままでは著しく耐摩耗性、ひ
つかき強度に劣り、表面が傷つきやすく実用上の耐久性
が十分とはいえない点にある。この欠点を補う方法とし
て、上記の材料の表面を耐摩耗性に富んだ被覆膜でおお
つて耐摩耗性を改善する方法がよく知られており、種に
試みられているが、この方法は有効ではあるが被覆用硬
化性原料の調製、塗布および硬化などの余分の諸工程を
必要とし、経済的に製品のコスト高を招くとともに、技
術的にも種々の困難があつてことに大型の製品に欠陥な
し均一な被覆膜を形成させる技術はいまだ十分に発達す
るに至つていないのが実情と考えられる。本発明はこの
点にかんがみ、透明材料そのものが耐摩耗性において従
来の材料より著しくすぐれている材料とその製法を提供
せんとすることを目的としている。すなわち本発明は囚
なるシリコン化合物と８なるビニル単量体を組合せた混
合物を使用し、これを注形重合用鋳型内に注入して相対
的低温において光もしくは電離性放射線を照射したのち
触媒とともに加熱する方法より成るものである。従来シ
リコン化合物とビニル単量体とは、注形重合用材料とし
てこれを混合して用いる例は知られていない。その理由
は、シリコン化合物とビニル単量体の重合体は一般に相
溶性、親和性に乏しく、たとえば塗膜や被覆膜のような
薄層あるいは薄膜の状態においては十分な光透過率を有
する場合もあるが、注形重合物のような一定の容積厚み
を有する塊状物、板状物等を作る場合には透明性を失い
透明材料として使用しうる材料をうることができなかつ
た点によるものと考えられる。シリコン化合物とビニル
単量体の混合物とが相溶性を失うことなく重合して透明
な共重合物もしくは混合重合物を作ることができるよう
工夫すれば、シリコン化合物のすぐれた耐摩耗性とビニ
ル重合物のすぐれた機械的強度が兼備せられた透明材料
が得られ目的を達することができると考え、発明者らは
研究の結果本願の方法に到達した。本発明は囚 一般式 〔式中、Ｒ，は＋ＣＨ２ＣＨ２＋ｎ１（ｍは２〜６），
−ＣＨ２−ＣＨ−，または−ＣＨ−ＣＨ２−を表わし、
Ｒ２はＣ２〜４の直鎖状または枝分れ状アルキレン基を
表わし、Ｒ３はＣ１〜４の直鎖状または枝分れ状アルキ
ル基を表わし、Ｒ４は０Ｒ３またはＣ１〜，の直鎖状ま
たは枝分れ状アルキル基を表わし、Ｒ５はフエニルまた
はＣ，〜３の直鎖状または枝分れ状アルキル基を表わし
、ＸはＨまたはＣＨ，を表わし、そしてｎは１〜３の整
数である）を有するシリコン化合物又はこれらの加水分
解物から選ばれた少なくとも１種以上の化合物、８一般
式νυ 〔式中ＲはＣ，〜８の直鎖状または枝分れ状のアルキル
あるいはヒドロキシアルキル、グリシジルまたはベンジ
ルを表わし；Ｒｌ，Ｒ２およびＲ３はを表わし、Ｒｌ，
Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つは−ＣＨ，−０−Ｃ−
ＣＸ：ＣＨ，であり、Ｒ４は直鎖状または枝分れ状のア
ルキル基を表わし、Ｒ５はＣ，→の直鎖状または枝分れ
状のアルキレン基を表わし、ＸはＨまたはＣＨ，を表わ
し、ｎは１以上の整数を表わす）を有する重合性単量体
少なくとも１種、および０硫酸、塩酸、クロルスルホン
酸、過塩素酸、塩化スルフリル、クロルスルフオン酸、
塩化鉄、ホウ酸エチル、ナフテン酸コバルト、ナフテン
酸亜鉛、ナフテ７酸鉄、オクテン酸コバルト、オクテン
酸亜鉛、オクテン酸鉄、ラウリ７酸亜鉛、ラウリン酸コ
バルト、ラウリン酸鉄、アンモニア、苛性カリ、苛性ソ
ーダ、Ｐトルエンスルホン酸、りん酸、トリクロル酢酸
、ピロリん酸、ポリリん酸、三弗化硼素、四塩化チタン
、三塩化アルミニウム、過沃素酸、沃素、臭素、四塩化
スズ、またはルイス酸とアルコールあるいはエーテル等
との錯化合物から選ばれた硬化用触媒とを混合し、シリ
コン化合物と重合性単量体の合計重量に対しシリコン化
合物が２０〜７０重量％を構成し、シリコン化合物と硬
化触媒の合計重量に対して硬化触媒が０．０５〜１０重
量％を構成し、この混合物を注形重合用鋳型もしくは型
枠内に注入充填し、室温以下の温度において光もしくは
電離性放射線を照射したのち、このものを６０℃以上の
温度に加熱して重合硬化を完結せしめることを特徴とす
る透明注形重合物の製造方法に関する。
この方法を用いることにより、透明性を失うことなく全
成分が緊密かつ均質に一体化した注形重合物がえられこ
のものはすぐれた耐摩耗性と機械的強度を兼備している
ことが判明した。上記の方法において室温以下の相対的
低温において光または放射線を照射することによりまづ
８成分が重合し、５の重合体と囚成分とが均一に混合分
散した固形物がえられ、次に６０℃以上に加熱すること
によつて囚成分の三次元化硬化が主として進行するので
あつて、このような順序で反応させることによつて囚８
それぞれの重合体および硬化重合体が相分離、脱混合す
ることなく均質緊密に一体化した注形重合物がえられる
のである。照射に先立つて加熱し囚成分の反応を優先す
る方法によつたり、あるいは照射の代りに触媒とともに
高温加熱する方法によつたり、あるいは、また、照射を
過度の高温において行つたりすることにより囚成分の反
応が先行すれば系は失透したりゲル化したりして目的を
達することができないのである。本発明の方法は、室温
以下の相対的低温において光もしくは電離性放射線を照
射することにより囚の反応に先立つて８を相対的低温に
おいて重合させるという方法で目的を達したものである
。而うしてここで照射の際に用いられる相対的低温とは
少くとも室温以下であつて、系のガラス転移点以上であ
るいかなる温度でもよいが、好適には室温〜−７８℃の
温度特に好適な温度として０℃〜−５０℃を挙げること
ができる。本発明に用いる注形重合用鋳型とはガラス製
、金属製、プラスチツク製等いかなるものでもよく、ま
たその形状は目的とする注形物の種類に応じて平板状、
レンズ状、曲板状、円柱状、円筒状、プリズム状、球状
等種々の形状のものを注形できるよう設計された鋳型を
適宜選択する。放射線を照射したのち、ほぼ固形を保つ
た混合重合物がえられるからこれを脱枠あるいは離形し
たのち、その後の加熱を行つてもよいし、また鋳型のま
ま後の加熱を行つて重合を完結したのち脱枠離形しても
よい。後加熱の過程においては０なる触媒が囚の三次元
硬化を進行せしめて重合硬化を完結せしめるものである
が、その温度は少くとも６０℃以上であり好適には８０
〜１５０℃特に好適には８０〜１２０℃がよい。
成分が緊密かつ均質に一体化した注形重合物がえられこ
のものはすぐれた耐摩耗性と機械的強度を兼備している
ことが判明した。上記の方法において室温以下の相対的
低温において光または放射線を照射することによりまづ
８成分が重合し、５の重合体と囚成分とが均一に混合分
散した固形物がえられ、次に６０℃以上に加熱すること
によつて囚成分の三次元化硬化が主として進行するので
あつて、このような順序で反応させることによつて囚８
それぞれの重合体および硬化重合体が相分離、脱混合す
ることなく均質緊密に一体化した注形重合物がえられる
のである。照射に先立つて加熱し囚成分の反応を優先す
る方法によつたり、あるいは照射の代りに触媒とともに
高温加熱する方法によつたり、あるいは、また、照射を
過度の高温において行つたりすることにより囚成分の反
応が先行すれば系は失透したりゲル化したりして目的を
達することができないのである。本発明の方法は、室温
以下の相対的低温において光もしくは電離性放射線を照
射することにより囚の反応に先立つて８を相対的低温に
おいて重合させるという方法で目的を達したものである
。而うしてここで照射の際に用いられる相対的低温とは
少くとも室温以下であつて、系のガラス転移点以上であ
るいかなる温度でもよいが、好適には室温〜−７８℃の
温度特に好適な温度として０℃〜−５０℃を挙げること
ができる。本発明に用いる注形重合用鋳型とはガラス製
、金属製、プラスチツク製等いかなるものでもよく、ま
たその形状は目的とする注形物の種類に応じて平板状、
レンズ状、曲板状、円柱状、円筒状、プリズム状、球状
等種々の形状のものを注形できるよう設計された鋳型を
適宜選択する。放射線を照射したのち、ほぼ固形を保つ
た混合重合物がえられるからこれを脱枠あるいは離形し
たのち、その後の加熱を行つてもよいし、また鋳型のま
ま後の加熱を行つて重合を完結したのち脱枠離形しても
よい。後加熱の過程においては０なる触媒が囚の三次元
硬化を進行せしめて重合硬化を完結せしめるものである
が、その温度は少くとも６０℃以上であり好適には８０
〜１５０℃特に好適には８０〜１２０℃がよい。
囚群に含まれるシリコン化合物は次の通りである。
β−アミノエチル−β−アミノエチルトリメトキシシラ
ン、β−アミノエチル−β−アミノエチルトリエトキシ
シラン、β−アミノエチル−β−アミノエチルトリプロ
ポキシシラン、β−アミノエチル−β−アミノエチルト
リブトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、β−アミノエチル−γ
−アミノプロピルトリプロポキシシラン、β−アミノエ
チル−γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、γ−ア
ミノプロピル−β−アミノエチルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピル−β−アミノエチルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロビル−β−アミノエチルトリプロ
ポキシシラン、γ−アミノプロピル−β−アミノエチル
トリブトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピル−γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、γ−
アミノプロピル−γ−アミノプロピルロブトキシシラン
、β−アミノエチル−β−アミノエチルメチルジメトキ
シシラン、βーアミノエチル−β−アミノエチルメチル
ジエトキシシラン、β−アミノエチル−β−アミノエチ
ルメチルジプロポキシシラン、β−アミノエチル−β−
アミノエチルジメトキシシラン、β−アミノエチル−β
−アミノエチルエチルジエトキシシラン、β−アミノエ
チル−β−アミノエチルエチルジプロポキシシラン、β
−アミノエチル−β−アミノエチルプロピルジメトキシ
シラン、β−アミノエチル−β−アミノエチルプロピル
ジエトキシシラン、β−アミノエチル−β−アミノエチ
ルプロピルジプロポキシシラン、β−アミノエチル−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−アミノ
エチル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメチルジプロポ
キソシラン、β−アミノエチルγ−アミノプロピルエチ
ルジメトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプ
ロピルエチルジニトキシシラン、β−アミノエチル−γ
−アミノプロピルエチルジプロポキシシラン、β−アミ
ノエチル−γ−アミノプロピルプロピルジメトキシシラ
ン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピルプロピルジ
エトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピ
ルプロピルジプロポキシシラン、γ−アミノプロピル−
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γアミノ
プロピルγ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−アミノプロピル−γ−アミノプロピルメチルジプロ
ポキシシラン、γ−アミノプロピル−γ−アミノプロピ
ルエチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ−
アミノプロビルエチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピル−γ−アミノプロピルエチルジプロポキシシラン
、γ−アミノプロピル−γ−アミノプロピルプロピルジ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルγ−アミノプロビ
ルプロピルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ
−アミノプロピルプロピルジプロポキシシラン、ビニル
メチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキソシラ
ン、ビニルメチルジプロポキシシラン、ビニルメチルジ
プトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニ
ルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルジプロポキシ
シラン、ビニルプロピルジメトキシシラン、ビニルプロ
ピルジエトキシシラン、ビニルプロピルジプロポキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリプロポキシシラン、β−アクリロキ
シエチルトリメトキシシラン、β−アクリロキシエチル
トリエトキシシラン、β−アクリロキシエチルトリプロ
ポキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン
、γ−アクリロキソプロピルトリプロポキシシラン、β
−アクリロキシエチルメチルジメトキシシラン、β−ア
クリロキシエチルメチルジエトキシシラン、β−アクリ
ロキンエチルメチルジプロボキシシラン、β−アクリロ
キシエチルエチルジメトキシシラン、β−アクリロキソ
エチルジエトキシシラン、β−アクリロキシエチルエチ
ルジプロボキシシラン．βアクリロキシエチルプロピル
ジメトキシシラン、β−アクリロキシエチルプロピルジ
エトキシシラン、β−アクリロキシエチルプロピルジプ
ロボキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジプロポ
キシシラン、γ−アクリロキシプロピルエチルジメトキ
シシラン、γ−アクリロキシプロピルエチルジエトキシ
シラン、γ−アクリロキシプロピルエチルジプロボキシ
シラン、γ−アクリロキシプロピルジメトキシシラン、
γ−アクリロキシプロピルプロピルジエトキシシラン、
γ一アクリロキシプロピルプロピルジプロポキシシラン
、β−メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、β−
メタクリロキシエチルトリエトキシシラン、β−メタク
リロキシエチルトリプロポキJ■■シシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリプロポキシシラン、β−メタクリロ
キシエチルメチルジメトキシシラン、β−メタクリロキ
シエチルメチルジエトキシシラン、β−メタクリロキシ
エチルメチルジプロポキシシラン、β−メタクリロキシ
エチルエチルジメトキソシラン、β−メタクリロキシエ
チルエチルジエトキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルエチルジプロポキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルプロピルジメトキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルプロピルジエトキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルプロピルジプロポキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルメチルジプロポキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルエチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキソ
プロピルエチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルエチルジプロポキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルプロピルジメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルプロピルジエトキシシラン、γ−メタクリ
ロノキシプロピルプロピルジプロポキシシラン、β−グ
リシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキ
JャGチルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロ
ポキシシラン、βーグリシドキシエチルメチルジメトキ
シシラン、β−グリJャhキシエチルメチルジエトキシシ
ラン、β−グリシドキシエチルメチルジプロボキシシラ
ン、β−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、
β−グリシドキシエチルエチルジエトキシシラン、β−
グリシドキシエチルエチルジプロポキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキソプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルエチルジプロポキシシラン、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキソシラン、テトラプロポキシシラ
ン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン
、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシ
ラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、エチルトリプロポキシシラン、プロピルトリメ
トキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピル
トリプロポキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブ
チルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン
、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロボキシシラン、ジエチルジメトキシ
シラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジプロポ
キシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピル
ジエトキシシラン、ジプロピルジプロポキシシラン、ト
リメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、
トリメチルプロポキシシラン、トリエチルメトキシシラ
ン、トリエチルエトキシシラン、トリエチルプロポキシ
シラン、以上のアルコキシ基を一部もしくは全部加水分
解した加水分解物。
ン、β−アミノエチル−β−アミノエチルトリエトキシ
シラン、β−アミノエチル−β−アミノエチルトリプロ
ポキシシラン、β−アミノエチル−β−アミノエチルト
リブトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、β−アミノエチル−γ
−アミノプロピルトリプロポキシシラン、β−アミノエ
チル−γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、γ−ア
ミノプロピル−β−アミノエチルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピル−β−アミノエチルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロビル−β−アミノエチルトリプロ
ポキシシラン、γ−アミノプロピル−β−アミノエチル
トリブトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピル−γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、γ−
アミノプロピル−γ−アミノプロピルロブトキシシラン
、β−アミノエチル−β−アミノエチルメチルジメトキ
シシラン、βーアミノエチル−β−アミノエチルメチル
ジエトキシシラン、β−アミノエチル−β−アミノエチ
ルメチルジプロポキシシラン、β−アミノエチル−β−
アミノエチルジメトキシシラン、β−アミノエチル−β
−アミノエチルエチルジエトキシシラン、β−アミノエ
チル−β−アミノエチルエチルジプロポキシシラン、β
−アミノエチル−β−アミノエチルプロピルジメトキシ
シラン、β−アミノエチル−β−アミノエチルプロピル
ジエトキシシラン、β−アミノエチル−β−アミノエチ
ルプロピルジプロポキシシラン、β−アミノエチル−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−アミノ
エチル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
β−アミノエチル−γ−アミノプロピルメチルジプロポ
キソシラン、β−アミノエチルγ−アミノプロピルエチ
ルジメトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプ
ロピルエチルジニトキシシラン、β−アミノエチル−γ
−アミノプロピルエチルジプロポキシシラン、β−アミ
ノエチル−γ−アミノプロピルプロピルジメトキシシラ
ン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピルプロピルジ
エトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピ
ルプロピルジプロポキシシラン、γ−アミノプロピル−
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γアミノ
プロピルγ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−アミノプロピル−γ−アミノプロピルメチルジプロ
ポキシシラン、γ−アミノプロピル−γ−アミノプロピ
ルエチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ−
アミノプロビルエチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピル−γ−アミノプロピルエチルジプロポキシシラン
、γ−アミノプロピル−γ−アミノプロピルプロピルジ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルγ−アミノプロビ
ルプロピルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル−γ
−アミノプロピルプロピルジプロポキシシラン、ビニル
メチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキソシラ
ン、ビニルメチルジプロポキシシラン、ビニルメチルジ
プトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニ
ルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルジプロポキシ
シラン、ビニルプロピルジメトキシシラン、ビニルプロ
ピルジエトキシシラン、ビニルプロピルジプロポキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリプロポキシシラン、β−アクリロキ
シエチルトリメトキシシラン、β−アクリロキシエチル
トリエトキシシラン、β−アクリロキシエチルトリプロ
ポキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン
、γ−アクリロキソプロピルトリプロポキシシラン、β
−アクリロキシエチルメチルジメトキシシラン、β−ア
クリロキシエチルメチルジエトキシシラン、β−アクリ
ロキンエチルメチルジプロボキシシラン、β−アクリロ
キシエチルエチルジメトキシシラン、β−アクリロキソ
エチルジエトキシシラン、β−アクリロキシエチルエチ
ルジプロボキシシラン．βアクリロキシエチルプロピル
ジメトキシシラン、β−アクリロキシエチルプロピルジ
エトキシシラン、β−アクリロキシエチルプロピルジプ
ロボキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジプロポ
キシシラン、γ−アクリロキシプロピルエチルジメトキ
シシラン、γ−アクリロキシプロピルエチルジエトキシ
シラン、γ−アクリロキシプロピルエチルジプロボキシ
シラン、γ−アクリロキシプロピルジメトキシシラン、
γ−アクリロキシプロピルプロピルジエトキシシラン、
γ一アクリロキシプロピルプロピルジプロポキシシラン
、β−メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、β−
メタクリロキシエチルトリエトキシシラン、β−メタク
リロキシエチルトリプロポキJ■■シシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリプロポキシシラン、β−メタクリロ
キシエチルメチルジメトキシシラン、β−メタクリロキ
シエチルメチルジエトキシシラン、β−メタクリロキシ
エチルメチルジプロポキシシラン、β−メタクリロキシ
エチルエチルジメトキソシラン、β−メタクリロキシエ
チルエチルジエトキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルエチルジプロポキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルプロピルジメトキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルプロピルジエトキシシラン、β−メタクリロキシエチ
ルプロピルジプロポキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルメチルジプロポキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルエチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキソ
プロピルエチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルエチルジプロポキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルプロピルジメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルプロピルジエトキシシラン、γ−メタクリ
ロノキシプロピルプロピルジプロポキシシラン、β−グ
リシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキ
JャGチルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロ
ポキシシラン、βーグリシドキシエチルメチルジメトキ
シシラン、β−グリJャhキシエチルメチルジエトキシシ
ラン、β−グリシドキシエチルメチルジプロボキシシラ
ン、β−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、
β−グリシドキシエチルエチルジエトキシシラン、β−
グリシドキシエチルエチルジプロポキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキソプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルエチルジプロポキシシラン、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキソシラン、テトラプロポキシシラ
ン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン
、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシ
ラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、エチルトリプロポキシシラン、プロピルトリメ
トキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピル
トリプロポキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブ
チルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン
、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラ
ン、ジメチルジプロボキシシラン、ジエチルジメトキシ
シラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジプロポ
キシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピル
ジエトキシシラン、ジプロピルジプロポキシシラン、ト
リメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、
トリメチルプロポキシシラン、トリエチルメトキシシラ
ン、トリエチルエトキシシラン、トリエチルプロポキシ
シラン、以上のアルコキシ基を一部もしくは全部加水分
解した加水分解物。
８群に含まれる化合物は次の通りである。
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２エチ
ルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル
酸ベンジル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸ヒドロキ
シエチル、メタタリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸
ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル
、アクリル酸ヒドロキシブチル、メタクリル酸ヒドロキ
シブチル、アクリル酸ヒドロキシペンチル、メタクリル
酸ヒドロキシペンチル、アタリル酸ヒドロキシヘキシル
、メタクリル酸ヒドロキシヘキシル、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレ
ート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジメタクリレート、ブタンジオールジアクリ
レート、ブタンジオールジメタクリレート、ペンタンジ
オールジアクリレート、ベンタンジオールジメタクリレ
ート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアク
リレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピ
レングリコールジメタクリレート、テトラプロピレング
リコールジアクリレート、テトラプロピレングリコール
ジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリ
レート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、
メタクリロキシエチルフオスフエート、ジメタクリロキ
シエチルフオスフエート、トリメタクリロキシエチルフ
オスフエート、アクリロキシエチルフオスフエート、ジ
アクリロキシエチルフオスフエート、トリアクリロキシ
エチルフオスフエート、およびこれら単量体の重量の４
０％を超えない分量で下記の単量体を含んでいても良い
。
酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２エチ
ルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル
酸ベンジル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸ヒドロキ
シエチル、メタタリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸
ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル
、アクリル酸ヒドロキシブチル、メタクリル酸ヒドロキ
シブチル、アクリル酸ヒドロキシペンチル、メタクリル
酸ヒドロキシペンチル、アタリル酸ヒドロキシヘキシル
、メタクリル酸ヒドロキシヘキシル、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレ
ート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジメタクリレート、ブタンジオールジアクリ
レート、ブタンジオールジメタクリレート、ペンタンジ
オールジアクリレート、ベンタンジオールジメタクリレ
ート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアク
リレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピ
レングリコールジメタクリレート、テトラプロピレング
リコールジアクリレート、テトラプロピレングリコール
ジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリ
レート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、
メタクリロキシエチルフオスフエート、ジメタクリロキ
シエチルフオスフエート、トリメタクリロキシエチルフ
オスフエート、アクリロキシエチルフオスフエート、ジ
アクリロキシエチルフオスフエート、トリアクリロキシ
エチルフオスフエート、およびこれら単量体の重量の４
０％を超えない分量で下記の単量体を含んでいても良い
。
無水マレイン酸、イタコン酸、ジアリルフタレート、ジ
エチレングリコール、ビスアリルカーボネート、エチレ
ングリコールビスアリルカーボネート、プロピレングリ
コールビスアリルカーボネート、ジプロピレングリコー
ルビスアリルカーボネート、アクリロニトリル、アクリ
ル酸、メタクリル酸、メタクリロニトリル、ジアリルイ
タコネート、ジアリルアセテート、ジアリルマレエート
、ジビニルベンゼン、スチレン、ビニルカルバゾール、
ジアリルサクシネート、トリアリルソアヌレート、ジプ
ロパルギルマレエート、ジプロパルギルフタレート、ジ
プロパルギルイタコネート、ジアリルイソフタレート、
トリアリルイソシアヌレート、ジアリルベンゼンフオス
フエート、ジアリルベンゼンフオスフオネート、ビニル
トルエン、αメチルスチレン、酢酸ビニル。
エチレングリコール、ビスアリルカーボネート、エチレ
ングリコールビスアリルカーボネート、プロピレングリ
コールビスアリルカーボネート、ジプロピレングリコー
ルビスアリルカーボネート、アクリロニトリル、アクリ
ル酸、メタクリル酸、メタクリロニトリル、ジアリルイ
タコネート、ジアリルアセテート、ジアリルマレエート
、ジビニルベンゼン、スチレン、ビニルカルバゾール、
ジアリルサクシネート、トリアリルソアヌレート、ジプ
ロパルギルマレエート、ジプロパルギルフタレート、ジ
プロパルギルイタコネート、ジアリルイソフタレート、
トリアリルイソシアヌレート、ジアリルベンゼンフオス
フエート、ジアリルベンゼンフオスフオネート、ビニル
トルエン、αメチルスチレン、酢酸ビニル。
シリコン化合物がシリコン化合物と重合性単量体との合
計重量の２０〜７０重量％、好ましくは４０〜６０重量
％を構成し、硬化触媒が硬化触媒とシリコン化合物との
合計重量の０，０５〜１０重量％、好ましくは０．１〜
６重量％を構成する。
計重量の２０〜７０重量％、好ましくは４０〜６０重量
％を構成し、硬化触媒が硬化触媒とシリコン化合物との
合計重量の０，０５〜１０重量％、好ましくは０．１〜
６重量％を構成する。
実施例 １γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン５０部、メチルメタクリレート５０部、過塩素酸０．
５部を混合し、これをシリンダー状注形重合物をうるた
めの金属金型（シリンダーの内径５０１１ｔ１Ｌ）に注
入し、コバルト６０より放射されるγ線を線量率毎時３
×１０５レントゲンで２５℃の温度を保つて５時間照射
したのち、８０℃において４時間加熱し、重合を完結し
た気泡などの欠陥のない無色透明な注形重合物を得た。
ン５０部、メチルメタクリレート５０部、過塩素酸０．
５部を混合し、これをシリンダー状注形重合物をうるた
めの金属金型（シリンダーの内径５０１１ｔ１Ｌ）に注
入し、コバルト６０より放射されるγ線を線量率毎時３
×１０５レントゲンで２５℃の温度を保つて５時間照射
したのち、８０℃において４時間加熱し、重合を完結し
た気泡などの欠陥のない無色透明な注形重合物を得た。
この注形重合物は、たとえばレンズ状に一定厚みに切断
したのち、研磨法により曲率を与える加工を施し、眼鏡
レンズなどの用途に使用できることがわかつた。
したのち、研磨法により曲率を与える加工を施し、眼鏡
レンズなどの用途に使用できることがわかつた。
重合物の耐摩耗性は落砂試験（ＡＳＴＭ，Ｄ−６７３−
４４）後のヘイズ値（ＡＳＴＭ，Ｄ−１００３−６１）
において１７．５％であり、ポリメチルメタクリレート
単独でのヘイズ値が６０．４％であることからして著る
しく改良されていることが認められた。耐溶剤性は、ほ
とんどの溶媒に対して不溶であり、また耐熱性は１５０
℃においても使用に耐え熱変形を示さないことが判明し
た。実施例 ２テトラブトキシシラン１００部、水２０
部、工チルアルコール１００部、塩酸０．１部を混合し
、５０℃で４時間かけて加水分解物を調製した。
４４）後のヘイズ値（ＡＳＴＭ，Ｄ−１００３−６１）
において１７．５％であり、ポリメチルメタクリレート
単独でのヘイズ値が６０．４％であることからして著る
しく改良されていることが認められた。耐溶剤性は、ほ
とんどの溶媒に対して不溶であり、また耐熱性は１５０
℃においても使用に耐え熱変形を示さないことが判明し
た。実施例 ２テトラブトキシシラン１００部、水２０
部、工チルアルコール１００部、塩酸０．１部を混合し
、５０℃で４時間かけて加水分解物を調製した。
この加水分解物２０部、１，３−ブタンジオールジメタ
クリレート８０部を混合し、これを４０ＣＷＬ×４０Ｃ
！１ＬＸ１５］１１の試料を作るための無機ガラス製板
状型枠に注入し、−３０℃において、コバルト６０より
放射されるγ線を線量率毎時４Ｘ１０５レントゲンで４
時間重合させ、さらに照射後８０℃において１時間、１
００℃において１時間加熱したところ、気泡などの欠陥
の全くない重合物を得た。この重合物の耐摩耗性は落砂
試験後のヘイズ値において１５．２％であり、ほとんど
の溶媒に対して侵されず、また２５０℃においても使用
に耐え熱変形を示さぬことが判つた。実施例 ３ ジエチレングリコールジアクリレート５０部、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン５０部の混合
物にジイソプロピルペルオキシカーボネート０．５部を
添加し、これを３０Ｃ！！Ｌ×３０ｃｍｘ１０１１！の
板状試料を作れるように構成された無機ガラス製型枠に
注入し、−５０℃に冷却してセシウム１３７線源からγ
線を線量率毎時２×１０５レントゲンで６時間照射し、
さらに８０℃で２時間加熱したところ光学歪や気泡など
の欠陥の全くない共重合物をえた。
クリレート８０部を混合し、これを４０ＣＷＬ×４０Ｃ
！１ＬＸ１５］１１の試料を作るための無機ガラス製板
状型枠に注入し、−３０℃において、コバルト６０より
放射されるγ線を線量率毎時４Ｘ１０５レントゲンで４
時間重合させ、さらに照射後８０℃において１時間、１
００℃において１時間加熱したところ、気泡などの欠陥
の全くない重合物を得た。この重合物の耐摩耗性は落砂
試験後のヘイズ値において１５．２％であり、ほとんど
の溶媒に対して侵されず、また２５０℃においても使用
に耐え熱変形を示さぬことが判つた。実施例 ３ ジエチレングリコールジアクリレート５０部、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリメトキシシラン５０部の混合
物にジイソプロピルペルオキシカーボネート０．５部を
添加し、これを３０Ｃ！！Ｌ×３０ｃｍｘ１０１１！の
板状試料を作れるように構成された無機ガラス製型枠に
注入し、−５０℃に冷却してセシウム１３７線源からγ
線を線量率毎時２×１０５レントゲンで６時間照射し、
さらに８０℃で２時間加熱したところ光学歪や気泡など
の欠陥の全くない共重合物をえた。
この共重合物の耐摩耗性は落砂後のヘイズ値において２
０．３％であり、ほとんどの溶媒に不溶であり、また２
５０℃の使用においても熱変形を示さぬことが認められ
た。実施例 ４２−ヒドロキシエチルメタクリレート５
０部、β−（−３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン５０部、過塩素酸０．１部を混合
し、これを無機ガラス製の各底辺のなす角が６０℃であ
るプリズム製造用の型枠内に注入し−５０℃においてコ
バルト６０より放射されるγ線を線量率毎時２×１０５
レントゲンで６時間照射したのち、８０℃で２時間加熱
して、光学歪がなく気泡の混入が全く認められない注形
重合物を得た。
０．３％であり、ほとんどの溶媒に不溶であり、また２
５０℃の使用においても熱変形を示さぬことが認められ
た。実施例 ４２−ヒドロキシエチルメタクリレート５
０部、β−（−３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン５０部、過塩素酸０．１部を混合
し、これを無機ガラス製の各底辺のなす角が６０℃であ
るプリズム製造用の型枠内に注入し−５０℃においてコ
バルト６０より放射されるγ線を線量率毎時２×１０５
レントゲンで６時間照射したのち、８０℃で２時間加熱
して、光学歪がなく気泡の混入が全く認められない注形
重合物を得た。
この重合物の耐摩耗性は落砂試験後のヘイズ値において
１６．４％であり、ほとんどの溶媒に対して侵されず、
また、２００℃においても使用に耐え熱変形を示さぬこ
とが判つた。実施例 ５ メチルメタクリレート６０部、ビニルトリス（β−メト
キシエトキシシラン）２０部、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン２０部、過塩素酸０．１部を混合
しこれを５０Ｃ！ＩＬＸ５ＯＣＴ！Ｌ×１０１ｎ！の板
状試料を作れるように構成された無機ガラス板製型枠に
注入し、２５℃で高圧水銀灯より放射される最大エネル
ギー波長が３６００Ａの光を、光源下１０ＣＩ！Ｌの距
離において試料に照射し、４時間重合をおこない気泡な
どの欠陥のない注形重合物を得た。
１６．４％であり、ほとんどの溶媒に対して侵されず、
また、２００℃においても使用に耐え熱変形を示さぬこ
とが判つた。実施例 ５ メチルメタクリレート６０部、ビニルトリス（β−メト
キシエトキシシラン）２０部、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン２０部、過塩素酸０．１部を混合
しこれを５０Ｃ！ＩＬＸ５ＯＣＴ！Ｌ×１０１ｎ！の板
状試料を作れるように構成された無機ガラス板製型枠に
注入し、２５℃で高圧水銀灯より放射される最大エネル
ギー波長が３６００Ａの光を、光源下１０ＣＩ！Ｌの距
離において試料に照射し、４時間重合をおこない気泡な
どの欠陥のない注形重合物を得た。
この共重合物はほとんどすべての溶媒に不溶であり、落
砂試験後のヘイズ値は１５．１（Ｆ６であり、２００℃
においても使用に耐えることが判明した。
砂試験後のヘイズ値は１５．１（Ｆ６であり、２００℃
においても使用に耐えることが判明した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １〔Ａ〕一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、又はＲ＾５＿ｎＳ
ｉ（ＯＲ＾３）＿４＿〜＿ｎ〔式中Ｒ＿１は■ＣＨ＿２
ＣＨ＿２■＿ｍ（ｍは２〜６）・▲数式、化学式、表等
があります▼または▲数式、化学式、表等があります▼
を表わし、Ｒ＾２はＣ＿２＿〜＿４の直鎖状または枝分
れ状アルキレン基を表わし、Ｒ＾３はＣ＿１＿〜＿４の
直鎖状または枝分れ状アルキル基を表わし、Ｒ＾４はＯ
Ｒ＾３またはＣ＿１＿〜＿３の直鎖状または枝分れ状ア
ルキル基を表わし、Ｒ＾５はフェニルまたはＣ＿１＿〜
＿３の直鎖状または枝分れ状アルキル基を表わし、Ｘは
ＨまたはＣＨ＿３を表わし、そしてｎは１〜３の整数で
ある〕を有するシリコン化合物又はこれらの加水分解物
から選ばれた少なくとも１種以上の化合物、〔Ｂ〕一般
式▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ （式中ＲはＣ＿１＿〜＿８の直鎖状または枝分れ状のア
ルキルあるいはヒドロキシアルキル、グリシジルまたは
ベンジルを表わし；Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３は▲数
式、化学式、表等があります▼または−ＣＨ＿２−ＯＨ
を表わし、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３の少なくとも１
つは▲数式、化学式、表等があります▼であり、Ｒ＾４
は直鎖状または枝分れ状のアルキル基を表かし、Ｒ＾５
はＣ＿２＿〜＿６の直鎖状または枝分れ状のアルキレン
基を表わし、ＸはＨまたはＣＨ＿３を表わし、ｎは１以
上の整数を表わす、）を有する重合性単量体少なくとも
１種、〔Ｃ〕硫酸、塩酸、クロルスルホン酸、過塩素酸
、塩化スルフリル、クロルスルフォン酸、塩化鉄、ホウ
酸エチル、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ナフ
テン酸鉄、オクテン酸コバルト、オクテン酸亜鉛、オク
テン酸鉄、ラウリン酸亜鉛、ラウリン酸コバルト、ラウ
リン酸鉄、アンモニア、苛性カリ、苛性ソーダ、Ｐトル
エンスルホン酸、りん酸、トリクロル酢酸、ピロりん酸
、ポリりん酸、三弗化硼素、四塩化チタン、三塩化アル
ミニウム、過沃素酸、沃素、臭素、四塩化スズ、または
ルイス酸とアルコールあるいはエーテル等との錯化合物
から選ばれた硬化用触媒とを混合し、シリコン化合物と
重合性単量体の合計重量に対しシリコン化合物が２０〜
７０重量％を構成し、シリコン化合物と硬化触媒の合計
重量に対して硬化触媒が０．０５〜１０重量％を構成し
、この混合物を注形重合用鋳型もしくは型枠内に注入充
填し室温以下の温度において光もしくは電離性放射線を
照射したのち、このものを６０℃以上の温度に加熱して
重合硬化を完結せしめることを特徴とする透明注形重合
物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50113438A JPS5910373B2 (ja) | 1975-09-19 | 1975-09-19 | 透明注形重合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50113438A JPS5910373B2 (ja) | 1975-09-19 | 1975-09-19 | 透明注形重合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5237997A JPS5237997A (en) | 1977-03-24 |
| JPS5910373B2 true JPS5910373B2 (ja) | 1984-03-08 |
Family
ID=14612216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50113438A Expired JPS5910373B2 (ja) | 1975-09-19 | 1975-09-19 | 透明注形重合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5910373B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5792004A (en) * | 1980-11-29 | 1982-06-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Electron radiation curing composition |
| CA1186436A (en) * | 1981-09-30 | 1985-04-30 | Michael J. Michno, Jr. | Curable molding compositions containing a poly(acrylate) |
| US6541593B1 (en) * | 1997-11-12 | 2003-04-01 | Kaneka Corporation | Process for the preparation of polyether oligomer containing reactive silicon group |
-
1975
- 1975-09-19 JP JP50113438A patent/JPS5910373B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5237997A (en) | 1977-03-24 |
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