JPH0475022A - 反射型液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
反射型液晶表示装置の製造方法Info
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- JPH0475022A JPH0475022A JP2188775A JP18877590A JPH0475022A JP H0475022 A JPH0475022 A JP H0475022A JP 2188775 A JP2188775 A JP 2188775A JP 18877590 A JP18877590 A JP 18877590A JP H0475022 A JPH0475022 A JP H0475022A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、バックライトを用いない反射型液晶表示装置
に関する。
に関する。
（従来の技術）
近年、ワードプロセッサ、ラップトツブパソコン、ポケ
ットテレビ等への液晶表示装置の応用が急速に進展して
いる。液晶表示装置の中でも、特に、外部から表示装置
に入射した光を反射板で反射させて表示を行う反射型液
晶表示装置は、バフクライトを必要としないため、薄型
化、軽量化、低消費電力化に適しており、注目されてい
る。
ットテレビ等への液晶表示装置の応用が急速に進展して
いる。液晶表示装置の中でも、特に、外部から表示装置
に入射した光を反射板で反射させて表示を行う反射型液
晶表示装置は、バフクライトを必要としないため、薄型
化、軽量化、低消費電力化に適しており、注目されてい
る。
従来より、反射型液晶表示装置には、ＴＮ（ツィステッ
ドネマティック）モード、及びＳＴＮ （スーパーツィ
ステッド早マチイック）モードが用いられている。しか
し、これらのモードを用いた反射型液晶表示装置では直
線偏光子が用いられるため、自然光のほぼ２分の１は表
示には用いられない。従って、自然光の強度に比較して
、得られる表示画面は暗いものとなる。
ドネマティック）モード、及びＳＴＮ （スーパーツィ
ステッド早マチイック）モードが用いられている。しか
し、これらのモードを用いた反射型液晶表示装置では直
線偏光子が用いられるため、自然光のほぼ２分の１は表
示には用いられない。従って、自然光の強度に比較して
、得られる表示画面は暗いものとなる。
このような欠点を解消するために、自然光の全ての方向
の偏光を有効に利用する表示モードが提案されている。
の偏光を有効に利用する表示モードが提案されている。
このようなモードの例として、相転移型ゲスト・ホスト
方式が挙げられる（ Ｄ、 Ｌ、 Ｗｈｉｔｅ ａｎｄ
Ｇ、Ｎ、Ｔａｙｌｏｒ、 Ｊ、Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、
４５． ｐ、４７１８１９７４）。このモードでは、
ホスト液晶であるコレステリック液晶の電界によるネマ
ティック相への相転移現象が利用されている。この方式
に、更にマイクロカラーフィルタを組み合わせた反射型
マルチカラーデイスプレィも提案されている（ Ｐｒｏ
ｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ ＳＩＤ、 Ｖｏ
ｌ、２９． ｐ、１５７ １９８８）。
方式が挙げられる（ Ｄ、 Ｌ、 Ｗｈｉｔｅ ａｎｄ
Ｇ、Ｎ、Ｔａｙｌｏｒ、 Ｊ、Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、
４５． ｐ、４７１８１９７４）。このモードでは、
ホスト液晶であるコレステリック液晶の電界によるネマ
ティック相への相転移現象が利用されている。この方式
に、更にマイクロカラーフィルタを組み合わせた反射型
マルチカラーデイスプレィも提案されている（ Ｐｒｏ
ｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ ＳＩＤ、 Ｖｏ
ｌ、２９． ｐ、１５７ １９８８）。
このような偏光板を必要としないモードで更に明るい表
示を得るためには、あらゆる角度からの入射光に対し、
表示画面に垂直な方向へ散乱する光の強度を増加させる
必要がある。そのためには、反射板上の凹凸の形成を制
御して、最適な反射特性を有する反射板を作製すること
が必要となる。
示を得るためには、あらゆる角度からの入射光に対し、
表示画面に垂直な方向へ散乱する光の強度を増加させる
必要がある。そのためには、反射板上の凹凸の形成を制
御して、最適な反射特性を有する反射板を作製すること
が必要となる。
上記の文献には、ガラス基板の表面を研磨剤で粗面化し
、フッ化水素酸でエツチングする時間を変えることによ
り凹凸部の形状を制御し、その上にＡｇ金属薄膜を形成
した反射板について記載されている。
、フッ化水素酸でエツチングする時間を変えることによ
り凹凸部の形状を制御し、その上にＡｇ金属薄膜を形成
した反射板について記載されている。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、上記の文献に記載の反射板には、ガラス
基板に研磨剤によって傷をつけることにより凹凸部が形
成されるので、均一な形状の凹凸部が形成されない。ま
た、凹凸部の形状の再現性が悪いという問題点もある。
基板に研磨剤によって傷をつけることにより凹凸部が形
成されるので、均一な形状の凹凸部が形成されない。ま
た、凹凸部の形状の再現性が悪いという問題点もある。
このようなガラス基板を用いると、良好な反射特性を有
する反射型液晶表示装置を提供することができない。
する反射型液晶表示装置を提供することができない。
本発明はこのような問題点を解決するものであり、本発
明の目的は、良好な反射特性を有する反射板を備えた反
射型液晶表示装置を提供することである。本発明の他の
目的は上記の反射型液晶表示装置の製造方法を提供する
ことである。
明の目的は、良好な反射特性を有する反射板を備えた反
射型液晶表示装置を提供することである。本発明の他の
目的は上記の反射型液晶表示装置の製造方法を提供する
ことである。
（課題を解決するための手段）
本発明の反射型液晶表示装置は、電極を形成した透明基
板と、一方の面に酸化物の膜を成長させエツチング処理
して凹凸部を形成したガラス板と該凹凸部上に形成され
た金属薄膜とを有する反射板と、該透明基板と該反射板
との間に封入された液晶層と、を備えており、そのこと
によって上記目的が達成される。
板と、一方の面に酸化物の膜を成長させエツチング処理
して凹凸部を形成したガラス板と該凹凸部上に形成され
た金属薄膜とを有する反射板と、該透明基板と該反射板
との間に封入された液晶層と、を備えており、そのこと
によって上記目的が達成される。
また、前記凹凸部の凸部が尾根状の形状を有し、該凸部
の平均ピッチが１００μｍ以下である構成とすることが
できる。
の平均ピッチが１００μｍ以下である構成とすることが
できる。
また、前記反射板の前記金属薄膜を形成した面が、該液
晶層側に配されている構成とすることができる。
晶層側に配されている構成とすることができる。
更に、前記金属薄膜が、前記透明基板に形成された電極
に前記液晶層を挟んで対向する電極としても機能してい
る構成とすることができる。
に前記液晶層を挟んで対向する電極としても機能してい
る構成とすることができる。
本発明の反射型液晶表示装置の製造方法は、ガラス基板
上に金属薄膜を形成した反射板を備えた反射型液晶表示
装置の製造方法であって、該ガラス基板の一方の面に酸
化物の膜を成長させる工程と、該ガラス基板をエツチン
グ処理して該一方の面に凹凸部を形成する工程と、該凹
凸部を形成した面上に該金属薄膜を形成する工程と、を
包含しており、そのことによって上記目的が達成される
。
上に金属薄膜を形成した反射板を備えた反射型液晶表示
装置の製造方法であって、該ガラス基板の一方の面に酸
化物の膜を成長させる工程と、該ガラス基板をエツチン
グ処理して該一方の面に凹凸部を形成する工程と、該凹
凸部を形成した面上に該金属薄膜を形成する工程と、を
包含しており、そのことによって上記目的が達成される
。
（作用）
ガラス基板上に、真空蒸着又はスパッタリング法により
酸化物の薄膜を成長させると、酸化物の種類、膜厚、成
膜条件により、基板表面の状態はかなり異なることが知
られている。薄膜の成膜もメカニズムについては、次の
よう説明されている。
酸化物の薄膜を成長させると、酸化物の種類、膜厚、成
膜条件により、基板表面の状態はかなり異なることが知
られている。薄膜の成膜もメカニズムについては、次の
よう説明されている。
一般に、蒸着又はスパッタリングされて基板に衝突した
原子又は分子は核を形成する。この核は、次々に衝突し
てくる原子若しくは分子、又は隣接する核の一部若しく
は全部と合体して成長する。
原子又は分子は核を形成する。この核は、次々に衝突し
てくる原子若しくは分子、又は隣接する核の一部若しく
は全部と合体して成長する。
合体が進むと、島状構造の状態（ｉｓｌａｎｄ ｓｔａ
ｇｅ）、島がつながって海峡を残している状態（ｃｈａ
ｎｎｅｌｓｔａｇｅ）、海峡が途切れて穴となった状態
（ｈｏｌｅｓｔａｇｅ）を経て、連続膜が形成される。
ｇｅ）、島がつながって海峡を残している状態（ｃｈａ
ｎｎｅｌｓｔａｇｅ）、海峡が途切れて穴となった状態
（ｈｏｌｅｓｔａｇｅ）を経て、連続膜が形成される。
膜の成長の状態は、蒸着とスパッタリングとではかなり
異なることが知られている。スパッタリングによって形
成された島状構造の状態では、各島が小さくその数は多
いのに対し、真空蒸着によって形成された島状構造の状
態では、各島が大きいと言われている。本発明では何れ
の状態の膜でも酸化物の膜として用いることができる。
異なることが知られている。スパッタリングによって形
成された島状構造の状態では、各島が小さくその数は多
いのに対し、真空蒸着によって形成された島状構造の状
態では、各島が大きいと言われている。本発明では何れ
の状態の膜でも酸化物の膜として用いることができる。
酸化物の膜を成長させたガラス基板は、例えばフッ化水
素酸（ＨＦ）と硝酸（ＨＮ Ｏ３）とを所定の割合に混
合したエッチャントによってエツチング処理される。基
板上に成長した酸化物は多孔質なので、エッチャントは
酸化物の膜に浸透する。
素酸（ＨＦ）と硝酸（ＨＮ Ｏ３）とを所定の割合に混
合したエッチャントによってエツチング処理される。基
板上に成長した酸化物は多孔質なので、エッチャントは
酸化物の膜に浸透する。
酸化物とガラスとではエツチング速度が異なるので、浸
透したエチャントに接したガラス基板の部分が先にエツ
チングされて凹凸部が形成されるものと考えられる。こ
の状態から更にエツチングが進行して、酸化物は除去さ
れ、ガラス基板上に凹凸部が形成される。凹凸部の形状
等は、酸化物の種類、ガラス基板の表面状態、エッチャ
ントの濃度、エツチング時間等を変えることにより制御
することができる。このようにして凹凸部が形成された
ガラス基板上に金属薄膜を形成することにより、反射板
の反射特性を制御することができる。
透したエチャントに接したガラス基板の部分が先にエツ
チングされて凹凸部が形成されるものと考えられる。こ
の状態から更にエツチングが進行して、酸化物は除去さ
れ、ガラス基板上に凹凸部が形成される。凹凸部の形状
等は、酸化物の種類、ガラス基板の表面状態、エッチャ
ントの濃度、エツチング時間等を変えることにより制御
することができる。このようにして凹凸部が形成された
ガラス基板上に金属薄膜を形成することにより、反射板
の反射特性を制御することができる。
（実施例）
本発明の実施例について以下に説明する。第１図に本発
明の反射型液晶表示装置の一実施例に用いられる反射板
の製造工程を示す。第１図（ａ）に示すような厚さ１．
１−のガラス基板（コーニング社製、商品名７０５９）
１１の一方の面に、スパッタリング法により酸化物を成
長させ、酸化物膜１２を形成した（第１図（ｂ））。用
い得る酸化物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ
２，５ｉＯＳ ＴｉＯ２、Ｓ ｎ ０２、Ｉ Ｔ Ｏ（
Ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎｏｘｉｄｅ）等を挙げることがで
きる。酸化物の膜厚は０．０１〜１μ、ｍの範囲にある
ことが好ましい。
明の反射型液晶表示装置の一実施例に用いられる反射板
の製造工程を示す。第１図（ａ）に示すような厚さ１．
１−のガラス基板（コーニング社製、商品名７０５９）
１１の一方の面に、スパッタリング法により酸化物を成
長させ、酸化物膜１２を形成した（第１図（ｂ））。用
い得る酸化物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ
２，５ｉＯＳ ＴｉＯ２、Ｓ ｎ ０２、Ｉ Ｔ Ｏ（
Ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎｏｘｉｄｅ）等を挙げることがで
きる。酸化物の膜厚は０．０１〜１μ、ｍの範囲にある
ことが好ましい。
本実施例では酸化物として５ｉ０２を用い、０．１μｍ
の厚さに成長させた。
の厚さに成長させた。
次に、フッ化水素酸（４７％溶ｔｉ）と硝酸（６０％溶
液）とを重１比１対１ｏｏの割合で混合した２５℃の溶
液に、酸化物膜工２を形成したガラス基板１１を１０分
間浸漬してエツチング処理を行った。このエツチング処
理により、第１図（Ｃ）に示すように、ガラス基板１１
の一方の面に凹凸部Ｉ３を形成した。
液）とを重１比１対１ｏｏの割合で混合した２５℃の溶
液に、酸化物膜工２を形成したガラス基板１１を１０分
間浸漬してエツチング処理を行った。このエツチング処
理により、第１図（Ｃ）に示すように、ガラス基板１１
の一方の面に凹凸部Ｉ３を形成した。
このガラス基板１１を観察すると、凹凸部１３の凸部は
連続した尾根状の形状を有しており、この尾根状の部分
は、高いピークと比較的低いピークとが連なった形状を
存している。凹凸部１３の凸部の高さは０．８μｍ、平
均ピッチは５μｍであった。尚、ここで凸部の平均ピッ
チとは隣接する尾根状の凸部の平均距離である。ガラス
基板１１の裏面ＩＯは均一にエツチング処理されるので
凹凸部は形成されず、不透明となることはない。
連続した尾根状の形状を有しており、この尾根状の部分
は、高いピークと比較的低いピークとが連なった形状を
存している。凹凸部１３の凸部の高さは０．８μｍ、平
均ピッチは５μｍであった。尚、ここで凸部の平均ピッ
チとは隣接する尾根状の凸部の平均距離である。ガラス
基板１１の裏面ＩＯは均一にエツチング処理されるので
凹凸部は形成されず、不透明となることはない。
従って、レジスト等で保護する必要はない。
更に、凹凸部１３を形成した基板１１上に金属薄膜１４
を形成した（第１図（ｄ））。金属薄膜としてはＡＩ、
ＮｉＳ ＣｒＳ Ａｇ等を挙げることができる。金属薄
膜の厚さは、０．０１〜１． ０μｍ程度が適している
。本実施例ではＡｇを真空蒸着することにより、金Ｒ薄
膜１４を形成した。
を形成した（第１図（ｄ））。金属薄膜としてはＡＩ、
ＮｉＳ ＣｒＳ Ａｇ等を挙げることができる。金属薄
膜の厚さは、０．０１〜１． ０μｍ程度が適している
。本実施例ではＡｇを真空蒸着することにより、金Ｒ薄
膜１４を形成した。
以上により、反射板１５が得られる。
反射板１５の反射特性の測定方法を第２図に示す。反射
板１５を液晶表示装置に用いた場合、反射板１５の表面
と液晶層とが接することになる。
板１５を液晶表示装置に用いた場合、反射板１５の表面
と液晶層とが接することになる。
従って、反射板１５の反射特性は液晶層と接した状態で
測定するのが好ましい。しかし、液晶層とガラス基板１
１との屈折率は何れも約１． ５でありほぼ等しいので
、反射板１５の反射特性を反射板１５の裏面１０から測
定した結果は、反射板１５の表面と液晶層との境界に於
ける反射特性と同様の結果を与える。従って、本実施例
ではガラス基板１１の裏面１０から反射特性を測定した
。
測定するのが好ましい。しかし、液晶層とガラス基板１
１との屈折率は何れも約１． ５でありほぼ等しいので
、反射板１５の反射特性を反射板１５の裏面１０から測
定した結果は、反射板１５の表面と液晶層との境界に於
ける反射特性と同様の結果を与える。従って、本実施例
ではガラス基板１１の裏面１０から反射特性を測定した
。
第２図に示すように、反射率特性の測定は、反射板１５
に入射する光の散乱光を、フォトマルチメータ５で検出
することにより行われる。反射板１５の裏面１０には、
その法線２に対し角θをもって入射光３が入射する。フ
ォトマルチメータ５は、金属薄膜１４上の入射光３が照
射される点を通る裏面ｌＯの法線の方向に固定されてい
る。入射光３の入射角θを変えて入射光の金属薄膜１４
による散乱光の強度を測定することにより、第３図に示
す反射特性が得られた。
に入射する光の散乱光を、フォトマルチメータ５で検出
することにより行われる。反射板１５の裏面１０には、
その法線２に対し角θをもって入射光３が入射する。フ
ォトマルチメータ５は、金属薄膜１４上の入射光３が照
射される点を通る裏面ｌＯの法線の方向に固定されてい
る。入射光３の入射角θを変えて入射光の金属薄膜１４
による散乱光の強度を測定することにより、第３図に示
す反射特性が得られた。
第３図では法線２に対して入射角θをもって入射する光
の反射強度が、第３図の０°の線に対して角θの方向に
、原点０からの距離として表されている。第３図に破線
で示す反射特性曲線３２は、標準白色板（酸化マグネシ
ウム）について測定したものである。本実施例の反射板
１５の反射特性曲線３５は曲線３２に近似しており、標
準白色板に近い反射率特性を有していることが分かる。
の反射強度が、第３図の０°の線に対して角θの方向に
、原点０からの距離として表されている。第３図に破線
で示す反射特性曲線３２は、標準白色板（酸化マグネシ
ウム）について測定したものである。本実施例の反射板
１５の反射特性曲線３５は曲線３２に近似しており、標
準白色板に近い反射率特性を有していることが分かる。
本実施例の反射板を用いて反射型液晶表示装置を組み立
てたところ、明るい表示画面を有する表示装置が得られ
た。
てたところ、明るい表示画面を有する表示装置が得られ
た。
上述の実施例では凸部の平均ピッチが５μｍの場合につ
いて述べたが、該平均ピッチが１００μｍ以内であれば
本実施例と同様の効果が得られることが確認された。こ
れよりも大きな平均ピ・ソチの凸部が形成されると、反
射板１５へ入射する光をあらゆる方向に散乱させること
ができなくなるので好ましくない。
いて述べたが、該平均ピッチが１００μｍ以内であれば
本実施例と同様の効果が得られることが確認された。こ
れよりも大きな平均ピ・ソチの凸部が形成されると、反
射板１５へ入射する光をあらゆる方向に散乱させること
ができなくなるので好ましくない。
第４図に本発明の反射型液晶表示装置に用いられる他の
反射板の製造工程を示す。第４図（ａ）に示すように、
厚さ１．１圓のガラス基板（コーニング社製、商品名７
０５９）１１の一方の面に、スパッタリング法によりＩ
ＴＯを０．１μｍの厚さに成長させ、酸化物膜４２を形
成した（第２図（ｂ））。
反射板の製造工程を示す。第４図（ａ）に示すように、
厚さ１．１圓のガラス基板（コーニング社製、商品名７
０５９）１１の一方の面に、スパッタリング法によりＩ
ＴＯを０．１μｍの厚さに成長させ、酸化物膜４２を形
成した（第２図（ｂ））。
次に、フッ化水素酸（４７％溶液）と硝酸（６０％溶液
）とを重量比１対１００の割合で混合した２５°Ｃの溶
液に、酸化物膜４２を形成したガラス基板１１を１０分
間浸漬してエツチング処理を行った。このエツチング処
理により、第４図（Ｃ）に示すように、ガラス基板１１
の一方の面に凹凸部４３を形成した。
）とを重量比１対１００の割合で混合した２５°Ｃの溶
液に、酸化物膜４２を形成したガラス基板１１を１０分
間浸漬してエツチング処理を行った。このエツチング処
理により、第４図（Ｃ）に示すように、ガラス基板１１
の一方の面に凹凸部４３を形成した。
このガラス基板１１を歓察すると、凹凸部４３の凸部は
連続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部４３
の凸部の高さは０．５μｍ、平均ピッチは５μｍであっ
た。更に、凹凸部４３を形成した基板１１上にＡｇを真
空蒸着することにより、金属薄膜４４を形成した（第４
図（ｄ））。
連続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部４３
の凸部の高さは０．５μｍ、平均ピッチは５μｍであっ
た。更に、凹凸部４３を形成した基板１１上にＡｇを真
空蒸着することにより、金属薄膜４４を形成した（第４
図（ｄ））。
以上により、反射板４５が得られる。
また、上述の製造工程に於て、エツチング処理時間を１
２分として反射板４６を作製した。この反射板４６の凸
部も連続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部
４３の凸部の高さは０．８μｍ１ 平均ピッチは５μｍ
であった。
２分として反射板４６を作製した。この反射板４６の凸
部も連続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部
４３の凸部の高さは０．８μｍ１ 平均ピッチは５μｍ
であった。
第５図に反射板４５及び４６の反射特性曲線５５及び５
６を示す。反射特性の測定方法は、前述の第２図と同様
である。比較のために標準白色板の反射特性曲線３２も
示しである。曲線３２及び５５の比較から、本実施例の
反射板４５では、入射角θが小さい場合には反射板５５
の法線方向への反射率が小さく、入射角θが大きい場合
には反射板５５の法線方向への反射率が大きい。これに
対して、反射板４６は標準白色板と同様の反射特性を有
していることが分かる。このように、工７チング処理の
時間を制御することにより、反射板４５のように法線方
向への反射率を大きくしたり、反射板４６のように入射
光をあらゆる方向へ散乱させたりすることができる。
６を示す。反射特性の測定方法は、前述の第２図と同様
である。比較のために標準白色板の反射特性曲線３２も
示しである。曲線３２及び５５の比較から、本実施例の
反射板４５では、入射角θが小さい場合には反射板５５
の法線方向への反射率が小さく、入射角θが大きい場合
には反射板５５の法線方向への反射率が大きい。これに
対して、反射板４６は標準白色板と同様の反射特性を有
していることが分かる。このように、工７チング処理の
時間を制御することにより、反射板４５のように法線方
向への反射率を大きくしたり、反射板４６のように入射
光をあらゆる方向へ散乱させたりすることができる。
第６図に反射板４５を用いて作製した反射型液晶表示装
置の断面図を示す。本実施例の反射型液晶表示装置は、
アクティブマトリクス基板２０と、反射板４５とを有す
る。アクティブマトリクス基板２０は、ガラスからなる
透明基板２３と、該基板２３上に形成された薄膜トラン
ジスタ（以下ではｒＴＦＴＪと称する）２４と、該ＴＰ
Ｔ２４に接続された絵素電極２５とを有する。更に、絵
素電極２５及びＴＦＴ２４を覆って基板２３上の全面に
、配向膜２６が形成されている。反射板４５上にも配向
膜２７が形成されている。また、反射板４５の金属薄膜
４４が、透明基板２３に形成された絵素電極２５に液晶
層２１を挟んで対向する対向電極としても機能している
。
置の断面図を示す。本実施例の反射型液晶表示装置は、
アクティブマトリクス基板２０と、反射板４５とを有す
る。アクティブマトリクス基板２０は、ガラスからなる
透明基板２３と、該基板２３上に形成された薄膜トラン
ジスタ（以下ではｒＴＦＴＪと称する）２４と、該ＴＰ
Ｔ２４に接続された絵素電極２５とを有する。更に、絵
素電極２５及びＴＦＴ２４を覆って基板２３上の全面に
、配向膜２６が形成されている。反射板４５上にも配向
膜２７が形成されている。また、反射板４５の金属薄膜
４４が、透明基板２３に形成された絵素電極２５に液晶
層２１を挟んで対向する対向電極としても機能している
。
アクティブマトリクス基板２０と反射板４５との間には
、液晶封止層２２が７μｍのスペーサを混入した接着性
ソール剤をスクリーン印刷することによって形成されて
いる。液晶層２１は液晶封止層２２を形成した後、真空
脱気することにより封入される。液晶層２１には、黒色
色素を混入したゲストホスト液晶（メルク社製、商品名
ＺＬＩ２３２７）に光学活性物質（メルク社製、商品名
５８１１）を０．５％混入したものを用いた。
、液晶封止層２２が７μｍのスペーサを混入した接着性
ソール剤をスクリーン印刷することによって形成されて
いる。液晶層２１は液晶封止層２２を形成した後、真空
脱気することにより封入される。液晶層２１には、黒色
色素を混入したゲストホスト液晶（メルク社製、商品名
ＺＬＩ２３２７）に光学活性物質（メルク社製、商品名
５８１１）を０．５％混入したものを用いた。
以上のようにして作製した反射型液晶表示装置の電圧−
反射率特性を第７図に示す。反射率の測定は、前述の東
２図の反射板１５の位置に、上記の反射型液晶表示装置
を置いて測定した。縦軸は反射率を表し、横軸は絵素電
極２５と対向電極である金属薄膜４４との間の印加電圧
を表わす。反射率は、入射角θ＝３０°をもって入射す
る入射光について測定され、標準白色板に於ける法線方
向への拡散光の強度に対する、表示装置に於ける法線ガ
ロへ拡散光の強度の比率を求めることにより得られる。
反射率特性を第７図に示す。反射率の測定は、前述の東
２図の反射板１５の位置に、上記の反射型液晶表示装置
を置いて測定した。縦軸は反射率を表し、横軸は絵素電
極２５と対向電極である金属薄膜４４との間の印加電圧
を表わす。反射率は、入射角θ＝３０°をもって入射す
る入射光について測定され、標準白色板に於ける法線方
向への拡散光の強度に対する、表示装置に於ける法線ガ
ロへ拡散光の強度の比率を求めることにより得られる。
第７図に示すように、電圧印加時の反射率は約５０％と
かなり明るく、コントラスト比は２７であった。
かなり明るく、コントラスト比は２７であった。
本実施例の反射型液晶表示装置では、反射板４５の金属
薄膜４４を形成した面が、液晶層２１側に配されている
ので視差がなくなり、良好な表示画面が得られる。また
、本実施例では反射板４５の金属薄膜４４が対向電極と
しても機能しているので、表示装置の製造工程が簡略化
される。
薄膜４４を形成した面が、液晶層２１側に配されている
ので視差がなくなり、良好な表示画面が得られる。また
、本実施例では反射板４５の金属薄膜４４が対向電極と
しても機能しているので、表示装置の製造工程が簡略化
される。
更に、第８図に示すように、各絵素電極２５に対応して
カラーフィルタ２８を設け、カラーフィルタの間にブラ
ックマスク２９を設けた構成とすることにより、反射型
カラー液晶表示装置を容易に作製することができる。
カラーフィルタ２８を設け、カラーフィルタの間にブラ
ックマスク２９を設けた構成とすることにより、反射型
カラー液晶表示装置を容易に作製することができる。
本実施例ではガラス基板１１に酸化物の膜１２又は４２
を形成した後に金属薄膜４４を形成したが、酸化物の膜
を形成した基板に研磨傷を付けてエツチングした後に金
属薄膜４４を形成してもよい。また、ガラス基板１１に
研磨傷を付けてから酸化物の膜を形成してもよい。
を形成した後に金属薄膜４４を形成したが、酸化物の膜
を形成した基板に研磨傷を付けてエツチングした後に金
属薄膜４４を形成してもよい。また、ガラス基板１１に
研磨傷を付けてから酸化物の膜を形成してもよい。
（発明の効果）
本発明の反射型液晶表示装置では、一方の面に酸化物の
膜を成長させたガラス基板を用いることにより、得られ
る反射板に形成される凹凸部の形状を制御することがで
きるので、反射板の反射特性を制御することが可能とな
る。従って、本発明によれば良好な反射特性特性を有す
る反射板を備えた反射型液晶表示装置が提供される。ま
た、本発明の反射型液晶表示装置の製造方法によれば、
上記の表示装置を容易に得ることができる。
膜を成長させたガラス基板を用いることにより、得られ
る反射板に形成される凹凸部の形状を制御することがで
きるので、反射板の反射特性を制御することが可能とな
る。従って、本発明によれば良好な反射特性特性を有す
る反射板を備えた反射型液晶表示装置が提供される。ま
た、本発明の反射型液晶表示装置の製造方法によれば、
上記の表示装置を容易に得ることができる。
４、 の な号 ａ
第１図（ａ）〜Ｃｄ＞は本発明の反射型液晶表示装置の
一実施例を構成する反射板の製造工程を示す図、第２図
は反射板の反射特性の測定方法を示す図、第３図は第１
図の製造工程で製造した反射板の反射特性を示す図、第
４図（ａ）〜（ｄ）は本発明の他の実施例を構成する反
射板の製造工程を示す図、第５図は第４図（ａ）〜（ｄ
）の製造工程で製造された反射板の反射特性を示す図、
第６図は第４図の製造工程で製造された反射板を用いた
反射型液晶表示装置の断面図、第７図は第６図の反射型
液晶表示装置の印加電圧−反射率特性を示す図、第８図
は第６図の表示装置にカラーフィルタを設けた反射型カ
ラー液晶表示装置の断面図である。
一実施例を構成する反射板の製造工程を示す図、第２図
は反射板の反射特性の測定方法を示す図、第３図は第１
図の製造工程で製造した反射板の反射特性を示す図、第
４図（ａ）〜（ｄ）は本発明の他の実施例を構成する反
射板の製造工程を示す図、第５図は第４図（ａ）〜（ｄ
）の製造工程で製造された反射板の反射特性を示す図、
第６図は第４図の製造工程で製造された反射板を用いた
反射型液晶表示装置の断面図、第７図は第６図の反射型
液晶表示装置の印加電圧−反射率特性を示す図、第８図
は第６図の表示装置にカラーフィルタを設けた反射型カ
ラー液晶表示装置の断面図である。
５・・・フォトマルチメータ、１０・・・３面、１１・
・・ガラス基板、１２．４２・・・酸化物膜、１３．４
３・・・凹凸部、１４．４４・・・金属薄膜、１５．４
５・・・反射板、２０・・・アクティブマトリクス基板
、２１・・・液晶層、２４・・・ＴＦＴ、２５・・・絵
素電極、２６゜２７・・・配同膜。
・・ガラス基板、１２．４２・・・酸化物膜、１３．４
３・・・凹凸部、１４．４４・・・金属薄膜、１５．４
５・・・反射板、２０・・・アクティブマトリクス基板
、２１・・・液晶層、２４・・・ＴＦＴ、２５・・・絵
素電極、２６゜２７・・・配同膜。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電極を形成した透明基板と、 一方の面に酸化物の膜を成長させエッチング処理して凹
凸部を形成したガラス板と該凹凸部上に形成された金属
薄膜とを有する反射板と、 該透明基板と該反射板との間に封入された液晶層と、 を備えた反射型液晶表示装置。 ２、前記凹凸部の凸部が尾根状の形状を有し、該凸部の
平均ピッチが１００μｍ以下である請求項１に記載の反
射型液晶表示装置。 ３、前記反射板の前記金属薄膜を形成した面が、該液晶
層側に配されている請求項１又は２に記載の反射型液晶
表示装置。 ４、前記金属薄膜が、前記透明基板に形成された電極に
前記液晶層を挟んで対向する電極としても機能している
請求項３に記載の反射型液晶表示装置。 ５、ガラス基板上に金属薄膜を形成した反射板を備えた
反射型液晶表示装置の製造方法であって、該ガラス基板
の一方の面に酸化物の膜を成長させる工程と、 該ガラス基板をエッチング処理して該一方の面に凹凸部
を形成する工程と、 該凹凸部を形成した面上に該金属薄膜を形成する工程と
、 を包含する反射型液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188775A JP2610698B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 反射型液晶表示装置の製造方法 |
| EP91306487A EP0467659B1 (en) | 1990-07-17 | 1991-07-17 | A reflective-type liquid crystal display device and method for producing same |
| US07/731,818 US5220444A (en) | 1990-07-17 | 1991-07-17 | Reflective-type liquid crystal display device with etched oxide layer between substrate and metal film and method for producing same |
| DE69117604T DE69117604T2 (de) | 1990-07-17 | 1991-07-17 | Reflektive Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung und Verfahren zu seiner Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188775A JP2610698B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 反射型液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0475022A true JPH0475022A (ja) | 1992-03-10 |
| JP2610698B2 JP2610698B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=16229570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2188775A Expired - Lifetime JP2610698B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 反射型液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5220444A (ja) |
| EP (1) | EP0467659B1 (ja) |
| JP (1) | JP2610698B2 (ja) |
| DE (1) | DE69117604T2 (ja) |
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