JPS5896072A - マゼンタカプラ−の製造方法 - Google Patents
マゼンタカプラ−の製造方法Info
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- JPS5896072A JPS5896072A JP19344081A JP19344081A JPS5896072A JP S5896072 A JPS5896072 A JP S5896072A JP 19344081 A JP19344081 A JP 19344081A JP 19344081 A JP19344081 A JP 19344081A JP S5896072 A JPS5896072 A JP S5896072A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はハロゲン化銀カラー写φ℃感光材料に用いられ
るマゼンタ色素形成カプラー(以下マゼンタカプラーと
称す。)の製造方法に関する。詳しくはマゼンタカプラ
ーの活性点にアルキルチオ基を尋人するための新規な製
造方法に関する1、カプラーを含むハロケン化釧カラー
J4貢感光材料(以V単にカラー感光材料と称す。)に
おいては、悸様露光体、均、1家抄中、露光濫れた・・
ロケン化銀粒子を敵元することにより生成するカラー現
1家剤の酸化体とカプラーとの反応により色素画像が形
成される。従来のカプラーの多くは4当倹カプラー、す
なわち1モルの色素を形成するのに・・ロケン化銀4モ
ルの還元を必安とするものであつた。一方、カプラーの
活性点がカップリングに除して離脱可能な基で置換をれ
た2自蓋カプラーも知られており、この場合には1モル
の色素を形成するのにハロゲン化銀2モルの還元しか必
要しない。2当倉カプラーは4当量カプラーに比ベカッ
プリング反応性が向上するので現像に長時間を要するこ
となく、小車なカラー現像処理に」^したカラー写真感
光材料を提供することができる。
るマゼンタ色素形成カプラー(以下マゼンタカプラーと
称す。)の製造方法に関する。詳しくはマゼンタカプラ
ーの活性点にアルキルチオ基を尋人するための新規な製
造方法に関する1、カプラーを含むハロケン化釧カラー
J4貢感光材料(以V単にカラー感光材料と称す。)に
おいては、悸様露光体、均、1家抄中、露光濫れた・・
ロケン化銀粒子を敵元することにより生成するカラー現
1家剤の酸化体とカプラーとの反応により色素画像が形
成される。従来のカプラーの多くは4当倹カプラー、す
なわち1モルの色素を形成するのに・・ロケン化銀4モ
ルの還元を必安とするものであつた。一方、カプラーの
活性点がカップリングに除して離脱可能な基で置換をれ
た2自蓋カプラーも知られており、この場合には1モル
の色素を形成するのにハロゲン化銀2モルの還元しか必
要しない。2当倉カプラーは4当量カプラーに比ベカッ
プリング反応性が向上するので現像に長時間を要するこ
となく、小車なカラー現像処理に」^したカラー写真感
光材料を提供することができる。
また、2当量カプラーをハロゲン化銀写真乳剤層中に含
むカラー感光材料は4当量カプラーを含む場合に比べ、
一定量の色素を得るのにハロゲン化銀は半喰でよいので
コストが低減でき、同時に乳剤層の薄膜化ができ色画像
の解隊力、鮮鋭度が向上する。
むカラー感光材料は4当量カプラーを含む場合に比べ、
一定量の色素を得るのにハロゲン化銀は半喰でよいので
コストが低減でき、同時に乳剤層の薄膜化ができ色画像
の解隊力、鮮鋭度が向上する。
このように2当量カプラーは4当−鎗カプラーより有利
な而を多く廟し7ている。
な而を多く廟し7ている。
2当址カプラーのうち発色現像剤の醒化生成物と力・ン
ブリノグしてメルカプタンを放出スるカプラーが知られ
ている。上述のある棟のチオエーテル訪甚体はDIR(
現1隊抑制剤放出)カプラー、BIR(漂白抑制剤放出
)カプラー、あるいはBAR(漂白促進剤放出)カプラ
ーとして知られている1、 これ捷でにメルカプタンを放出する2当゛H(マゼンタ
カプラーの製造方法としては、米国%許第3.227,
554号、同第3,701,783号に記載されている
ようにスルフェニルクロライドと4当量ピラゾロンカプ
ラーを反応させる方法、特開昭49−62 、464号
に記載されているようにビラゾロン力ダラーの4位をジ
ブロム化しておき、約3倍モルのメルカプタンと反応さ
せる方法、リザーf−ティスクo −シー?−(Re5
earch 1)iselosure )13806
(1975)に^己載されているように4当奮ピラゾa
ンカプラーとメルカプタンの存在ド某素をγ岡下してゆ
く方法、特開昭55−25056号に記載されているよ
うに、4尚債ピラゾロンカプラーとS−アルキルチオイ
ソチオウレアとを反応場せる方法、特開昭55−29,
805号に記載されているように活性点にメルカプト基
を有するマゼンタカプラーとへロケン化合物を反応させ
る方法が知られている。
ブリノグしてメルカプタンを放出スるカプラーが知られ
ている。上述のある棟のチオエーテル訪甚体はDIR(
現1隊抑制剤放出)カプラー、BIR(漂白抑制剤放出
)カプラー、あるいはBAR(漂白促進剤放出)カプラ
ーとして知られている1、 これ捷でにメルカプタンを放出する2当゛H(マゼンタ
カプラーの製造方法としては、米国%許第3.227,
554号、同第3,701,783号に記載されている
ようにスルフェニルクロライドと4当量ピラゾロンカプ
ラーを反応させる方法、特開昭49−62 、464号
に記載されているようにビラゾロン力ダラーの4位をジ
ブロム化しておき、約3倍モルのメルカプタンと反応さ
せる方法、リザーf−ティスクo −シー?−(Re5
earch 1)iselosure )13806
(1975)に^己載されているように4当奮ピラゾa
ンカプラーとメルカプタンの存在ド某素をγ岡下してゆ
く方法、特開昭55−25056号に記載されているよ
うに、4尚債ピラゾロンカプラーとS−アルキルチオイ
ソチオウレアとを反応場せる方法、特開昭55−29,
805号に記載されているように活性点にメルカプト基
を有するマゼンタカプラーとへロケン化合物を反応させ
る方法が知られている。
しかしながら、米国特許第3,227,554号、同第
3,701,783号、特開昭49−62,464号お
よびリサーチψディスクロージャー]3806(、19
75)に^己載の方法はマゼンタカプラーの活性点に導
入で微るメルカプタンの種類に制限があり、ヘテロ項メ
ルカプタン、アリールメルカプタンに対し有効であるが
、アルキルメルカプタンに対しては副生成物が多く実用
的な方法とはいいがたい。
3,701,783号、特開昭49−62,464号お
よびリサーチψディスクロージャー]3806(、19
75)に^己載の方法はマゼンタカプラーの活性点に導
入で微るメルカプタンの種類に制限があり、ヘテロ項メ
ルカプタン、アリールメルカプタンに対し有効であるが
、アルキルメルカプタンに対しては副生成物が多く実用
的な方法とはいいがたい。
また、これらのH法ではスルフェニルクロライドおよび
ピラゾロンσ)4位ジブロム停が化学的に不安定であり
、収4=低ドの原因になっている。特開昭55−25,
056号に記載の方法は、中間体として使用されるS−
アルキルチオ、インチオウレアの塩の製造にお・いて過
酸化水素やエーテルを使用するため危険性が而<、容易
で口ない。、さらに得られる塩の精製が困mfJ:、も
のが多く、カプラー合成時の収率低ドの原因になってい
る。 特開昭55−29,805号に812載の方法は
カプラーの活性点にメルカプト基を導入する合成ステッ
プが加わるため、合成経路か長くなり、全体での収率が
低ドするので実用的ではない。
ピラゾロンσ)4位ジブロム停が化学的に不安定であり
、収4=低ドの原因になっている。特開昭55−25,
056号に記載の方法は、中間体として使用されるS−
アルキルチオ、インチオウレアの塩の製造にお・いて過
酸化水素やエーテルを使用するため危険性が而<、容易
で口ない。、さらに得られる塩の精製が困mfJ:、も
のが多く、カプラー合成時の収率低ドの原因になってい
る。 特開昭55−29,805号に812載の方法は
カプラーの活性点にメルカプト基を導入する合成ステッ
プが加わるため、合成経路か長くなり、全体での収率が
低ドするので実用的ではない。
そこで、本発明の製造方法は容易に合成でへる原料を使
用して4当量マゼンタカプラーの活性点に一段階でアル
キルチオ基を導入できるという利点を有しており、その
導入できるアルキルチオ基の汎用性に特徴があり、上記
公知文+14I:に記載されていない新規な2当量マゼ
ノタカプラー製造方法である。
用して4当量マゼンタカプラーの活性点に一段階でアル
キルチオ基を導入できるという利点を有しており、その
導入できるアルキルチオ基の汎用性に特徴があり、上記
公知文+14I:に記載されていない新規な2当量マゼ
ノタカプラー製造方法である。
即ち、本発明の第lの目的は、マゼンタカプラーの活性
点にアルギルチオ基を導入するυF現な合成法イ提供す
ることでるる。第2の目的は、簡単な++lL!作で、
かつ間収率いアルギルチオ基を導入する合成法を提供す
ることである。第3の目的は、アルギルチオ基を脱離基
とする2当量マゼンタカプラーの竹規′/X、製造方法
を提供することである。
点にアルギルチオ基を導入するυF現な合成法イ提供す
ることでるる。第2の目的は、簡単な++lL!作で、
かつ間収率いアルギルチオ基を導入する合成法を提供す
ることである。第3の目的は、アルギルチオ基を脱離基
とする2当量マゼンタカプラーの竹規′/X、製造方法
を提供することである。
第4の目的は、これらの製造方法によって(0られるア
ルキルチオ基を脱離基とする2当量マゼンタカプラーを
十か供することである。さらに第5の目的は、アルキル
チオ基を脱離基とする2当量マゼンタカプラーを使用し
た・\ロゲン化銀カラー写真感光伺料を提供することで
ある。
ルキルチオ基を脱離基とする2当量マゼンタカプラーを
十か供することである。さらに第5の目的は、アルキル
チオ基を脱離基とする2当量マゼンタカプラーを使用し
た・\ロゲン化銀カラー写真感光伺料を提供することで
ある。
上記発明の諸口的は、活性点が無置換の4当量マゼンタ
カプラー(A−Hで表わす)と下記一般式+lIlで表
わされる化合物との反応によって、下記一般式F11で
表わされるアルキルチオ基を有する2当貴マゼンタカプ
ラーを得ることにより達成することができる。
カプラー(A−Hで表わす)と下記一般式+lIlで表
わされる化合物との反応によって、下記一般式F11で
表わされるアルキルチオ基を有する2当貴マゼンタカプ
ラーを得ることにより達成することができる。
すなわち、以■の反応により2肖喰マゼンタカプラーA
−8Rが生成する。
−8Rが生成する。
A−8−R一般式〇+
式中、Aはマゼンタカブ2−の活性点の水素原子を1個
除去した基を、Rはアルキル基を、Xはν素原子、イオ
ウ原子゛またはメチン基を、Yは窒素坤子またはメチン
基を、2はXとYと共に5負または6負環を構成する非
金属原子群を表わす。
除去した基を、Rはアルキル基を、Xはν素原子、イオ
ウ原子゛またはメチン基を、Yは窒素坤子またはメチン
基を、2はXとYと共に5負または6負環を構成する非
金属原子群を表わす。
また、2はさらに縮合3解を竹してもよい。
ブらに旧iL、<述べると、F(で衣わされるアルキル
基は飽和のもの、不飽オ[1のもの、1v鎖σ)もの、
分岐のもの、環状のもののいずれでもよく、例えばメチ
ル基、エチル基、1−プロピル基、n−ブチル基、t−
ブチル基、n−ドナシル基、n−オフタテノル量、シク
ロヘギシル基、シクロヘキシルメチル基、アリル基、オ
レイル基、シクロへキセニル基等である。これらの基は
・・ロケン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコ
キシ、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキ
シ、カルボキン、カルボッ酸エステル、カルバモイル、
スルホ、スルホン酸ニスデル、°スルファモイル、アル
キルチオ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミン
、アシルアミノ、スルホンアミド、ウレイド、ワレタン
、スルフィニル、メルカプト、アリール、複素環などの
置換基で置換されてもよ 7− い。一般式111]に2いで、XとYが同時にメチン基
である場合の代表的な具体例は、フェニル基およびナフ
チル恭であり、XとYが同時にメチン基でない場合の具
C+例←tピリジル、ピロリル、オキサシリル、チアゾ
リル、ベンズオキサシリル、ベンズチアゾリル、キノリ
ル、フリル、チェニル、インドリル、ピラジニル、ピリ
ミジニル等である。
基は飽和のもの、不飽オ[1のもの、1v鎖σ)もの、
分岐のもの、環状のもののいずれでもよく、例えばメチ
ル基、エチル基、1−プロピル基、n−ブチル基、t−
ブチル基、n−ドナシル基、n−オフタテノル量、シク
ロヘギシル基、シクロヘキシルメチル基、アリル基、オ
レイル基、シクロへキセニル基等である。これらの基は
・・ロケン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコ
キシ、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキ
シ、カルボキン、カルボッ酸エステル、カルバモイル、
スルホ、スルホン酸ニスデル、°スルファモイル、アル
キルチオ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミン
、アシルアミノ、スルホンアミド、ウレイド、ワレタン
、スルフィニル、メルカプト、アリール、複素環などの
置換基で置換されてもよ 7− い。一般式111]に2いで、XとYが同時にメチン基
である場合の代表的な具体例は、フェニル基およびナフ
チル恭であり、XとYが同時にメチン基でない場合の具
C+例←tピリジル、ピロリル、オキサシリル、チアゾ
リル、ベンズオキサシリル、ベンズチアゾリル、キノリ
ル、フリル、チェニル、インドリル、ピラジニル、ピリ
ミジニル等である。
これらの基はハロク゛ン原子、ニトロ、シアノ、アルキ
ル、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アシル
オキシ、スルホニルオキシ、カルボキシ、カルボッ酸エ
ステル、カルバモイル、スルホ、スルホン酸エステル、
スルファモイル、アルキルチオ、アリールチオ、スルホ
ニル、アシル、アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド
、ウレイド、ウレタン、スルフィニル、メルカプト、ア
リール、複素環基などの置換基で置換されてもよい。
ル、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アシル
オキシ、スルホニルオキシ、カルボキシ、カルボッ酸エ
ステル、カルバモイル、スルホ、スルホン酸エステル、
スルファモイル、アルキルチオ、アリールチオ、スルホ
ニル、アシル、アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド
、ウレイド、ウレタン、スルフィニル、メルカプト、ア
リール、複素環基などの置換基で置換されてもよい。
Aで表わされるマゼンタカプラー残基としては2−ピラ
ゾリン−5−オン核、ピラゾロ−〔1゜5−a〕ベンズ
イミダゾール核、1ト■ピ7ゾo−(5,1−c)[1
,2,4]トリアゾール核、 8− インクゾロン核、ベンジルシアナイド核、ビラゾIJ
シン−3、5−ジオン核等があるが、2−ピラゾリン−
5−オン核、ピラゾロ[1,5−a〕ベンズイミダゾー
ル核およびl Hピラゾロ〔5,1−C)[1,2,4
,)l・リアゾール核を有するカプラー残基が好ましい
。
ゾリン−5−オン核、ピラゾロ−〔1゜5−a〕ベンズ
イミダゾール核、1ト■ピ7ゾo−(5,1−c)[1
,2,4]トリアゾール核、 8− インクゾロン核、ベンジルシアナイド核、ビラゾIJ
シン−3、5−ジオン核等があるが、2−ピラゾリン−
5−オン核、ピラゾロ[1,5−a〕ベンズイミダゾー
ル核およびl Hピラゾロ〔5,1−C)[1,2,4
,)l・リアゾール核を有するカプラー残基が好ましい
。
仝発明に時にイイ用なAで表わされる残基は、下Ae一
般式11tl、[■])およびfVJによって表わされ
るものである。
般式11tl、[■])およびfVJによって表わされ
るものである。
一般式filにおいて[(1はアルキル基、アIJ
/し基、複素環基を表わす1、R1で表わされるアルキ
ル飽第1のもの不飽40のもの、直鎖のもの、分岐σ)
もの、墳状のもののい丁れでもよく、例えばメチル基、
エチル基、1−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基、n−ドテシル基、n−オクタデシル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘキシルメチル基、アリル基、オレイル
基、シクロヘキセニル基等である。これらの基は・・ロ
グン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、
アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カ
ルボキシ、カルボン酸エステル、カルノくモイル、スル
ホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチ
オ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミン、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、ワレイド、ウレタン、スル
フィニル、スルファモイル、アルキルチオ、アリールチ
オ、スルホニル アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、ワレイド、ウ
レタン、スルフィニル、メルカプト、アリール、複素環
基などの置換基で置換てれてもよい。
/し基、複素環基を表わす1、R1で表わされるアルキ
ル飽第1のもの不飽40のもの、直鎖のもの、分岐σ)
もの、墳状のもののい丁れでもよく、例えばメチル基、
エチル基、1−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基、n−ドテシル基、n−オクタデシル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘキシルメチル基、アリル基、オレイル
基、シクロヘキセニル基等である。これらの基は・・ロ
グン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、
アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カ
ルボキシ、カルボン酸エステル、カルノくモイル、スル
ホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチ
オ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミン、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、ワレイド、ウレタン、スル
フィニル、スルファモイル、アルキルチオ、アリールチ
オ、スルホニル アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、ワレイド、ウ
レタン、スルフィニル、メルカプト、アリール、複素環
基などの置換基で置換てれてもよい。
■(1で表わされるアリール!はフェニル基、ナフチル
基であり、これらの基は・・ロケンj伝子、ニトロ、シ
アノ、アルキル、ヒト1コギシ、アルコキシ、アリール
オキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボキシ
、カルボン酸エステル、カル)くモイル、スルホ、スル
ホン酸ニスデル、スルファモイル、−アルキルチオ、7
U−ル男オ、スルホニル、アシル、アミン、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、つVイド、ウレタン、スルフィニ
ル、メルカプト、アリール、α素環な゛どの置挾基装置
1臭されてもよい。
基であり、これらの基は・・ロケンj伝子、ニトロ、シ
アノ、アルキル、ヒト1コギシ、アルコキシ、アリール
オキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボキシ
、カルボン酸エステル、カル)くモイル、スルホ、スル
ホン酸ニスデル、スルファモイル、−アルキルチオ、7
U−ル男オ、スルホニル、アシル、アミン、アシルアミ
ノ、スルホンアミド、つVイド、ウレタン、スルフィニ
ル、メルカプト、アリール、α素環な゛どの置挾基装置
1臭されてもよい。
馬で衣わされる少素壌基はヒリジル丞、キノリル基、フ
リル希、ペンスチオゾリル基、ベンズオキサシリル基、
ペンスイミタゾリル基、ピペリジニル基などであり、こ
れらの基は前i己のアリール基について列挙した置換基
によー・て置換されてもよい。
リル希、ペンスチオゾリル基、ベンズオキサシリル基、
ペンスイミタゾリル基、ピペリジニル基などであり、こ
れらの基は前i己のアリール基について列挙した置換基
によー・て置換されてもよい。
式中、R2は水素原子、アルキルチオ( Ail記R,
σ)アルキル奉と同一の意味を有する。)、アリール基
(貨l記R1σ)アリール基と同一の葱i禾を有すム)
画素環基(前記R1の複素環基と同一の意味を有する。
σ)アルキル奉と同一の意味を有する。)、アリール基
(貨l記R1σ)アリール基と同一の葱i禾を有すム)
画素環基(前記R1の複素環基と同一の意味を有する。
)、カルボン削エステル基(例えば、エトキシカルボニ
ル、フェノギシカルボニル等)、アルコキシ基(例えは
、メトキシ、n−ドデシルオキシ等)、アリールオキシ
基(例えは、フェノキシ)、アルキルチオ基(例えば、
メチルチオ、ベンジルチオ等)、アリールチオ基(ρl
えば、フェニルチオ等)、カルボキシ基、カルバモイル
基(例えばエチルカルバモイル、N−フェニルカルノく
モイル等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ
、n−テトラデカノイルアミノ、α−(2.4−ジー−
1−アミルフェノキシ)ブチルアミド、3−〔α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)アセトアミド〕ベン
ズアミド等)、アミン基(例えばメチルアミノ、アニリ
ノ、2−クロル−5 −’ n −テトラデカンアミド
アニリノ、2−クロル−5−(ジーオクタデセニルサク
シンイミド)アニリノ等)、ワレイド基(例えば、n−
テトラデシルウレイト、フェニルツレイド、N−ドデシ
ル−N −フェニルワレイド等)、スルホンアミド基(
し0えば、n−ブタンスルホンアミド、p−n−ドデシ
ルオキンベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル
恭(例えば、n−ドデシルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル等)、カルバモイル基((i!ilJ工l
−jl’、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル
等)、アシル基(1列えは、アセチル、ベンゾイル等)
、ウレタン基、シアン基、ヒドロキシ基、メルカプト基
、スルホ基およびハロゲン原子のいずれかを表わす。
ル、フェノギシカルボニル等)、アルコキシ基(例えは
、メトキシ、n−ドデシルオキシ等)、アリールオキシ
基(例えは、フェノキシ)、アルキルチオ基(例えば、
メチルチオ、ベンジルチオ等)、アリールチオ基(ρl
えば、フェニルチオ等)、カルボキシ基、カルバモイル
基(例えばエチルカルバモイル、N−フェニルカルノく
モイル等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ
、n−テトラデカノイルアミノ、α−(2.4−ジー−
1−アミルフェノキシ)ブチルアミド、3−〔α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)アセトアミド〕ベン
ズアミド等)、アミン基(例えばメチルアミノ、アニリ
ノ、2−クロル−5 −’ n −テトラデカンアミド
アニリノ、2−クロル−5−(ジーオクタデセニルサク
シンイミド)アニリノ等)、ワレイド基(例えば、n−
テトラデシルウレイト、フェニルツレイド、N−ドデシ
ル−N −フェニルワレイド等)、スルホンアミド基(
し0えば、n−ブタンスルホンアミド、p−n−ドデシ
ルオキンベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル
恭(例えば、n−ドデシルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル等)、カルバモイル基((i!ilJ工l
−jl’、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル
等)、アシル基(1列えは、アセチル、ベンゾイル等)
、ウレタン基、シアン基、ヒドロキシ基、メルカプト基
、スルホ基およびハロゲン原子のいずれかを表わす。
一般式i1VlのR,σ水素原子、アルキル基(前記R
1のアルキル基と同一の意味を有する。)、アIJ −
ル基(前記R1σ)アリール基と同一の意味を有する。
1のアルキル基と同一の意味を有する。)、アIJ −
ル基(前記R1σ)アリール基と同一の意味を有する。
)、複素環基(前記R,の複素環基と同一の意味をイ〕
する。)、・・ログン原子、ニトロ、シアノ、アルキル
、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオ
キシ、スルホニルオキシ、カルボキシ、カルボン酸エス
テル、カルバモイル、スルホ、スルホン酸エステル、ス
ルファモイル、アルキルチオ、アリールチオ、スルホニ
ル、アシル、アミン、アシルアミノ、スルホンアミド、
つVイド、ウレタン、スルフィニルおよびメルカプトか
ら顆ばれる基を衣ゎす。
する。)、・・ログン原子、ニトロ、シアノ、アルキル
、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオ
キシ、スルホニルオキシ、カルボキシ、カルボン酸エス
テル、カルバモイル、スルホ、スルホン酸エステル、ス
ルファモイル、アルキルチオ、アリールチオ、スルホニ
ル、アシル、アミン、アシルアミノ、スルホンアミド、
つVイド、ウレタン、スルフィニルおよびメルカプトか
ら顆ばれる基を衣ゎす。
一般式IVIσ)I(4はR2と同義である。
本発明の実施に際してはAが一般式鳳で表わされるもの
であるとき、発明の効果が大きい点で特に好せしい1 以Frま一般式[11Jで衣わされる化合物の具体例で
あるが、本発明はこれによって伺ら限定されるものでは
ない。
であるとき、発明の効果が大きい点で特に好せしい1 以Frま一般式[11Jで衣わされる化合物の具体例で
あるが、本発明はこれによって伺ら限定されるものでは
ない。
■
−1へ −
I匂02
(す
c)0“・
(!Φ
0(IOH
Of +〕I
Q少
C,l C1
1102
16−
(φ
02
0()OH
(gtj)
crち
軸 DH
これら一般式tn+の化合物は従来公知の方法で合成で
きる。例えばスルフェニル訪専体とメルカプタンを反応
させる方法、スルフェンアミドとメルカプタンを反応、
させ0方法、チオスルホン酸あるいはチオスルホン酸ニ
スアルとメルカプタンを反応させる方法、8−アルキル
チオイソチオワレアとメルカプタンを反応をせる方法な
どであり、これらの合成法はシンセシス(S・YNTl
lESIS ) (3) ](11−133(1972
) 、ケミカル・ファーマンイー・プリテン(Ohem
、 pHarm、 Bull、) 、 VoL+18
235−242 (1,972’)などに記載されてい
る。
きる。例えばスルフェニル訪専体とメルカプタンを反応
させる方法、スルフェンアミドとメルカプタンを反応、
させ0方法、チオスルホン酸あるいはチオスルホン酸ニ
スアルとメルカプタンを反応させる方法、8−アルキル
チオイソチオワレアとメルカプタンを反応をせる方法な
どであり、これらの合成法はシンセシス(S・YNTl
lESIS ) (3) ](11−133(1972
) 、ケミカル・ファーマンイー・プリテン(Ohem
、 pHarm、 Bull、) 、 VoL+18
235−242 (1,972’)などに記載されてい
る。
次にこのような一般式(IIIで表わされる化合物とA
−H″′c表わされる4当量マゼンタカプラーとの反応
について述べる。
−H″′c表わされる4当量マゼンタカプラーとの反応
について述べる。
4当量カプラーに対し一般式[11Jの化合物は1〜1
0倍モル量で使用することができるが、1〜2倍モル量
が好ましい。反応溶媒としては、アルコール系ig(メ
タノール、エタノール、インプロパツール等)、エーテ
ル系溶媒(テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、エス
テル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル那)、ケトン糸溶
媒(アセトン、メチルエチルケトン等)、ハロケン化水
素系溶媒(クロロホルム、ジクロルエタン等)、芳香族
炭化水素系溶媒(べ7ゼン、トルエン、キシレン等)、
非フロトン性極性溶媒(ジメチルホルムアミド、シメチ
ルスルホギシド、ヘキサメチルホスホトリアミド等)、
有機酸痔媒(酢酸等)、石油系溶媒アセトニトリル、水
等が使用されるが、特にアルコール糸溶媒が好まし7い
。
0倍モル量で使用することができるが、1〜2倍モル量
が好ましい。反応溶媒としては、アルコール系ig(メ
タノール、エタノール、インプロパツール等)、エーテ
ル系溶媒(テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、エス
テル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル那)、ケトン糸溶
媒(アセトン、メチルエチルケトン等)、ハロケン化水
素系溶媒(クロロホルム、ジクロルエタン等)、芳香族
炭化水素系溶媒(べ7ゼン、トルエン、キシレン等)、
非フロトン性極性溶媒(ジメチルホルムアミド、シメチ
ルスルホギシド、ヘキサメチルホスホトリアミド等)、
有機酸痔媒(酢酸等)、石油系溶媒アセトニトリル、水
等が使用されるが、特にアルコール糸溶媒が好まし7い
。
゛反応に用いる塩基触媒としては炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素ツートリウム、酢酸ナトリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、
ピリジノ、DBu、ナトリウムエチラート、ナトリウム
メチラート等1史用することができるが、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等が符に好ましい。門虫媒雇ば
4当着カプラーに対し1〜2o1Vrモル量で1史用す
ることができるが、1〜4倍モル址が特に好ましい。反
応温度は−[00〜200℃で実施できるが、100〜
100°Cty)範囲が好ましい。
カリウム、炭酸水素ツートリウム、酢酸ナトリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、
ピリジノ、DBu、ナトリウムエチラート、ナトリウム
メチラート等1史用することができるが、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等が符に好ましい。門虫媒雇ば
4当着カプラーに対し1〜2o1Vrモル量で1史用す
ることができるが、1〜4倍モル址が特に好ましい。反
応温度は−[00〜200℃で実施できるが、100〜
100°Cty)範囲が好ましい。
反応路r後、一般式(11で表わされるカプラーを宮ひ
反応混合物を水にあけ、中オ]」することで目的物を得
ることができる。必要に応じエーテル、酢酸エチル、ク
ロロホルム等の有機溶媒で抽出することで有慎解媒に浴
けにくい副生物のメルカプタンは除去できるし、水に酸
レフやすいメルカプタンは水洗を十分に行なうことで除
去できる。その俊敏酸ナトリウム、硫酸マグネシウム等
の乾燥剤で乾保し濃縮して一般式山で表わされるカプラ
ーを得ることができる。史に適当な溶媒から再結晶して
消蜆゛すること〃・できゐ。本り6明の製1δ方法によ
れば、C′j]1寸で容易に合成でさなかったアルキル
チオ基を脱離基として有する2尚瀘マゼ/タカブラーを
合成することができる。
反応混合物を水にあけ、中オ]」することで目的物を得
ることができる。必要に応じエーテル、酢酸エチル、ク
ロロホルム等の有機溶媒で抽出することで有慎解媒に浴
けにくい副生物のメルカプタンは除去できるし、水に酸
レフやすいメルカプタンは水洗を十分に行なうことで除
去できる。その俊敏酸ナトリウム、硫酸マグネシウム等
の乾燥剤で乾保し濃縮して一般式山で表わされるカプラ
ーを得ることができる。史に適当な溶媒から再結晶して
消蜆゛すること〃・できゐ。本り6明の製1δ方法によ
れば、C′j]1寸で容易に合成でさなかったアルキル
チオ基を脱離基として有する2尚瀘マゼ/タカブラーを
合成することができる。
不発明の呻奄方法は容易に合成し得る中間体と活性点が
無1り換の4当砒カプラーから高収率で種々のアルキル
チオ基を導入できるという利点を有している。本発明に
よりイ坪ることができる2当重マゼンタカフラーの具体
例σ以ドのとおりであるが、本発明はこれにより何ら限
定されることはない。
無1り換の4当砒カプラーから高収率で種々のアルキル
チオ基を導入できるという利点を有している。本発明に
よりイ坪ることができる2当重マゼンタカフラーの具体
例σ以ドのとおりであるが、本発明はこれにより何ら限
定されることはない。
ヒリ示マセンタカプラー
(1,1
1
!
o O、H。
(5) 。!
02H。
(7)
−消 −
(8)
1
(I7)
0鴇
28−
、 F−83,)Ja
(”、 +4.、−t
S
t:o、H
に1n)
OIイ、Of’IN(02H,)2
本発明の製造法による代表的な2当量マゼンタカプラー
σ)合成し1jを以1丁に配すが、これによ−′−)で
(03等限定されるものでViない。
σ)合成し1jを以1丁に配すが、これによ−′−)で
(03等限定されるものでViない。
実施例 1 (レリ示マゼンタカプラー(B)の合成)
] −(2、4、6−トリクロルフェニル)−3−(2
−クロル−5−〇−テトラデカ/アミドアニリノ)−2
−ピラゾリン−5−オン5.1gを80%エタノール1
25m乙に俗解し、炭酸カリウム0.69を冷)Jrl
l、、加熱還流(党拌F、エトギシ力ルホニルメチル
ー2−二トロフェニルジスルフィト2.4〃をエタノー
ル2.5 mlに感情したものを20分曲で軸下し、さ
らに1時間7J11熱攪、汁をイボな−、)だ。
] −(2、4、6−トリクロルフェニル)−3−(2
−クロル−5−〇−テトラデカ/アミドアニリノ)−2
−ピラゾリン−5−オン5.1gを80%エタノール1
25m乙に俗解し、炭酸カリウム0.69を冷)Jrl
l、、加熱還流(党拌F、エトギシ力ルホニルメチル
ー2−二トロフェニルジスルフィト2.4〃をエタノー
ル2.5 mlに感情したものを20分曲で軸下し、さ
らに1時間7J11熱攪、汁をイボな−、)だ。
反比、容器を水冷後、酢酸エチル20(l mlを加え
、水洗を2回付ない焦(水(流酸マグネシウムで乾ヅ栗
し7た後、所、酸マク不シワムを除去し、溶媒を減圧留
去して伶られた残渣物を酢酸エチル/n−ヘギザンの混
合醗媒から再結晶し2て淡黄色結晶3.69を侍だ。融
点は1.35〜136°Cで収率は59%であった。
、水洗を2回付ない焦(水(流酸マグネシウムで乾ヅ栗
し7た後、所、酸マク不シワムを除去し、溶媒を減圧留
去して伶られた残渣物を酢酸エチル/n−ヘギザンの混
合醗媒から再結晶し2て淡黄色結晶3.69を侍だ。融
点は1.35〜136°Cで収率は59%であった。
元素分析
CHN S
計算値 54.10% 5.78’惰 7.(i5 ”
/n 4.38%実測値 54.18% 5,91臀
17.50% 4.49%電解脱離法による匂脩分析
M+2 = 7:32 Kより確認同定1′fL。
/n 4.38%実測値 54.18% 5,91臀
17.50% 4.49%電解脱離法による匂脩分析
M+2 = 7:32 Kより確認同定1′fL。
比較実用しり
夷禰タリ1の例示マゼンタプIブラー(3)を合成する
のに従来知られている特開昭55−25056号に記載
の合成法に従った場合、1−(2,4、6−ドリクロル
フエ、ニル)−3−(2−Joシル−−n−テトラテカ
ンアミドアニリノ)−2−ピラゾリン−5−オン5.1
9を80%エタノール125 lnlに溶解し炭酸カリ
ウム0.6.9e?企加し加熱還流攪拌下S−エトキシ
カルボニルメチルチオイソチオウレア塩酸塩1.99を
20m1のエタノールに俗解したものを加分間で滴下し
、さらに2時間加熱攪拌した。
のに従来知られている特開昭55−25056号に記載
の合成法に従った場合、1−(2,4、6−ドリクロル
フエ、ニル)−3−(2−Joシル−−n−テトラテカ
ンアミドアニリノ)−2−ピラゾリン−5−オン5.1
9を80%エタノール125 lnlに溶解し炭酸カリ
ウム0.6.9e?企加し加熱還流攪拌下S−エトキシ
カルボニルメチルチオイソチオウレア塩酸塩1.99を
20m1のエタノールに俗解したものを加分間で滴下し
、さらに2時間加熱攪拌した。
反応容器を水冷後、酢酸エチル20j)mlを加え、水
洗乾燥後、溶媒を留去して得られた褐色残漬物を酢酸エ
チル/n−へキサンの混合溶奴から再結晶しようと試み
たが小可能たった。次にカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲルを充填剤としてベンセンと酢酸エチルで展開し
た)にかけ目的物をとり(tlL I¥「mエチル/n
−ヘキサノの混合溶媒から再結晶して結晶o、 9.9
を得た。
洗乾燥後、溶媒を留去して得られた褐色残漬物を酢酸エ
チル/n−へキサンの混合溶奴から再結晶しようと試み
たが小可能たった。次にカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲルを充填剤としてベンセンと酢酸エチルで展開し
た)にかけ目的物をとり(tlL I¥「mエチル/n
−ヘキサノの混合溶媒から再結晶して結晶o、 9.9
を得た。
噸点に二136〜1;37°Cで収率は15%でめった
。
。
実施列 2 (例示マゼンタ力ダラー(5)の合成)1
−(2,4,6−)リクロルフェニル)−3−(2−ク
ロル−5−n−テトラテカンアミドアニリノ)−2−ピ
ラゾリン−5−オン5.11を開%エタノール125m
1に#4解し、炭酸カリウム0.69を箔力11シ加熱
還流攪拌下、2−ベンジルジチオ−ベンゾ−)7ゾール
2.69をエタノール2.5 rtrl K 俗解した
く、のを20分間で簡トーシ、δらに1時間加熱攪拌を
行4・つた。反応教を氷水中に注ぎ中オ[1後析出した
結晶をt−1」収し乾燥後、幀−酸コーチル/n−ヘキ
サンの混合浴Uから1件結晶して白色結晶4.:i9を
得た1、融点ii: 181〜182 ”(’、で11
V率は70%であった。
−(2,4,6−)リクロルフェニル)−3−(2−ク
ロル−5−n−テトラテカンアミドアニリノ)−2−ピ
ラゾリン−5−オン5.11を開%エタノール125m
1に#4解し、炭酸カリウム0.69を箔力11シ加熱
還流攪拌下、2−ベンジルジチオ−ベンゾ−)7ゾール
2.69をエタノール2.5 rtrl K 俗解した
く、のを20分間で簡トーシ、δらに1時間加熱攪拌を
行4・つた。反応教を氷水中に注ぎ中オ[1後析出した
結晶をt−1」収し乾燥後、幀−酸コーチル/n−ヘキ
サンの混合浴Uから1件結晶して白色結晶4.:i9を
得た1、融点ii: 181〜182 ”(’、で11
V率は70%であった。
元素分析
CII N S
計算値 58.69% 5.15% 7.60% 4
.35%実験、値 58.85% 5.92%
7.50% 4 、50%電解脱舗法による質量分析
M+2=736 により確認同定した。
.35%実験、値 58.85% 5.92%
7.50% 4 、50%電解脱舗法による質量分析
M+2=736 により確認同定した。
実施例 3 (例示マゼンタカプラー任4の合成)1−
(2、4、6−ドリクロルフエニル)−3−(3−(2
,4−ジーt e r t−アミルフェノキ35− シ)アセトアミド)ベンズアミド−2−ピラゾリン−5
−オン6.6gを80%エタノール200mgに溶解し
ス1j(水炭酸カリウム0.7gを冷加し刀ロ熱還流下
エチルー2−カルボキシ−4−ニトロフェニルジスルフ
ィド2.f′1.9をエタノール:3tJ mgに分散
したものを5分1itlでIhi ’F t−1さらに
2時間が熱攪拌を行な−・た。反応准を氷水中にcEき
゛中オロ後、析出した結晶をf取し乾燥後、アセトニト
リルから再結晶して白色結晶5,39を得た。融点は1
39〜140 ℃マ゛収率は74%でkI−Iだ。
(2、4、6−ドリクロルフエニル)−3−(3−(2
,4−ジーt e r t−アミルフェノキ35− シ)アセトアミド)ベンズアミド−2−ピラゾリン−5
−オン6.6gを80%エタノール200mgに溶解し
ス1j(水炭酸カリウム0.7gを冷加し刀ロ熱還流下
エチルー2−カルボキシ−4−ニトロフェニルジスルフ
ィド2.f′1.9をエタノール:3tJ mgに分散
したものを5分1itlでIhi ’F t−1さらに
2時間が熱攪拌を行な−・た。反応准を氷水中にcEき
゛中オロ後、析出した結晶をf取し乾燥後、アセトニト
リルから再結晶して白色結晶5,39を得た。融点は1
39〜140 ℃マ゛収率は74%でkI−Iだ。
元素分析
CHN S
計算値 58.37L外 5.74% 7.78%
4.45%実験値 58.39% 5.9(1% 7
.72% 4.61%電解脱離法による質量分析 M+
2=720 により確認同定しに0 代理人 桑 涼゛ 鶏、美 −3も =
4.45%実験値 58.39% 5.9(1% 7
.72% 4.61%電解脱離法による質量分析 M+
2=720 により確認同定しに0 代理人 桑 涼゛ 鶏、美 −3も =
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 fl) ”F Srニ一般式(月で表わされる化合物
とA−Hで表わされる活性点が無置換のマゼンタカプラ
ーとを反応させることを特徴とする下記一般式(11で
表わされるカプラーの製造方法。 A −S−1え 一般式[1] 〔式中、Aはマゼンタカプラーの活性点の水素原子を1
個除去した基を、Rはアルキル基を、Xil″j酸素原
子、イオウ原子またはメチン基を、Yは窒J:原子t+
たはメチン基を、ZはXとYと共に5員また(lよ6@
環を構成する非金属原子群を表わす。寸た2はさらに縮
合環を有してもよい。〕 (21A−Hで表わされるマゼンタカプラーが、2−ピ
ラゾリン−5−オン誘4K、ピラゾロ−〔1,,5−a
)ベンズイミダゾール誘導体およびIHピラゾロ(!i
、] −C)[1,2゜4〕トリアゾ一ル訪専体である
ことを特徴とする特許ijW釆の範囲第(1)頃記載の
マゼンタカプラーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19344081A JPS5896072A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | マゼンタカプラ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19344081A JPS5896072A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | マゼンタカプラ−の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5896072A true JPS5896072A (ja) | 1983-06-07 |
JPH0456027B2 JPH0456027B2 (ja) | 1992-09-07 |
Family
ID=16308018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19344081A Granted JPS5896072A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | マゼンタカプラ−の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5896072A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055343A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPS61120154A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-07 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPS61141446A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPS6448862A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-23 | Konishiroku Photo Ind | Pyrazoloazole colorant |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5525056A (en) * | 1978-08-10 | 1980-02-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of coupler having thiol ether |
-
1981
- 1981-12-01 JP JP19344081A patent/JPS5896072A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5525056A (en) * | 1978-08-10 | 1980-02-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of coupler having thiol ether |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055343A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPS61120154A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-07 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPH0562729B2 (ja) * | 1984-11-15 | 1993-09-09 | Konishiroku Photo Ind | |
JPS61141446A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPH0566574B2 (ja) * | 1984-12-14 | 1993-09-22 | Konishiroku Photo Ind | |
JPS6448862A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-23 | Konishiroku Photo Ind | Pyrazoloazole colorant |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0456027B2 (ja) | 1992-09-07 |
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