JPS5890556A - ベンズアミド誘導体及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

ベンズアミド誘導体及びそれらを含有する除草剤

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JPS5890556A
JPS5890556A JP57204899A JP20489982A JPS5890556A JP S5890556 A JPS5890556 A JP S5890556A JP 57204899 A JP57204899 A JP 57204899A JP 20489982 A JP20489982 A JP 20489982A JP S5890556 A JPS5890556 A JP S5890556A
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JP
Japan
Prior art keywords
compound
herbicide
present
same
trifluoromethylpyridin
Prior art date
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Pending
Application number
JP57204899A
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English (en)
Inventor
Kanichi Fujikawa
藤川 敢市
Fumio Kimura
木村 史雄
Takahiro Haga
隆弘 芳賀
Nobuyuki Sakashita
坂下 信行
Sengen Honda
本多 千元
Hirohito Hayashi
林 弘仁
Koji Minamida
幸二 南田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Original Assignee
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明1よ、新規なベンズ7ミド誘導体及びそれらを含
有=1− する除草剤に関する。
更に詳しくは、本発明は一般式(I) 7基又はニトロ基である)で表わされるベンズアミド誘
導体及びそれらの塩に関し、またそれらを有効成分とし
て含有する除草剤に関する。
前記一般式(1)中X及びYで表わされるハロゲン原子
としては、7を素、塩素、臭素、沃素が挙げられる。
本発明化合物は、例えば次の様な方法によって製造する
ことかで軽る。
(式中X及びYは前述の通りである)で表わされる安息
香酸又はその反応性誘導体、望ましくは酸クロリドと、
β−スル7アモイルスチレンとを室温〜還流温度で0.
1〜24時間反応させる。
この反応では、ベンゼン、トルエン、キシレン、ピリノ
2− ン、ノオ却サン、酢酸エステル、テトラヒドロ7ランな
どの溶媒及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カワウな、ピリジン、ジメチルアニリ
ン、トリエチルアミン、弗化セシウムなどの酸受容体を
用いるのが打点しい。
また、前記一般式(n)の安息香酸と、前記β−スル7
7モイルスチレンとを縮合させる前に、前記一般式(f
f)の安息香酸と、ノシクロヘ斗ジルカルボッイミドと
を縮合させ、その後前記β−スル7アモイルスチレンと
置換させてもより1゜ また、前記反応で使用するβ−スル77モイルスチレン
は、例えばβ−スチレンスルホニルクロライドとアンモ
ニアがスとをトルエン、ベンゼンなどの溶媒中で反応さ
せることによって容易に製造することができる。
製造例   2−ニトロ−5−(3−クロロ−5−トリ
フルオロメチルピリジン−2−イルレオ斗シ)−N−(
β−スチリルスルホニル)ベンズ7ミド 2−ニトロ−5−(3−クロロ−5−トリフルオロメチ
ルピリノン−2−イルオ岬シ)安息香酸クロリド4.2
g%戸酸n−ブチルエステル40m12、β−スル7ア
モイルスチレン1.6g−3・ 及び弗化セシウム4.0gを攪拌下、還流状態で2時間
反応させた。放冷後、水中に投入し、希塩酸を少量滴下
した後、酢酸n−ブチルエステルで抽出した。抽出層を
水洗、乾燥し、溶媒を減圧留去して結晶を得た。このも
のをトルエンで洗浄し、乾燥させでsr、p、175〜
179℃の目的物1.48を得た。
次に、本発明化合物の具体例を記載する。
No、1 2−ニドo−5−(3−りaa−5−トリフ
ルオロメチルピリジン−2−イルオキシ)−N−(β−
スチリルスルホニル 鴫.p.1  7  5 〜 1 7 9℃本発明は、
Z及びどの立体異性体を包含するものである。
本発明のベンズアミド誘導体は、除草剤の有効成分とし
て使用した場合に好適な作用効果を示す.特に、大豆又
はトウモロコシ栽培畑に生育する斗り科、マメ科、アオ
イ科、ヒュ科、アカザ科、ナス科、ヒルがオ科などの有
害雑草を土壌又は茎葉処理することによって、大豆或は
トウモロコシに薬害を与えることなく、選択的に防除で
きる。
本発明除草剤の適用範囲は、前述の大豆又はトウモロコ
シ畑以外に、その池の畑地、水田、果樹園、桑園、山林
、4− 農道、グラウンド、工場敷地など多岐にわたり、適用方
法も土壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。
本発明除草剤を施用する場合、有効成分化合物をそのま
ま散布してもよいが、通常は担体、必要に応じて各種補
助剤と混合して乳剤、液剤、水和剤、粉剤、粒剤などに
製剤してから使用してもよい.有効成分化合物と農業用
補助剤との適当な配合重量比は一般に2:98〜90:
10、望ましくは10:90〜60:40である.有効
成分化合物の使用適量は気象条件、土壌条件、薬剤の製
剤形態により一層に規定できないが、一般に1アール畠
90.1〜100g。
望ましくは0.5〜50.である。
本発明除草剤は池の農薬、肥料、土壌などと混用或は併
用することができ、この場合に一層すぐれた効果を示す
ことがある.例えば、本発明の有効成分化合物と次の除
草性化合物との混用により一層すぐれた効果を示す。
a・(4−(S−トリフルオロメチルピリジン−2−イ
ルオ斗シ)フェノ喪シ〕プロピオン酸の低級フルキルエ
ステル、a−(4−(3−クロロ−5−トリフルオロメ
チルピリジン−2−イルオ〜シ)7ヱノキシ〕プaピオ
ン陵の低級アルキルエステル、ff−( 4−(3.5
−ジクロロピリジン−2−イルオ斗5ー シ)ラエノキシ〕プロピオン酸の低級フルキルエステル
、17−( 4−(4−)リフルオロメチル7エ/キシ
)フェノキシ〕プロピオン酸の低級アルキルエステル、
4−( 4−(5−) +7フルオロメチルピリジンー
2−イルレオ幹シ)71ノ今シ)−2−ペンテン酸の低
級アルキルエステル、4−( 4−(4−トリフルオロ
メチルフェノキシ)フェノキシ〕ー2ーペンテン酸の低
級アル〜ルエステル、2−( 4−(6−フルオty−
2−IF / 4ザリルオキシ)フェノキシ〕ノロピオ
ン峡の低級アルキルエステル、2 −( 1−rリロキ
シ7ミノプチリデン)−4−(メトキシカルボニル)−
 5 、 5−ジメチルシクaヘキサン−1.3−フォ
ノ・ソーダ塩、2−(N−エトキシブチリミドイル)−
5−(2−エチルチオプロピル)−3−ヒドロキシ−2
−シクロへ斗七ンー1ーオン。
次に本発明除幕剤の試験例を示す。
試験例 温室内でt,ooo分の17−ルバツトに畑地土壌を詰
め、大豆及び各種雑草の種子を播種した.その後、作物
及び雑草が一定の生育段階に達したとき(大豆が初生集
期、イヌホオズキが1葉期、7オビユが1葉期、タデが
1.5葉期、オナモミが2葉期、アサガオヵ弓葉期及び
シロザが6− 1葉期\供試薬剤の製剤品を5000 /haの量の水
に希釈して、有効成分が所定量となるように小型スプレ
ーで茎葉散布した。処理後20日0に雑草の生育状況を
肉眼観察し、10段階(1:無処理区と同様〜10:完
全に抑制)で生育抑制程度を評価し、第1表の結果を得
た。
第1表 次に本発明除草剤の製剤例を記載する。
製剤例1 (1) 2−ニトロ−5−(3−クロロ−5−17フル
オロメチルビリノンー2−イルオキシ)−N−(β−ス
チリルスルホニル)ベンズ7ミ1/         
   20重量部((2)キシレン         
   6o #7− (3) ツルポール2806B (商品名:東邦化学工業製)     20重量部以上
の各成分を均一に混合して本発明除草剤(乳剤)とした
製剤例2 (1) 2−二トロー5−(3−クロロ−5−トリフル
オロメチルピリジン−2−イルオキシ)−N−(β−ス
チリルスルホニル)ベンズ7ミド          
  20重量部(2) ジ−クライト        
   75 #(3) ラベリンS (1w品名:第−工!製薬製)      2 #(4
) リグニンスルホン酸ソーダ     3 #以上の
各成分を均一に混合して本発明除草剤(水和剤)とした
製剤例3 (1)ジ−クライト−78重量部 (2) ラベリンS (商品名:第−工業製薬製)      2 #(3)
 ツルポール5039 (商品名:東邦化学工業製)      5 #・8− (4) カープレックス (商品名:塩野義製薬製)      15重量部以上
(1)〜(4)の成分の混合物と、2−シアノ−5−(
3−クロロ−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イ
ルオキシ)−N−(β−スチリルスルホニル〉ベンズア
ミドとを4:1の重量割合で混合して本発明除草剤(水
和剤)とした。
特許出願人  石原産業株式会社 一9完−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 アノ基又はニトロ基である)で表わされるベンズ7ミド
    誘導体及びそれらの塩。 (式中Xはハロゲン原子であり;Yはハロゲン原子、シ
    アノ基又はニトロ基である)で表わされるベンズ7ミド
    誘導体及びそれらの塩の少くとも一種を有効成分として
    含有することを特徴とする除草剤。
JP57204899A 1982-11-22 1982-11-22 ベンズアミド誘導体及びそれらを含有する除草剤 Pending JPS5890556A (ja)

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