JPS5891851U - 走査型反射電子回折顕微装置 - Google Patents

走査型反射電子回折顕微装置

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JPS5891851U
JPS5891851U JP18635681U JP18635681U JPS5891851U JP S5891851 U JPS5891851 U JP S5891851U JP 18635681 U JP18635681 U JP 18635681U JP 18635681 U JP18635681 U JP 18635681U JP S5891851 U JPS5891851 U JP S5891851U
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JP
Japan
Prior art keywords
fluorescent plate
aperture
diffraction
backscattered electron
scanning
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Pending
Application number
JP18635681U
Other languages
English (en)
Inventor
昌和 市川
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図ａは、−次電子ビーム電流及び開き角と一部電子
ビニム径のｉ係を示すグラフ、同図すは一次電子ビーム
の開き角の定義をするための図、。 第２図は本考案による走査型反射電子回折顕微装置の全
体構成図、第３図は一部電子ビーム七反射回折線との間
に成り立つ相反原理を示す図、第４゜５．６図は本考案
による反射回折線のうちある角度幅内に存在する反射回
折線のみを信号として使用することを可能にする機構の
実施例を示す構成図である。 １・・・−次電子ビーム、２・・・電子銃、３・・・収
束レンズ、４・・・加速電源、５・・・−次電子ビーム
用偏向コイル群、６・・・真空容器、７・・・試料、８
・・・反射回折線、９・・・アパーチャ、１０・・・偏
向コイル群、１１・・・螢光スクリーン、１２・・・の
ぞき窓、１３・・・光電変換素子、１４・・・陰極線管
（ＣＲＴ）、１５・・・走査電源。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空中で電子源から一次電子ビームを取出し、収束レン
    ズ及び偏向系を使用して試料表面上の所定領域に所定角
    度で照射し、それによって上記試料の表面で反射される
    反射電子の回折像を螢光板上に形成し、上記螢光板上の
    回折像の特定位置からの発光のみを光電変換素子によっ
    て選択的に取出して電気信号に変換す７る走査型反射電
    子回折顕微装置において、上記試料と上記螢光板との間
    、あるいは、上記螢光板と上記光電変換素子との間に少
    なくとも１つのアパニチャを設け、上記アパーチャの孔
    径を可変にすることによって、上記反射電子の回折線の
    上記アパーチャを通過する角度幅を可変にする如く構成
    してなることを特徴とする走査型反射電子回折顕微装置
    。
JP18635681U 1981-12-16 1981-12-16 走査型反射電子回折顕微装置 Pending JPS5891851U (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5510212B1 (ja) * 1971-01-28 1980-03-14
JPS5613650A (en) * 1979-07-13 1981-02-10 Jeol Ltd Scanning type focusing electron-ray diffractor

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5510212B1 (ja) * 1971-01-28 1980-03-14
JPS5613650A (en) * 1979-07-13 1981-02-10 Jeol Ltd Scanning type focusing electron-ray diffractor

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