JPS589846A - 時計用ガラス文字板の製造方法 - Google Patents
時計用ガラス文字板の製造方法Info
- Publication number
- JPS589846A JPS589846A JP10799781A JP10799781A JPS589846A JP S589846 A JPS589846 A JP S589846A JP 10799781 A JP10799781 A JP 10799781A JP 10799781 A JP10799781 A JP 10799781A JP S589846 A JPS589846 A JP S589846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- tin oxide
- etching
- glass plate
- oxide film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/34—Masking
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラス文字板をエツチングで製造する゛方法に
関するものである。
関するものである。
従来より、ガラス文字板は貴石より安価に貴石□肩文字
板を製造する方法として用いられてきた。
板を製造する方法として用いられてきた。
しかし1ガラス文字板も貴石文字板も同じ欠点を有して
いる。すなわち、両者とも非常にもろいため、通常の金
属文字板のようにマークや文字を植えることができない
。これは植文字のための(L2■φ程度の穴をあけるこ
とができないためである、このため、ガラス文字板や貴
石文字板はマークや文字を印刷する以外手段はなかった
。印刷したマーりや文字は平面的で、ガラスや貴石の美
しさを引き立てる効果に乏−しいという欠点があった。
いる。すなわち、両者とも非常にもろいため、通常の金
属文字板のようにマークや文字を植えることができない
。これは植文字のための(L2■φ程度の穴をあけるこ
とができないためである、このため、ガラス文字板や貴
石文字板はマークや文字を印刷する以外手段はなかった
。印刷したマーりや文字は平面的で、ガラスや貴石の美
しさを引き立てる効果に乏−しいという欠点があった。
ガラスをエツチングで加工した例は過失にも数多くある
が、文字板の!−りや文字を得るためには精度の悪いパ
ラフィンをマスクにした方法等を用いることができない
。一般に行なわれるのはクーム、金を蒸着してこれをガ
ラスエツチングのマスクとして使用す゛る方法であるが
、高価な金を用い、會た真空恍を用いるためコスシが高
くなるきいう欠点がある。
が、文字板の!−りや文字を得るためには精度の悪いパ
ラフィンをマスクにした方法等を用いることができない
。一般に行なわれるのはクーム、金を蒸着してこれをガ
ラスエツチングのマスクとして使用す゛る方法であるが
、高価な金を用い、會た真空恍を用いるためコスシが高
くなるきいう欠点がある。
本発明は、このような1配の欠□点を改善し、ガラスの
もつ貴石間の美しさと植文字のもつ立体的な美しさを安
価に得るガラス文字板の製造方法を提供するものである
。
もつ貴石間の美しさと植文字のもつ立体的な美しさを安
価に得るガラス文字板の製造方法を提供するものである
。
ガラスはその成分が麿10..Nano、ICAO、O
aO,llgo、ムt、O,,Bad、Too。
aO,llgo、ムt、O,,Bad、Too。
、BIOII!no などであるがこれらの成分はほと
んどすべてがフッ素系エツチング液、例えば7ツ酸、7
ツ化アンモニウムなどに溶解する。一方、酸化スズ8n
O2は基本的には上記酸化物と変わりはないように思え
るが、本発明者は酸化スズがフッ素系エツチング液に対
してきわめてすぐれた耐エツチング性を示すことを発見
した。
んどすべてがフッ素系エツチング液、例えば7ツ酸、7
ツ化アンモニウムなどに溶解する。一方、酸化スズ8n
O2は基本的には上記酸化物と変わりはないように思え
るが、本発明者は酸化スズがフッ素系エツチング液に対
してきわめてすぐれた耐エツチング性を示すことを発見
した。
この理由は確かではないが、鉛が7ツ酸中に浸漬される
と強固な酸化鉛皮膜をつくうである程度以上浸されない
という現象と同じと考えられる。
と強固な酸化鉛皮膜をつくうである程度以上浸されない
という現象と同じと考えられる。
酸化スズのフッ素系エツチング液に対する難溶性の性質
を用いて、本発明者はガラス文字板を製造した。
を用いて、本発明者はガラス文字板を製造した。
以下、本発明を実施例に従りて詳細に説明する実施例
平担度の良い厚さa s si * Ii N ’■φ
のD!63ガラス(商品名ニジ1ット社、成分!810
゜48弧、M*@07%、ムt、0.4%、に、041
g、BaO[L8%、B、0.9%、znoa%)を十
分洗浄したのち、両面に(IVD法によりてzoooi
の酸化スズを形成した。酸化スズの厚みは1001〜1
μであり、望ましくは300〜50001である。厚み
が1001以下ではピンホールが多くエツチングマスク
としては使用できず、またガラス材質によってはエツチ
ング速度の選択比を十分にとることができない。一方、
−厚みが1μを越えると酸化スズに微細な亀裂が生じや
すく、また酸化スズのパターニングの際のサイドエッチ
量が大きくなり高精度を要求される文字板には使用が困
難である。厚みが500〜30001では酸化スズはピ
ンホール、亀裂がほとんどなく緻密で、あるためエツチ
ングマスクとして適している。
のD!63ガラス(商品名ニジ1ット社、成分!810
゜48弧、M*@07%、ムt、0.4%、に、041
g、BaO[L8%、B、0.9%、znoa%)を十
分洗浄したのち、両面に(IVD法によりてzoooi
の酸化スズを形成した。酸化スズの厚みは1001〜1
μであり、望ましくは300〜50001である。厚み
が1001以下ではピンホールが多くエツチングマスク
としては使用できず、またガラス材質によってはエツチ
ング速度の選択比を十分にとることができない。一方、
−厚みが1μを越えると酸化スズに微細な亀裂が生じや
すく、また酸化スズのパターニングの際のサイドエッチ
量が大きくなり高精度を要求される文字板には使用が困
難である。厚みが500〜30001では酸化スズはピ
ンホール、亀裂がほとんどなく緻密で、あるためエツチ
ングマスクとして適している。
酸化スズ形成後、ガラスの片面をフォトエッチ ゛
フグ法によって第18!iHのようにパターニングした
、文字、マークの部分に酸化スズおよびフォトレジスト
が残っている。次に、、このガラス板を次の条件でエツ
チングした。
フグ法によって第18!iHのようにパターニングした
、文字、マークの部分に酸化スズおよびフォトレジスト
が残っている。次に、、このガラス板を次の条件でエツ
チングした。
〈エツチング液〉
49@H1液 t3 o e o / Lグリセリ
ン 50 @ a / L水
870 ・ ・/l〈エツチング条件〉 温度 60℃ 時間 60分 エツチング探さは1sO#であうた↓ 第2図にエツチング後のガラスの断面を示す。
ン 50 @ a / L水
870 ・ ・/l〈エツチング条件〉 温度 60℃ 時間 60分 エツチング探さは1sO#であうた↓ 第2図にエツチング後のガラスの断面を示す。
酸化スズ唱とフォトレジメ)2をマスク←してエツチン
グしたところ70〜800のテ・−パを生じ、非常に立
体的な文字、マークができた。次に、フォトレジスト、
酸化スズを剥離した。酸化スズは透明であるが屈折率が
ガラスよりも太き%sため、角度によって酸化スズ膜の
全反射が生じギラつきとなるので除去することが望まし
い0.酸化スズを除去したのち、ガラスを染色し、裏面
に染色と同系統の塗料3をぬってガラス文字板を完成し
た。
グしたところ70〜800のテ・−パを生じ、非常に立
体的な文字、マークができた。次に、フォトレジスト、
酸化スズを剥離した。酸化スズは透明であるが屈折率が
ガラスよりも太き%sため、角度によって酸化スズ膜の
全反射が生じギラつきとなるので除去することが望まし
い0.酸化スズを除去したのち、ガラスを染色し、裏面
に染色と同系統の塗料3をぬってガラス文字板を完成し
た。
酸化スズでマスクされたガラスの表面は、酸化スズを除
去するともとの美しいガラス面を現わし、エツチングさ
れた面も均一にエツチングされるため、もとの平担度を
そのままもっている。
去するともとの美しいガラス面を現わし、エツチングさ
れた面も均一にエツチングされるため、もとの平担度を
そのままもっている。
上記の実施例では、アルカリ亜鉛ホウケイ酸ガラスのみ
を述べたが、本発明者はソーダガラス−ホウケイ酸ガラ
ス、石英ガラス、カリガラス等に9いても全く同様の結
果を得ることができた。
を述べたが、本発明者はソーダガラス−ホウケイ酸ガラ
ス、石英ガラス、カリガラス等に9いても全く同様の結
果を得ることができた。
酸化スズは文字通り酸化物であるためガラスとの密着性
がきわめて良好であり、またパターニングに際しては、
ガラスを侵さないで酸化スズのみを容易にエツチングで
きるため作業が容易である□。
がきわめて良好であり、またパターニングに際しては、
ガラスを侵さないで酸化スズのみを容易にエツチングで
きるため作業が容易である□。
次に、本発明によって得られる効果を列配する(1)安
価である。
価である。
材料O安い酸化スズを、簡単なovn法で形成できるた
め安い。
め安い。
(6)ガラス材質を選ばない。
酸化スズはほとんどあらゆるガラスに対して密着よく形
成することができ、またほとんどのガラスに比べてエツ
チング速度が1000分の1以下であるため文字板用ガ
ラスの材質を選ばない。
成することができ、またほとんどのガラスに比べてエツ
チング速度が1000分の1以下であるため文字板用ガ
ラスの材質を選ばない。
これによって、自由にガラス文字板を設計することがで
きる。
きる。
(a)エツチング面が立体的である。
ガラスは等末的にエツチングされるため、サイドエツチ
ングが必然的に生ずる。酸化スズはもろく薄いためマス
クとしてオーバーハングすることなく次^と落ちてゆく
のでエツチング断面に70〜80@のテーバを生ずる。
ングが必然的に生ずる。酸化スズはもろく薄いためマス
クとしてオーバーハングすることなく次^と落ちてゆく
のでエツチング断面に70〜80@のテーバを生ずる。
これがエツチング面に立体感を与えている。
(4)酸化スズの除去が容易である。
酸化スズは、ガラスを侵すことなく単独でエツチングす
ることができる。酸化スズの剥離液として代表的なもの
は、亜鉛粉末に塩酸をかけたときに生ずる発生期の水素
、および2価のクロムが5価のクロムに酸化するときの
還元力がある。
ることができる。酸化スズの剥離液として代表的なもの
は、亜鉛粉末に塩酸をかけたときに生ずる発生期の水素
、および2価のクロムが5価のクロムに酸化するときの
還元力がある。
以上に述べたように、本発明によって貴石にはない立体
的な外観を与えるガラス文字板を得ることができるため
、実用上極めてすぐれた発明である。
的な外観を与えるガラス文字板を得ることができるため
、実用上極めてすぐれた発明である。
第1[はガラス表面に形成したパターンを1第filは
ガラスエツチング後の断面を、第3図は裏面に論料をぬ
ったガラス文字板の断面をそれぞれ示す。 以上 出願人 株式金社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務
ガラスエツチング後の断面を、第3図は裏面に論料をぬ
ったガラス文字板の断面をそれぞれ示す。 以上 出願人 株式金社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務
Claims (1)
- ガラス文字板において、ガラス表面に1oo1以上1#
以下の酸化スズ皮膜を形成しこれをフォトエツチング法
等でパターニングした後、ガラス表面に残された酸化ス
ズをマスクとしてガラスをフッ素系エツチング液でエツ
チングし、ガラス上に文学書マーク慾枠等の凹部又は凸
部を形成したことを特徴とする時計用ガラス文字板の製
造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10799781A JPS589846A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 時計用ガラス文字板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10799781A JPS589846A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 時計用ガラス文字板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS589846A true JPS589846A (ja) | 1983-01-20 |
Family
ID=14473360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10799781A Pending JPS589846A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 時計用ガラス文字板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS589846A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61161427U (ja) * | 1985-03-28 | 1986-10-06 | ||
JP2019124065A (ja) * | 2018-01-17 | 2019-07-25 | 株式会社Kvk | 水栓 |
-
1981
- 1981-07-09 JP JP10799781A patent/JPS589846A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61161427U (ja) * | 1985-03-28 | 1986-10-06 | ||
JP2019124065A (ja) * | 2018-01-17 | 2019-07-25 | 株式会社Kvk | 水栓 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS589846A (ja) | 時計用ガラス文字板の製造方法 | |
JPS57161857A (en) | Photomask blank plate | |
US10162310B2 (en) | Method of forming a decorative surface on a micromechanical timepiece part and said micromechanical timepiece part | |
JPS55161240A (en) | Photomask | |
GB1425628A (en) | Electroforming fine mesh and matrix therefor | |
DE1771951A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer weitgehend gleichmaessigen poren- bzw. feinlunkerfreien Metallschicht | |
JPS57196589A (en) | Manufacture of nonlinear element | |
JP2721103B2 (ja) | 硝子器の加飾材料及び加飾方法 | |
JPH079073B2 (ja) | 膜形成方法 | |
JPS6021935B2 (ja) | 時計用ガラス文字板の製造方法 | |
EP0412812A1 (en) | Method of changing the appearance of glass | |
JPS621340B2 (ja) | ||
JPS57147634A (en) | Photomask blank | |
JPS56130751A (en) | Manufacture of mask | |
JPS5598707A (en) | Forming method of glass thick film light circuit | |
JPS5618429A (en) | Minute electrode formation | |
DE544050C (de) | Verfahren zur Beschriftung von Zifferblaettern | |
JPS55163539A (en) | Photo mask | |
JPS5735860A (en) | Preparation of photomask | |
JPS57114143A (en) | Photomask for photoetching | |
JPS5739176A (en) | Preparation of decorative stainless steel | |
JPS56119127A (en) | Photomask manufacture | |
JPS589845A (ja) | ガラスのエツチング方法 | |
JPS6021934B2 (ja) | 硝子器の加飾方法 | |
JPS5667935A (en) | Preparation method of semiconductor system |