JPS59101095A - 不揮発性半導体メモリ - Google Patents
不揮発性半導体メモリInfo
- Publication number
- JPS59101095A JPS59101095A JP57209051A JP20905182A JPS59101095A JP S59101095 A JPS59101095 A JP S59101095A JP 57209051 A JP57209051 A JP 57209051A JP 20905182 A JP20905182 A JP 20905182A JP S59101095 A JPS59101095 A JP S59101095A
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- Japan
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- write
- signal
- pgm8
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技俯分野〕
この発明はデータ抄込み時に高電圧を印加する不揮発性
記憶素子をメモリセルとして附いた不揮発性半導体メモ
リに関し、特f:複数個のメモリセルに対して同時Cニ
データ貞込みを行なう不揮発性半導体メモリに関する。
記憶素子をメモリセルとして附いた不揮発性半導体メモ
リに関し、特f:複数個のメモリセルに対して同時Cニ
データ貞込みを行なう不揮発性半導体メモリに関する。
f:J+J1 pはメモリセルとしてたとえば浮遊ゲー
ト購造を持っMCJ8 FgT ’g用いた不揮発性半
導体メモリの、1ビット分の溝成を示す回路図である。
ト購造を持っMCJ8 FgT ’g用いた不揮発性半
導体メモリの、1ビット分の溝成を示す回路図である。
因においてメモリセルであるMO8FET11のゲート
には行デコーダからの信号Xが与えられ、またこのM(
J8FhiTZZに対し℃直列接続されている列選択用
のM(JSI”13T 120〕ゲートには列デコー
ダからの信号Yが与えられるo’した。上記列選択用の
MO8FET72の一端はセンスアンプの入力端に接続
されているとともに、上記メモリセル用のMO8L”E
TZZi二対してデータ舒込みを行なうデータ潜込制御
回路13の出力端にも接続され℃いる0 上配デ一タ書込制御回路I3は、入力データが論理Oレ
ベルの時【二通常の電源゛市1圧Vc(たとえば+5V
)よりも高電圧の書込用電圧Vp〔たとえば+21v〕
を発生1−るためのものでアリ、ディプレッション型の
M(JSF[]T14゜15.16それぞれを負荷菓子
としかつエンハンスメント型のM(J8FETI7.1
B、I9それぞkli駆動素子とする多段継続接続され
た3段のE/D型インバータ20.21.22と。
には行デコーダからの信号Xが与えられ、またこのM(
J8FhiTZZに対し℃直列接続されている列選択用
のM(JSI”13T 120〕ゲートには列デコー
ダからの信号Yが与えられるo’した。上記列選択用の
MO8FET72の一端はセンスアンプの入力端に接続
されているとともに、上記メモリセル用のMO8L”E
TZZi二対してデータ舒込みを行なうデータ潜込制御
回路13の出力端にも接続され℃いる0 上配デ一タ書込制御回路I3は、入力データが論理Oレ
ベルの時【二通常の電源゛市1圧Vc(たとえば+5V
)よりも高電圧の書込用電圧Vp〔たとえば+21v〕
を発生1−るためのものでアリ、ディプレッション型の
M(JSF[]T14゜15.16それぞれを負荷菓子
としかつエンハンスメント型のM(J8FETI7.1
B、I9それぞkli駆動素子とする多段継続接続され
た3段のE/D型インバータ20.21.22と。
その一端が上記書込用゛直圧Vp印加点【二、その他端
が前記列選択用のMO8FuTI2Cそれぞれ接続され
、そのゲートに上記EZD型インバータ22の出力信号
が与えられるエンハンスメント型のM(J8Fl(T2
Jと、上記EZD型インバータ22の出力端と基姑電位
VS印加点との間に接続され、データ書込みを行なう時
にのみ論理0レベルとなる制御信号PGMがそのゲート
に与えられるエンハンスメント型のMO8FTl!3T
24とから構成されている0このような構成(二おいて
、入力データがthi理0レベルの時、制御信号PGM
が論理0レベルであり、MOSFET、?4がオフして
いれば、3段縦沼続接続されているEZD型インバータ
の終段のインバータ22の出力信号はVpとなる口する
と、vpがMOS l”ET 23のゲートに与えられ
るので、このM(J8FBT 23がオンする。
が前記列選択用のMO8FuTI2Cそれぞれ接続され
、そのゲートに上記EZD型インバータ22の出力信号
が与えられるエンハンスメント型のM(J8Fl(T2
Jと、上記EZD型インバータ22の出力端と基姑電位
VS印加点との間に接続され、データ書込みを行なう時
にのみ論理0レベルとなる制御信号PGMがそのゲート
に与えられるエンハンスメント型のMO8FTl!3T
24とから構成されている0このような構成(二おいて
、入力データがthi理0レベルの時、制御信号PGM
が論理0レベルであり、MOSFET、?4がオフして
いれば、3段縦沼続接続されているEZD型インバータ
の終段のインバータ22の出力信号はVpとなる口する
と、vpがMOS l”ET 23のゲートに与えられ
るので、このM(J8FBT 23がオンする。
そし℃データ書込制御回路I3からはVpよりもM(J
8FET23のしきい値電圧分だけ低下した電圧が出力
される◎このとき1列選択用の■νIUsFgTz2の
ゲート!=与えられる信号Yがvpであれば、 コ17
J M (J S F E’l’ I 2がオンジ。
8FET23のしきい値電圧分だけ低下した電圧が出力
される◎このとき1列選択用の■νIUsFgTz2の
ゲート!=与えられる信号Yがvpであれば、 コ17
J M (J S F E’l’ I 2がオンジ。
メモリセル用のMO8FETZIのドレインにはVpに
二近い高′市圧が与えられる。さらC二この時5MO8
FgT11のゲート【:与えられる信号XがVpであれ
ば、このM(JSFgTZ Iのチャネルに−′流が流
れ、これによって発生した電子、正孔対のうちの電子が
浮遊ゲートに注入されてMOiSFhiTZZのしきい
値が上昇するロ一方、入力データが論理ルベルとfLっ
ているとき(二は、g/D型インバータ22の出力信号
ハv s トrxす、MO8FWT、2.7がオフする
ので、この場合にMO8FETZZのドレインS二は高
電圧は与えられない0したがって、上記のような゛電流
は流れず1MuSF’[i:Tz Zのしきい値電圧は
変化せず元のままとなる。すなわち、このようにメモリ
セルにおけるデータはそのしきい値゛電圧の高低の形で
記憶される。
二近い高′市圧が与えられる。さらC二この時5MO8
FgT11のゲート【:与えられる信号XがVpであれ
ば、このM(JSFgTZ Iのチャネルに−′流が流
れ、これによって発生した電子、正孔対のうちの電子が
浮遊ゲートに注入されてMOiSFhiTZZのしきい
値が上昇するロ一方、入力データが論理ルベルとfLっ
ているとき(二は、g/D型インバータ22の出力信号
ハv s トrxす、MO8FWT、2.7がオフする
ので、この場合にMO8FETZZのドレインS二は高
電圧は与えられない0したがって、上記のような゛電流
は流れず1MuSF’[i:Tz Zのしきい値電圧は
変化せず元のままとなる。すなわち、このようにメモリ
セルにおけるデータはそのしきい値゛電圧の高低の形で
記憶される。
ところで、上記のような不揮発性半導体メモリは通常、
複数ビット出力構成(たとえば1ワード8ビツト)がと
られる。
複数ビット出力構成(たとえば1ワード8ビツト)がと
られる。
第2図はlワードが8ビツトの不揮発性半痕体メモリの
従来の構成を示すブロックあである0図において311
〜31sはそれぞれ複数のメモリセルが設けられている
第1ビツト目から第8ビツト目のメモリ火ルアレイであ
るoまだ。
従来の構成を示すブロックあである0図において311
〜31sはそれぞれ複数のメモリセルが設けられている
第1ビツト目から第8ビツト目のメモリ火ルアレイであ
るoまだ。
32はこれら各メモリセルアレイ3Il〜318の行選
択な行なう行デコーダ、33は同じく列選択を行なう列
デコーダであり、この行デコーダ320列デコーダ33
−二はアドレスデータが与えられる□341〜348は
上記列デコーダ33からのデコード出力信号が与えられ
、それぞれ前記MIJ 8 F ET Z 2C対応す
るMOSFETが複数設けられている列選択用ゲート回
路であり、これら各列選択用ゲート回路34゜〜34B
には第1ないし第8ビツト目0)入カ、データD、〜D
、それぞれが与えられるデータ葺込制御回路35.〜3
58がらの出力信号が与えられるロマだ上記データ悔込
制御回路35゜〜36.1”ニーは前記制御信号iて1
が並列的に与えられる。
択な行なう行デコーダ、33は同じく列選択を行なう列
デコーダであり、この行デコーダ320列デコーダ33
−二はアドレスデータが与えられる□341〜348は
上記列デコーダ33からのデコード出力信号が与えられ
、それぞれ前記MIJ 8 F ET Z 2C対応す
るMOSFETが複数設けられている列選択用ゲート回
路であり、これら各列選択用ゲート回路34゜〜34B
には第1ないし第8ビツト目0)入カ、データD、〜D
、それぞれが与えられるデータ葺込制御回路35.〜3
58がらの出力信号が与えられるロマだ上記データ悔込
制御回路35゜〜36.1”ニーは前記制御信号iて1
が並列的に与えられる。
このようなFkt成でなるメモリでは、制御信号PGM
に同期して、8ビツトのうち複数ビットで同時【ニデー
タの1゛込みが行なわれる。
に同期して、8ビツトのうち複数ビットで同時【ニデー
タの1゛込みが行なわれる。
上記第2図に示すような、複数ビット構成でなる従来の
メモリでは複数ビットで同時Cニデータの書込みが行な
われるため、瞬時に極めて大きな書込電流の電流変化が
生じる。すると書込用の高電圧Vpv与える電源にノイ
ズ等が乗り。
メモリでは複数ビットで同時Cニデータの書込みが行な
われるため、瞬時に極めて大きな書込電流の電流変化が
生じる。すると書込用の高電圧Vpv与える電源にノイ
ズ等が乗り。
コノノイズC二よって回路が語動作を起こすことがある
。たとえば、vp電源は、メモリセルでデータの書込み
を行なわない時は行デコーダ32等で約5mA程度の電
流しか消費されないが、8ピツトで同時に書き込みが行
なわれる場合には1つのメモリセル(:2〜3mAの電
流が流れるため五二合計で16〜24mAもの電流が瞬
時に流れることになるーこのため、電#(たとえばVp
電源あるいはVs)にノイズが発生し、入力データやア
ドレスデータの判定レベルが変動し、論理レベルが誤ま
って判定され工しよう。最近では、メモリ容量の増大と
ともに全メモリセルへのデータ書込みに要する時間が益
々増加しているために、各メモリセルでのデータ冊込み
時間を短縮するような種々の工夫がなされていて、より
短時間でデータ書込みが行なえるメモリが開発されてい
るβ(例えは、1ビツトが数μ(8)〜数百μ気で書き
込みが可能である)、シこのように、より書込み時間の
短縮がなされたメモリでは、上記電源ノイズ【二よって
誤動作が発生する確率が益々高くなってしまう0すなわ
ち誤動作の時間が短かくても、書き込み時間が短縮され
℃いるためデータが誤まって書込まれてしよう口 〔発明の目的〕 この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は、複数ビットでデータの書込みを行な
う際に電源ノイズの発生が防止でき、よって書込み時に
誤動作が生じない不揮発性半導体メモリを提供すること
にある。
。たとえば、vp電源は、メモリセルでデータの書込み
を行なわない時は行デコーダ32等で約5mA程度の電
流しか消費されないが、8ピツトで同時に書き込みが行
なわれる場合には1つのメモリセル(:2〜3mAの電
流が流れるため五二合計で16〜24mAもの電流が瞬
時に流れることになるーこのため、電#(たとえばVp
電源あるいはVs)にノイズが発生し、入力データやア
ドレスデータの判定レベルが変動し、論理レベルが誤ま
って判定され工しよう。最近では、メモリ容量の増大と
ともに全メモリセルへのデータ書込みに要する時間が益
々増加しているために、各メモリセルでのデータ冊込み
時間を短縮するような種々の工夫がなされていて、より
短時間でデータ書込みが行なえるメモリが開発されてい
るβ(例えは、1ビツトが数μ(8)〜数百μ気で書き
込みが可能である)、シこのように、より書込み時間の
短縮がなされたメモリでは、上記電源ノイズ【二よって
誤動作が発生する確率が益々高くなってしまう0すなわ
ち誤動作の時間が短かくても、書き込み時間が短縮され
℃いるためデータが誤まって書込まれてしよう口 〔発明の目的〕 この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は、複数ビットでデータの書込みを行な
う際に電源ノイズの発生が防止でき、よって書込み時に
誤動作が生じない不揮発性半導体メモリを提供すること
にある。
この発明では、データ書込制御回路の動作を制御する制
御信号を信号遅延回路に二よって順次遅延し、遅延iJ
の制御信号3よびこの遅延された各信号を複数のデータ
書込制御回路C二与えることによって書込開始時刻に差
を持たせ、これ(二よって瞬時の書込′@電流変化抑制
して電源)施 イズの発生を押え、データ晋込み時C二府動作が庄じな
い不揮発性半導体メモリが提供されている口 〔発明の実施例〕 以下図面を参照してこの発明の一実施例な説明する◎第
3図はこの発明(二係る不揮発性半得体メモリを、従来
と同様に1ワードが8ビツト構成のものに実施した場合
のブロック図であり。
御信号を信号遅延回路に二よって順次遅延し、遅延iJ
の制御信号3よびこの遅延された各信号を複数のデータ
書込制御回路C二与えることによって書込開始時刻に差
を持たせ、これ(二よって瞬時の書込′@電流変化抑制
して電源)施 イズの発生を押え、データ晋込み時C二府動作が庄じな
い不揮発性半導体メモリが提供されている口 〔発明の実施例〕 以下図面を参照してこの発明の一実施例な説明する◎第
3図はこの発明(二係る不揮発性半得体メモリを、従来
と同様に1ワードが8ビツト構成のものに実施した場合
のブロック図であり。
mJ記第2因中と対応する箇所C二は同一符号を付して
その説明は省略するDしたがって、第2図とは異なる箇
所のみを抽出して説明する。第2図回路では、複数のデ
ータ疑込制御回路35□〜35畠蚤二対して制御信号P
GM化並列的に与えるようにしたが、この実施例回路で
は7個の信号遅延回路36.〜36.を多段縦続接A’
v’6 L 。
その説明は省略するDしたがって、第2図とは異なる箇
所のみを抽出して説明する。第2図回路では、複数のデ
ータ疑込制御回路35□〜35畠蚤二対して制御信号P
GM化並列的に与えるようにしたが、この実施例回路で
は7個の信号遅延回路36.〜36.を多段縦続接A’
v’6 L 。
その初段の信号遅延回路361に前記制御信号PGMを
与えて順次遅延された信号PGM2〜PGM8を得て、
8個のデータ癲:込制御回路35、〜358に信号PG
M、PGM、l’〜PGMB’12<それぞれ与えるよ
うCしたものである◎このような構成でなる回路におい
て、信号PGM、?〜PGM8は信号PGMの立下りに
対してその立下り時刻が順次遅くなっ℃いるため。
与えて順次遅延された信号PGM2〜PGM8を得て、
8個のデータ癲:込制御回路35、〜358に信号PG
M、PGM、l’〜PGMB’12<それぞれ与えるよ
うCしたものである◎このような構成でなる回路におい
て、信号PGM、?〜PGM8は信号PGMの立下りに
対してその立下り時刻が順次遅くなっ℃いるため。
各データ書込制御回路35.〜358でデータを書込む
場合にその書込み開始時刻に差ができる。このため%複
数ビットで同時C:前記高電圧Vpから電流が流れ始め
ることがなく、瞬時に極め℃大きな書込電流の電流変化
が生じることがlい。この結果、Vp電源あるいはVS
ライすることができる。
場合にその書込み開始時刻に差ができる。このため%複
数ビットで同時C:前記高電圧Vpから電流が流れ始め
ることがなく、瞬時に極め℃大きな書込電流の電流変化
が生じることがlい。この結果、Vp電源あるいはVS
ライすることができる。
第4囚は上記信号遅延回路36.〜367の1段分の構
成を示す回路図である。ここでは信号遅延回路はそのゲ
ート【ニー足のバイアス電圧vAが与えられているディ
プレッション型のM(JS F E’rで構成されでい
る◎第5−は上記信号遅延回路36.〜36丁の1段分
の他の構成を示す回路図であり、信号遅延回路は直列接
続された2個のインバータ41゜り 42によって構成され℃いる。この第r図あるいは第5
図に示すような構成の信号遅延回路では信号P GMT
極くわずかな肋−間ずつ、たとえば200〜500n8
程度遅延させるように丁ればよいので、信号PGMを遅
延させたことによるデータ書込みに要する時間の増加は
ほとんど問題とはならない◎ なお、この発明は上記実施例じ限定されるものではなく
種々の変形か可能であることはいうまでもない。たとえ
ば第2図に示す実施例回路は1ワードが8ビツト構成で
ある場合について説明したが、これは何ビットのもので
も実施が可能である。
成を示す回路図である。ここでは信号遅延回路はそのゲ
ート【ニー足のバイアス電圧vAが与えられているディ
プレッション型のM(JS F E’rで構成されでい
る◎第5−は上記信号遅延回路36.〜36丁の1段分
の他の構成を示す回路図であり、信号遅延回路は直列接
続された2個のインバータ41゜り 42によって構成され℃いる。この第r図あるいは第5
図に示すような構成の信号遅延回路では信号P GMT
極くわずかな肋−間ずつ、たとえば200〜500n8
程度遅延させるように丁ればよいので、信号PGMを遅
延させたことによるデータ書込みに要する時間の増加は
ほとんど問題とはならない◎ なお、この発明は上記実施例じ限定されるものではなく
種々の変形か可能であることはいうまでもない。たとえ
ば第2図に示す実施例回路は1ワードが8ビツト構成で
ある場合について説明したが、これは何ビットのもので
も実施が可能である。
よ
Iた。上記実施例では、信号遅延回路361〜36□を
多段縦続接続したが、これは信号PGMとデータ書き込
み制御回路35□の間に遅延回路36.を信号PGMと
データMき込み35、の間C二遅延回路367を設ける
ようにしかつ遅延回路36□〜36.の各々の遅延時間
(=差を持たせるよう≦二するなどの種々の応用が可能
であろn 〔発明の効果〕 以上説明したようにこの発明によれば、メモ9セルへの
データ書込み開始時刻に差な持たせるようにしてデータ
書込み時における瞬時の大きな電流変化の発生を抑制す
るようにしたので、電源ノイズの発生が防止でき、もっ
て書込み時に誤動作が生じない不揮発性半導体メモリを
提供することができろ口したがって、特に最近の書込み
時間がJ: j)短縮化されたメモリに適用丁ればその
効果は極めて大きい。
多段縦続接続したが、これは信号PGMとデータ書き込
み制御回路35□の間に遅延回路36.を信号PGMと
データMき込み35、の間C二遅延回路367を設ける
ようにしかつ遅延回路36□〜36.の各々の遅延時間
(=差を持たせるよう≦二するなどの種々の応用が可能
であろn 〔発明の効果〕 以上説明したようにこの発明によれば、メモ9セルへの
データ書込み開始時刻に差な持たせるようにしてデータ
書込み時における瞬時の大きな電流変化の発生を抑制す
るようにしたので、電源ノイズの発生が防止でき、もっ
て書込み時に誤動作が生じない不揮発性半導体メモリを
提供することができろ口したがって、特に最近の書込み
時間がJ: j)短縮化されたメモリに適用丁ればその
効果は極めて大きい。
第1図は不揮発性半埠体メモリの1ビット分の構成2示
す回路図、第2図は複数ビット性成でなる従来のメモリ
の構成を示すブロック図。 第3図はこ[7J発明の一実施例のq構成を示すブロッ
ク囚、第4図および第5図はそれぞれ第3図中の一部分
を具体的に示す回路図である。 3I・・・メモリセルアレイ、32・・・行デコーダ。 33・・・列デコーダ、34・・・列選択用ゲート回路
。 35・・・データ薔込制細回路、36・・・信号遅延n
路口 出願人代理人 弁理土鈴 江 武 彦
す回路図、第2図は複数ビット性成でなる従来のメモリ
の構成を示すブロック図。 第3図はこ[7J発明の一実施例のq構成を示すブロッ
ク囚、第4図および第5図はそれぞれ第3図中の一部分
を具体的に示す回路図である。 3I・・・メモリセルアレイ、32・・・行デコーダ。 33・・・列デコーダ、34・・・列選択用ゲート回路
。 35・・・データ薔込制細回路、36・・・信号遅延n
路口 出願人代理人 弁理土鈴 江 武 彦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 α)不揮発性1ピ憶累子力\らなる複数のメモリセルと
、アト°レスデータに基づいて同時に複数個の上記メモ
リセルな選択する手段と、上記手段により選択された複
数個のメモリセル【二対し各入力データに応じてデータ
書込みを行なう複数のデータ書込制御手段と、上記複数
のデータ書込制御手段におけるデータ書込動作の15!
i ’J8時刻に差を持たせる時刻差発圧手段とを具υ
H7したことヲ特徴とする不揮発性半導体メモリ。 (2) 前記時刻差発生手段が、削記復数の各データ書
込制御手段のデータ書込動作を制御する制御信号をj1
慣次遅延する多段縦続接続された16号遅延手段から購
成される特許請求の範囲第1項C記戦の不揮発性半纏体
メモ9゜
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57209051A JPS59101095A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 不揮発性半導体メモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57209051A JPS59101095A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 不揮発性半導体メモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59101095A true JPS59101095A (ja) | 1984-06-11 |
Family
ID=16566435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57209051A Pending JPS59101095A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 不揮発性半導体メモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59101095A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4839868A (en) * | 1986-09-18 | 1989-06-13 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device having sense amplifiers with delayed and stopped drive times |
US4860258A (en) * | 1986-10-20 | 1989-08-22 | Thomson Semiconducteurs | Electrically programmable non-volatile memory having sequentially deactivated write circuits |
JP2001222882A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-08-17 | Motorola Inc | ピーク・プログラム電流低減装置および方法 |
JP2003331589A (ja) * | 2003-06-13 | 2003-11-21 | Hitachi Ltd | 不揮発性メモリ装置 |
-
1982
- 1982-11-29 JP JP57209051A patent/JPS59101095A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4839868A (en) * | 1986-09-18 | 1989-06-13 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device having sense amplifiers with delayed and stopped drive times |
US4860258A (en) * | 1986-10-20 | 1989-08-22 | Thomson Semiconducteurs | Electrically programmable non-volatile memory having sequentially deactivated write circuits |
JP2001222882A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-08-17 | Motorola Inc | ピーク・プログラム電流低減装置および方法 |
JP2003331589A (ja) * | 2003-06-13 | 2003-11-21 | Hitachi Ltd | 不揮発性メモリ装置 |
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