JPH03289624A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH03289624A JPH03289624A JP9167190A JP9167190A JPH03289624A JP H03289624 A JPH03289624 A JP H03289624A JP 9167190 A JP9167190 A JP 9167190A JP 9167190 A JP9167190 A JP 9167190A JP H03289624 A JPH03289624 A JP H03289624A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は液晶表示装置の製造方法に関する。
Ｅ従来の技術〕
従来の液晶表示装置は液晶セルと、これを挟んで両側に
配置した偏光層からなり、反射型の場合には偏光層の外
側に反射層を設けていた。しかし、この液晶表示装置で
は表示が暗くなるという問題を有している。この様な問
題を解決する手段として近年、液晶層を挟むように偏光
層と反射層を配置した新しい反射型液晶モードが提案さ
れている。このモードの液晶表示装置は従来の液晶表示
装置と異なり偏光層が１層しかないため明るい表示が得
られるというものであり、この液晶表示装置の反射層の
形成方法としては、液晶セルの反射層を設けるべき側の
基板表面に金属膜を蒸着などにより形成するという方法
が一般的であり、視角を広げより見栄えを良くするため
に液晶層と基板の間に反射層を形成するという方法も提
案されている。
配置した偏光層からなり、反射型の場合には偏光層の外
側に反射層を設けていた。しかし、この液晶表示装置で
は表示が暗くなるという問題を有している。この様な問
題を解決する手段として近年、液晶層を挟むように偏光
層と反射層を配置した新しい反射型液晶モードが提案さ
れている。このモードの液晶表示装置は従来の液晶表示
装置と異なり偏光層が１層しかないため明るい表示が得
られるというものであり、この液晶表示装置の反射層の
形成方法としては、液晶セルの反射層を設けるべき側の
基板表面に金属膜を蒸着などにより形成するという方法
が一般的であり、視角を広げより見栄えを良くするため
に液晶層と基板の間に反射層を形成するという方法も提
案されている。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、前述の従来技術では、反射層を設けるべき側の
基板表面に直接金属膜を形成するため、反射層が鏡面と
なってしまい、液晶表示装置として用いた場合、使用者
の顔及び背景が映るため、表示が非常に見にくいものと
なってしまうという問題点を有していた。
基板表面に直接金属膜を形成するため、反射層が鏡面と
なってしまい、液晶表示装置として用いた場合、使用者
の顔及び背景が映るため、表示が非常に見にくいものと
なってしまうという問題点を有していた。
本発明はこの様な問題点を解決するちので、その目的と
するところは、反射層を散乱面とすることにより液晶表
示装置として用いた場合、使用者の顔や背景が映らず５
表示の見やすい液晶表示装置を提供するところにある。
するところは、反射層を散乱面とすることにより液晶表
示装置として用いた場合、使用者の顔や背景が映らず５
表示の見やすい液晶表示装置を提供するところにある。
「課題を解決するための手段〕
本発明の液晶表示装置の製造方法は、対向する２枚の基
板間に液晶層を挟持してなる液晶セルの液晶層を挟むよ
うに偏光層と反射層を配置し、かつ、反射層は液晶層と
基板との間に存在し、かつ、液晶層と反射層との間に偏
光素子を有さない液晶表示装置の製造方法において、反
射層を形成する際に、ピッチ８０μｍ以下の凹凸を形成
する工程、かつ、金属膜を形成する工程を少なくとも含
むことを特徴とする。
板間に液晶層を挟持してなる液晶セルの液晶層を挟むよ
うに偏光層と反射層を配置し、かつ、反射層は液晶層と
基板との間に存在し、かつ、液晶層と反射層との間に偏
光素子を有さない液晶表示装置の製造方法において、反
射層を形成する際に、ピッチ８０μｍ以下の凹凸を形成
する工程、かつ、金属膜を形成する工程を少なくとも含
むことを特徴とする。
［作 用］
本発明の液晶表示装置の製造方法を用いれば、対向する
２枚の基板のうち反射層側の基板と液晶層との間に散乱
状態を有する反射膜を形成することが可能となる。
２枚の基板のうち反射層側の基板と液晶層との間に散乱
状態を有する反射膜を形成することが可能となる。
［実 施 例］
以下に本発明の詳細な説明する。また、以後液晶セルの
反射層側の基板を下側基板、偏光層側の基板を上側基板
と記述する。
反射層側の基板を下側基板、偏光層側の基板を上側基板
と記述する。
（実施例１）
本実施例ではメッキ法により下側基板の透明電極上のみ
に選択メッキを行った後、下側基板の電極を有する側の
表面に凹凸を形成した。以下にその方法を示す。
に選択メッキを行った後、下側基板の電極を有する側の
表面に凹凸を形成した。以下にその方法を示す。
１）従来の方法で透明電極が形成された下側基板を２０
％のＫＯＨ溶液の中に常温で１０分間浸漬させ脱脂を行
う。
％のＫＯＨ溶液の中に常温で１０分間浸漬させ脱脂を行
う。
２）５％のＨＣＪ２溶液に常温で５分間浸漬させ中和さ
せる。
せる。
３）透明電極表面上に無電解メッキを開始させるパラジ
ウムを付着させる。これは、１５％ＨＣＪ２＋＠液中に
日立増感剤Ｈ５−１０１Ｂを７％混合し常温で１０分間
浸漬させることによって行った。
ウムを付着させる。これは、１５％ＨＣＪ２＋＠液中に
日立増感剤Ｈ５−１０１Ｂを７％混合し常温で１０分間
浸漬させることによって行った。
４）ニッケルメッキ液の中にガラス基板を浸漬させ透明
電極上に平均膜厚７０００Åとなるようにニッケルメッ
キを行った。
電極上に平均膜厚７０００Åとなるようにニッケルメッ
キを行った。
５）下側基板表面の、電極を有する側にホーニング処理
を行った。この際、用いた研磨剤の粒子径は２０ｕｍで
あり、形成された凹凸は平均ピッチ２ｕｍ深さ約０．４
μｍであった。
を行った。この際、用いた研磨剤の粒子径は２０ｕｍで
あり、形成された凹凸は平均ピッチ２ｕｍ深さ約０．４
μｍであった。
以上の方法により作製された下側基板を用いて液晶表示
装置を作製した結果、反射層が散乱状態となっているた
め、使用者の顔や背景が映ることはなく、従来の反射層
を用いた場合と比べると表示が非常に見やすいちのとな
り、視角ら従来の物より広くなっていた。
装置を作製した結果、反射層が散乱状態となっているた
め、使用者の顔や背景が映ることはなく、従来の反射層
を用いた場合と比べると表示が非常に見やすいちのとな
り、視角ら従来の物より広くなっていた。
（実施例２）
本実施例では下側基板の電極を有する側の表面に凹凸を
形成した後、メッキ法により下側基板の透明電極上のみ
に選択メッキを行った。以下にその方法を示す。
形成した後、メッキ法により下側基板の透明電極上のみ
に選択メッキを行った。以下にその方法を示す。
従来の方法で透明電極が形成された下側基板の、電極を
有する側にホーニング処理を行った。
有する側にホーニング処理を行った。
この際、用いた研磨剤の粒子径は２０μｍであり、形成
された凹凸は平均ピッチ２ｕｍ深さ約０．７μｍであっ
た。
された凹凸は平均ピッチ２ｕｍ深さ約０．７μｍであっ
た。
この後、実施例１の１）〜４）と同様な方法を用いて下
側基板の透明電極表面にニッケルメッキを施した。
側基板の透明電極表面にニッケルメッキを施した。
ニッケルメッキを施した後の基板表面の凹凸は平均ピッ
チ２μｍ深さ約０．４μｍとなっていた。
チ２μｍ深さ約０．４μｍとなっていた。
以上の方法により作製された下側基板を用いて液晶表示
装置を作製した結果、実施例１と全く同様に表示が非常
に見やすいものとなり、視角も従来の物より広くなって
いた。
装置を作製した結果、実施例１と全く同様に表示が非常
に見やすいものとなり、視角も従来の物より広くなって
いた。
（実施例３）
本実施例では下側基板表面にアルミを蒸着によつつけた
物をパターニングすることにより電極兼反射層を作製し
、その後その表面をホーニングすることにより表面に凹
凸を形成した６以下にその方法を示す。
物をパターニングすることにより電極兼反射層を作製し
、その後その表面をホーニングすることにより表面に凹
凸を形成した６以下にその方法を示す。
１）下側基板表面に蒸着によりアルミの薄膜を形成した
。膜厚は４０００人であった。
。膜厚は４０００人であった。
２）この基板にレジストを塗布し、露光、現像。
エツチング、レジスト剥離をすることにより、アルミ薄
膜のパターニングを行い、電極兼反射層を形成した。
膜のパターニングを行い、電極兼反射層を形成した。
３）電極が形成された下側基板の電極を有する側にホー
ニング処理を行った。この際、用いた研磨剤の粒子径は
１０１ｍであり、形成された凹凸は平均ピッチ１μｍ深
さ約０．３μｍであった。
ニング処理を行った。この際、用いた研磨剤の粒子径は
１０１ｍであり、形成された凹凸は平均ピッチ１μｍ深
さ約０．３μｍであった。
以上の方法により作製された下側基板を用いて液晶表示
装置を作製した結果、実施例１と全く同様な結果が得ら
れたことは言うまでちなく明かである。
装置を作製した結果、実施例１と全く同様な結果が得ら
れたことは言うまでちなく明かである。
（実施例４）
上記実施例３では、アルミの電極をパターニングした後
、ホーニングを行っているがパターニングの前にホーニ
ングを行っても全く同様な効果が得られることは明かで
ある。
、ホーニングを行っているがパターニングの前にホーニ
ングを行っても全く同様な効果が得られることは明かで
ある。
また、下側基板表面をホーニングすることにより表面に
凹凸を形成し、その上にアルミを蒸着により形成し、次
にパターニングすることにより電極兼反射層を作製して
も全く同様な効果が得られることも明かである。
凹凸を形成し、その上にアルミを蒸着により形成し、次
にパターニングすることにより電極兼反射層を作製して
も全く同様な効果が得られることも明かである。
（実施例５）
上記実施例１及び２では凹凸の平均ピッチは約２ＬＬｍ
、実施例３及び４では約１μｍであったが、平均ピッチ
は８０μｍ以下であればよく、８０ｕｍを越えると凹凸
が見えてしまうため好ましくない。
、実施例３及び４では約１μｍであったが、平均ピッチ
は８０μｍ以下であればよく、８０ｕｍを越えると凹凸
が見えてしまうため好ましくない。
また、ツイスト角が大きくなり特に１８０度を越えた場
合、凹凸のピッチ及び深さが大きすぎると、ローツイス
トドメイン、フィンガープリントが発生し易くなるため
、ピッチ及び深さは小さい方がよく、深さはｌＬＬｍ以
下とするのが好ましい。
合、凹凸のピッチ及び深さが大きすぎると、ローツイス
トドメイン、フィンガープリントが発生し易くなるため
、ピッチ及び深さは小さい方がよく、深さはｌＬＬｍ以
下とするのが好ましい。
（実施例６）
上記実施例１及び２では、ニッケルメッキをし要してい
るが特にニッケルメッキをしようする必要はなく、銀、
金、クロム等を用いても同等な効果が得られる。
るが特にニッケルメッキをしようする必要はなく、銀、
金、クロム等を用いても同等な効果が得られる。
実施例３及び４では、アルミを蒸着して使っているが、
アルミである必要はなく、銀、金、クロム、ニッケル等
で６同等の効果が得られ、また、蒸着てはなくスパッタ
、メッキにより金属膜を形成しても全く差し支えない。
アルミである必要はなく、銀、金、クロム、ニッケル等
で６同等の効果が得られ、また、蒸着てはなくスパッタ
、メッキにより金属膜を形成しても全く差し支えない。
いずれの場合ち、使用する金属の種類を選択することに
より表示の色調を変化させることも可能である。
より表示の色調を変化させることも可能である。
（実施例７）
上記実施例１〜４では凹凸を形成する際、ホーニング処
理を用いているが、エツチング法を用いても同様な効果
を得ることができる。
理を用いているが、エツチング法を用いても同様な効果
を得ることができる。
［発明の効果］
以上述べたように本発明は、対向する２枚の基板間に液
晶層を挟持してなる液晶セルの液晶層を挟むように偏光
層と反射層を配置し、かつ、反射層は液晶層と基板との
間に存在し、かつ、液晶層と反射層との間に偏光素子を
有さない液晶表示装置の製造方法において、反射層を形
成する際に。
晶層を挟持してなる液晶セルの液晶層を挟むように偏光
層と反射層を配置し、かつ、反射層は液晶層と基板との
間に存在し、かつ、液晶層と反射層との間に偏光素子を
有さない液晶表示装置の製造方法において、反射層を形
成する際に。
ピッチ８０μｍ以下の凹凸を形成する工程、かつ、金属
膜を形成する工程を用いて反射層を散乱面とすることに
より、使用者の顔や背景が映らない見やすい表示が得ら
れるばかりか視角も広くなるという効果を有する。
膜を形成する工程を用いて反射層を散乱面とすることに
より、使用者の顔や背景が映らない見やすい表示が得ら
れるばかりか視角も広くなるという効果を有する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）対向する２枚の基板間に液晶層を挟持してなる液晶
セルの前記液晶層を挟むように偏光層と反射層を配置し
、かつ、前記反射層は前記液晶層と前記基板との間に存
在し、かつ、前記液晶層と前記反射層との間に偏光素子
を有さない液晶表示装置の製造方法において、前記反射
層を形成する際に、ピッチ８０μｍ以下の凹凸を形成す
る工程、かつ、金属膜を形成する工程を少なくとも含む
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 ２）透明電極パターンが形成された基板の前記透明電極
を有する側の表面に凹凸を形成した後、メッキ法により
前記透明電極上のみに金属膜を形成することを特徴とす
る請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。 ３）透明電極パターンが形成された基板の前記透明電極
上のみにメッキ法により金属膜を形成した後、前記透明
電極を有する側の表面に凹凸を形成することを特徴とす
る請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。 ４）基板上に金属膜を形成し、前記金属膜表面に凹凸を
形成した後に前記金属膜をパターニングすることを特徴
とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。 ５）基板上に金属膜を形成し、前記金属膿をパターニン
グした後に、前記基板の金属膜を有する側の表面全体に
凹凸を形成することを特徴とする請求項１記載の液晶表
示装置の製造方法。 ６）凹凸を形成する際に、ホーニング処理を用いること
を特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。 ７）凹凸を形成する際に、エッチング処理を用いること
を特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9167190A JPH03289624A (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9167190A JPH03289624A (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03289624A true JPH03289624A (ja) | 1991-12-19 |
Family
ID=14032947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9167190A Pending JPH03289624A (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03289624A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010204168A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Sony Corp | 反射電極の形成方法並びに駆動基板および表示装置 |
-
1990
- 1990-04-06 JP JP9167190A patent/JPH03289624A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010204168A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Sony Corp | 反射電極の形成方法並びに駆動基板および表示装置 |
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