JPS589845A - ガラスのエツチング方法 - Google Patents
ガラスのエツチング方法Info
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- JPS589845A JPS589845A JP10799681A JP10799681A JPS589845A JP S589845 A JPS589845 A JP S589845A JP 10799681 A JP10799681 A JP 10799681A JP 10799681 A JP10799681 A JP 10799681A JP S589845 A JPS589845 A JP S589845A
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- glass
- etching
- tin oxide
- etched
- film
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/355—Temporary coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は酸化スズをマスクとしたガラスのエツチング方
法に関するものである。
法に関するものである。
従来、ガラスのエツチングはつや消し、つや出し、模様
付は等特殊な外観を得るために用いられていた。つや出
し、つや消しを目的とするエツチングは、ガラス材質に
対応したエツチング液を用いることによって行なわれる
。また、模様付け、刻字はガラス表面にパラフィンをぬ
り、エツ＋ｙグしたい部分のパラフィンをけずり取り、
その部分をエツチングすることによって行なう。これら
゛の方法は、外観を得るために行なわれるために、精密
な加工を対象とする場合には適当でない。−ガラスを精
密にエツチング加工する方法として次のような方法が行
なわれてい・る。
付は等特殊な外観を得るために用いられていた。つや出
し、つや消しを目的とするエツチングは、ガラス材質に
対応したエツチング液を用いることによって行なわれる
。また、模様付け、刻字はガラス表面にパラフィンをぬ
り、エツ＋ｙグしたい部分のパラフィンをけずり取り、
その部分をエツチングすることによって行なう。これら
゛の方法は、外観を得るために行なわれるために、精密
な加工を対象とする場合には適当でない。−ガラスを精
密にエツチング加工する方法として次のような方法が行
なわれてい・る。
（ｌ）クロム、金をガラス表面に真空蒸着し、フォトエ
ツチング法によって不要部のクロム、金を除去し、残っ
たり謬ム、金をエツチングマスクとしてガラスをエツチ
ングする。
ツチング法によって不要部のクロム、金を除去し、残っ
たり謬ム、金をエツチングマスクとしてガラスをエツチ
ングする。
（２）イヒ学切削用感光ガラスを用いる。 この方法は
ケイ酸、酸化リチウムを主成分としたガラスをつくり、
その上にネガを置き５ｔｏｐｓぐらいの紫外線を２秒〜
３分間照射し、のちに６００℃で１時間ぐらい熱処理し
てメタケイ酸リチウム（Ｌｉ□Ｏ・ａｔｏｍ）の微細な
結晶を成長さｉたのち、これを２０℃のフッ酸溶液で処
理すると結晶部分とガラス部分の溶解速度の差によって
、被照射部分のみを選択的に溶解させて加工する方法で
ある。
ケイ酸、酸化リチウムを主成分としたガラスをつくり、
その上にネガを置き５ｔｏｐｓぐらいの紫外線を２秒〜
３分間照射し、のちに６００℃で１時間ぐらい熱処理し
てメタケイ酸リチウム（Ｌｉ□Ｏ・ａｔｏｍ）の微細な
結晶を成長さｉたのち、これを２０℃のフッ酸溶液で処
理すると結晶部分とガラス部分の溶解速度の差によって
、被照射部分のみを選択的に溶解させて加工する方法で
ある。
しかしながら１前者は真空装置と金を用いるため高価に
なる。後者はガラス材質を選択する余地がほとんどなく
、またガラス自体が高価である。
なる。後者はガラス材質を選択する余地がほとんどなく
、またガラス自体が高価である。
本発明は、このような上記の欠点を改善した安価な精密
ガラスのエツチング方法を提供するものである。
ガラスのエツチング方法を提供するものである。
次に本発明の構成を詳細に述べる。
精密エツチング加工したい′ガラス基板をよ（洗浄、乾
燥したのち、ＯＴＤ法により酸化スズ（Ｉｍｐ、）を形
成する。酸化スズの厚みは１００１〜１７ａ”ｔ’ア’
ｌ、好ｔＬ＜ ハｓ ｏ ｏ−ｓ ｏ ｏ ｏ １であ
る。酸化スズの厚みが１ｏｏｆより少ない場合はピンホ
ールが多くエツチングｉスクとしては使用できず、また
ガラス材質によりてはエツチング速度の選択比を十分に
とることができない、厚みが１μを越えると酸化スズに
微細なりラックが生じやすく、重た酸化スズのバターニ
ングの際のサイドエツチングが太き（使用することが困
難にスズはピンホール、クラックがはとんどなく緻密で
あり、またガラスをエツチングする際生ずるサイドエッ
チによる酸化スズのオーバーハングがこの厚み範闘では
容易に脱落するため、ガラスのエツチング断面が一様な
傾斜を持つことができる。
燥したのち、ＯＴＤ法により酸化スズ（Ｉｍｐ、）を形
成する。酸化スズの厚みは１００１〜１７ａ”ｔ’ア’
ｌ、好ｔＬ＜ ハｓ ｏ ｏ−ｓ ｏ ｏ ｏ １であ
る。酸化スズの厚みが１ｏｏｆより少ない場合はピンホ
ールが多くエツチングｉスクとしては使用できず、また
ガラス材質によりてはエツチング速度の選択比を十分に
とることができない、厚みが１μを越えると酸化スズに
微細なりラックが生じやすく、重た酸化スズのバターニ
ングの際のサイドエツチングが太き（使用することが困
難にスズはピンホール、クラックがはとんどなく緻密で
あり、またガラスをエツチングする際生ずるサイドエッ
チによる酸化スズのオーバーハングがこの厚み範闘では
容易に脱落するため、ガラスのエツチング断面が一様な
傾斜を持つことができる。
次に、酸化スズの上にレジストを形成する。
レジストは印刷によって形成してもよいが、精度が要求
される場合はフォトレジストを用いる。
される場合はフォトレジストを用いる。
酸化スズのエツチングは亜鉛粉末と塩酸を混合して得ら
れる発生期の水素を用いるか、２価クロムが３価クロム
に酸化する時の還元力を用いる。特に後者は浸漬のみで
酸化スズをエツチングできるので精密なパターニングに
は適している。
れる発生期の水素を用いるか、２価クロムが３価クロム
に酸化する時の還元力を用いる。特に後者は浸漬のみで
酸化スズをエツチングできるので精密なパターニングに
は適している。
酸化スズをエツチングしたのち、フッ素系工、チンダ液
によりて基板のガラスをエツチングする。
によりて基板のガラスをエツチングする。
例えばソーメガラスは１−程度のフッ醗溶液、アルカリ
亜鉛ホウケイ酸ガラスは１０襲程度の７ツ １酸溶液
を用いる。
亜鉛ホウケイ酸ガラスは１０襲程度の７ツ １酸溶液
を用いる。
フッ酸に対するガラスと酸化スズのエツチング速度の差
は、比較的エツチングされにくいアルカリ夏鉛傘つケイ
酸ガラスにおいても２５００倍以上である。このため数
１ｏｏＬｏ酸化スズをマスタすれば１００μ以上のエツ
チングを容易に行なうことができる。しかし、ガラスは
本質的に等末的であるため、深さ方向と同程度の横方向
のエツチングが生ずるので、エツチング深さと加工精度
には一定の限界がある。
は、比較的エツチングされにくいアルカリ夏鉛傘つケイ
酸ガラスにおいても２５００倍以上である。このため数
１ｏｏＬｏ酸化スズをマスタすれば１００μ以上のエツ
チングを容易に行なうことができる。しかし、ガラスは
本質的に等末的であるため、深さ方向と同程度の横方向
のエツチングが生ずるので、エツチング深さと加工精度
には一定の限界がある。
このようにして加工したガラスのエツチング断面は７０
〜８０”のテーパを有している。
〜８０”のテーパを有している。
次に、本発明の実施例を以下に述べる。
実施例１
厚み（Ｌ５５■のアルカリ亜鉛ホウケイ酸系のｐ２６Ｂ
ガラス（商品名８シ璽ット社 成分工いづれも重量比で
、１１１０．４８弧、夏＆、０７襲。
ガラス（商品名８シ璽ット社 成分工いづれも重量比で
、１１１０．４８弧、夏＆、０７襲。
ムｔ、０．４ ％ 、に、０６ ％ 、 １ａ ｏ
（Ｌ ８ ％ ａｍｌ ＠ Ｏ６９％ 、 Ｚ ｘ
０ ４ ％ ）を十分洗浄、乾燥した後、ＯＶＤ法で
酸化スズ（Ｉｍｐ１）を厚さ５００１形成した。この上
に周知の７オトレジストを塗布し、露光、現像をしてパ
ターンを形成した後、クエン酸２００ ｔ ／ ｌ ＃
塩酸５０ ｆ ／ ｌに金属クロムを１０ ｔ ／ Ｌ
溶解した溶液で６０℃で酸化スズをエツチングした。こ
れを４９ＩＣ１［ν溶液８０ ＠ ＠／ｌ−ａグリセリ
ン５０ ＠ｏ ／ ｌのエツチング液で６０℃で３０分
エツチングしたところ、深さ６５μの凹部を形成するこ
とができた０次に、残った酸化゛スズを前述と同じエツ
チング液でエツチングしたのち、凹凸面に銀を蒸着した
。エツチング面はなめらかであり、凹部は７０〜８０゜
のテーパを有するため、形成されたパターンは立体的に
見える。これを時計用文字板として使用したところ、き
わめて高級な外観が得られた。一般に貴石文字板、ガラ
ス文字板は植文字ができないため時刻文字は印刷に依存
しているため、平面的である。しかし、本発明によるガ
ラスエッチジグ方法を用いた文字板は裏面処理によって
高価な貴石調を出せるのみならず立体的な文字が得られ
るため、貴石をしのぐ外観を有することがで−た。
（Ｌ ８ ％ ａｍｌ ＠ Ｏ６９％ 、 Ｚ ｘ
０ ４ ％ ）を十分洗浄、乾燥した後、ＯＶＤ法で
酸化スズ（Ｉｍｐ１）を厚さ５００１形成した。この上
に周知の７オトレジストを塗布し、露光、現像をしてパ
ターンを形成した後、クエン酸２００ ｔ ／ ｌ ＃
塩酸５０ ｆ ／ ｌに金属クロムを１０ ｔ ／ Ｌ
溶解した溶液で６０℃で酸化スズをエツチングした。こ
れを４９ＩＣ１［ν溶液８０ ＠ ＠／ｌ−ａグリセリ
ン５０ ＠ｏ ／ ｌのエツチング液で６０℃で３０分
エツチングしたところ、深さ６５μの凹部を形成するこ
とができた０次に、残った酸化゛スズを前述と同じエツ
チング液でエツチングしたのち、凹凸面に銀を蒸着した
。エツチング面はなめらかであり、凹部は７０〜８０゜
のテーパを有するため、形成されたパターンは立体的に
見える。これを時計用文字板として使用したところ、き
わめて高級な外観が得られた。一般に貴石文字板、ガラ
ス文字板は植文字ができないため時刻文字は印刷に依存
しているため、平面的である。しかし、本発明によるガ
ラスエッチジグ方法を用いた文字板は裏面処理によって
高価な貴石調を出せるのみならず立体的な文字が得られ
るため、貴石をしのぐ外観を有することがで−た。
実施例２
酸化スズを導電材として用いている液晶表示用上パネル
ガラスを酸化スズエツチング後、実施例１で用いたガラ
スエツチング液で２分間エツチングした。なお１ガッス
材質厚みは実施例１と同じである。エツチング量は３μ
であった。このパネルガラスを通常の手順で配向処理を
施したのち、ガラスエツチング処理を施していない下パ
ネルガラスと組み合わせて液晶表示セルを作製した。こ
のようにして作った液晶セルに電圧を印加して表示した
ところ立体感のある表示が得られた。従来、液晶表示は
平面的で立体感、高級感に乏しいと言われてきたが、本
発明によりて非常に安価に立体表示、高級表示を得るこ
とができたり実施例３ 厚さａ５■、径２５■φのソーダガラス（成分８いづれ
も重量比で、８１０．７０％、Ｐｊａｎｏｌ ２ ％
、 Ｏａ ０８ ％ ｍ Ｍ ｇ ＯＢ ％ ｅムｔ、
ｏ、ｓ幡、に嘗０２％、！ＩａＯａ５襲）の両面に酸化
スｘヲａ ｖ Ｄ法で１０００１形成した。次に、フォ
シエッチング法で表裏別々のパターンを形成したのち、
４Ｐ％ｌｌＦ２０ｏＯ／ｌ、グリセリン５゜。このとき
、表裏のパターンの一部がガラスエツチングによって表
裏貫通するように位置合わせし ・である、エツチング
深さはｓｏｏμで表裏に所定の凹凸が形成され、一部は
上下貫通した。これを酸化スズを剥離したのち再び両面
に０７１法で酸化スズを形成した。これにフォトエッチ
ンク法ニよって回路を形成した０貫通した穴には酸化ス
ズが形成されるため上下のスルーホールができることは
言うまでもない０次に、市販の前処理液および無電解ニ
ッケルメッキ液によって酸化スズ上にのみ選択的に、か
つ密着よくニッケルメッキを施した。増感剤はシップレ
イ４４（商品名）、促進剤はシップレイ１９、無電解ニ
ッケルメッキ液はシ＆−ｆｆ−１１６８０（１１１品名
品名率カニゼン製）で“ありた。無電解ニッケルメッキ
の上には導通性を良（するために無電解金メッキを施し
た。無電解金メッキ液はアトメックス（商品名８日本エ
ン ゛ゲルハルト製）を使用した。このように
して、ガラスというすぐれた絶縁体を基板にしたウォッ
チ用立体配線基板をつくった。立体配線によって水晶中
オッチのムープメンシの体積を減少させることができ、
薄型ウォッチをつくることができた。
ガラスを酸化スズエツチング後、実施例１で用いたガラ
スエツチング液で２分間エツチングした。なお１ガッス
材質厚みは実施例１と同じである。エツチング量は３μ
であった。このパネルガラスを通常の手順で配向処理を
施したのち、ガラスエツチング処理を施していない下パ
ネルガラスと組み合わせて液晶表示セルを作製した。こ
のようにして作った液晶セルに電圧を印加して表示した
ところ立体感のある表示が得られた。従来、液晶表示は
平面的で立体感、高級感に乏しいと言われてきたが、本
発明によりて非常に安価に立体表示、高級表示を得るこ
とができたり実施例３ 厚さａ５■、径２５■φのソーダガラス（成分８いづれ
も重量比で、８１０．７０％、Ｐｊａｎｏｌ ２ ％
、 Ｏａ ０８ ％ ｍ Ｍ ｇ ＯＢ ％ ｅムｔ、
ｏ、ｓ幡、に嘗０２％、！ＩａＯａ５襲）の両面に酸化
スｘヲａ ｖ Ｄ法で１０００１形成した。次に、フォ
シエッチング法で表裏別々のパターンを形成したのち、
４Ｐ％ｌｌＦ２０ｏＯ／ｌ、グリセリン５゜。このとき
、表裏のパターンの一部がガラスエツチングによって表
裏貫通するように位置合わせし ・である、エツチング
深さはｓｏｏμで表裏に所定の凹凸が形成され、一部は
上下貫通した。これを酸化スズを剥離したのち再び両面
に０７１法で酸化スズを形成した。これにフォトエッチ
ンク法ニよって回路を形成した０貫通した穴には酸化ス
ズが形成されるため上下のスルーホールができることは
言うまでもない０次に、市販の前処理液および無電解ニ
ッケルメッキ液によって酸化スズ上にのみ選択的に、か
つ密着よくニッケルメッキを施した。増感剤はシップレ
イ４４（商品名）、促進剤はシップレイ１９、無電解ニ
ッケルメッキ液はシ＆−ｆｆ−１１６８０（１１１品名
品名率カニゼン製）で“ありた。無電解ニッケルメッキ
の上には導通性を良（するために無電解金メッキを施し
た。無電解金メッキ液はアトメックス（商品名８日本エ
ン ゛ゲルハルト製）を使用した。このように
して、ガラスというすぐれた絶縁体を基板にしたウォッ
チ用立体配線基板をつくった。立体配線によって水晶中
オッチのムープメンシの体積を減少させることができ、
薄型ウォッチをつくることができた。
こＯ他、水晶振動子を真空封入するガラス容器を製造す
る場合にも本発明を適用できる・次に本発明によるガラ
スのエツチング方法によって得られる効果を以下に列記
する。
る場合にも本発明を適用できる・次に本発明によるガラ
スのエツチング方法によって得られる効果を以下に列記
する。
０）安価である。
蒸着法で得られるクロム、金膜に比べれば酸化スズはは
るかに安価なｏｗｎ法、浸漬法等によりて得られる。ま
た、化学切削用感光ガラス自体は非常に高価であるが、
本発明によればガラス材質を全（選択しないので安価な
ガラス材質を使用することができる。
るかに安価なｏｗｎ法、浸漬法等によりて得られる。ま
た、化学切削用感光ガラス自体は非常に高価であるが、
本発明によればガラス材質を全（選択しないので安価な
ガラス材質を使用することができる。
（ｓ）オーバーハングが生じない。
クロム、全０１ａ着膜はガラスのエツチング液に不溶で
あり、かつ柔軟性があるため、ガラスのサイドエッチに
よりクロム、金のオーバーハングが生ずるが、本発明に
よる酸化スズは緻密ではあるがもろいため、酸化スズの
オーバーハング分は直ちに欠落するので実質的なオーバ
ー／１ングが生じない。そのため、皮膜をガラスエツチ
ング後も導電皮膜として使用する場合には、オーバー／
−ング部の欠、落のによるシ■−ト等Ｏ不具舎が、クロ
ム、全皮膜と興なり、酸化スズ皮膜では生ずることがな
い。
あり、かつ柔軟性があるため、ガラスのサイドエッチに
よりクロム、金のオーバーハングが生ずるが、本発明に
よる酸化スズは緻密ではあるがもろいため、酸化スズの
オーバーハング分は直ちに欠落するので実質的なオーバ
ー／１ングが生じない。そのため、皮膜をガラスエツチ
ング後も導電皮膜として使用する場合には、オーバー／
−ング部の欠、落のによるシ■−ト等Ｏ不具舎が、クロ
ム、全皮膜と興なり、酸化スズ皮膜では生ずることがな
い。
（８）マスクの密着性が良い。
蒸着膜、有機レジスト膜に比べて酸化スズはどのような
ガラス材質においても極めて密着性が良い。
ガラス材質においても極めて密着性が良い。
（４）に）ツチング部に立体感がある。
マスクのオーバーハングが生じないため、ガラスめエツ
チング断面が７０〜８０＠のテーパをもつため、エツチ
ング後の外観が立体的で美しい。
チング断面が７０〜８０＠のテーパをもつため、エツチ
ング後の外観が立体的で美しい。
以上に述べたように、本発明によるガラスのエツチング
方法は安価で実用的なガラスのエツチング方法であり極
めて有用な発明である。
方法は安価で実用的なガラスのエツチング方法であり極
めて有用な発明である。
以上
出願人 株−会社諏訪精工舎
代理人 葬理士 最上 務
Claims (1)
- ガラス表面に酸化スズを１ｏｏ１以上１μ以下形成し、
この酸化スズをフォトエツチング法等によりてパターニ
ングした後、ガラス表面に残された酸化スズをマスクと
してガラスをフッ素系エッチｙダ液でエツチングしたこ
とを特徴とするガラスのエツチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10799681A JPS589845A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | ガラスのエツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10799681A JPS589845A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | ガラスのエツチング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS589845A true JPS589845A (ja) | 1983-01-20 |
Family
ID=14473336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10799681A Pending JPS589845A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | ガラスのエツチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS589845A (ja) |
-
1981
- 1981-07-09 JP JP10799681A patent/JPS589845A/ja active Pending
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