JPS5888386A - セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

セフエム化合物およびその製造法

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JPS5888386A
JPS5888386A JP17971082A JP17971082A JPS5888386A JP S5888386 A JPS5888386 A JP S5888386A JP 17971082 A JP17971082 A JP 17971082A JP 17971082 A JP17971082 A JP 17971082A JP S5888386 A JPS5888386 A JP S5888386A
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JP
Japan
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carboxy
amino
salts
ester
compound
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Pending
Application number
JP17971082A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Terachi
寺地 務
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Jiro Goto
後藤 二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5888386A publication Critical patent/JPS5888386A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、抗菌性物質として有用な一般式(式中、R
1はアミンまたは保護されたアミン、R2は置換分とし
てカルボキシもしくは保護されたカルボキシを有してい
てもよい低級アルキル、R3は水素または低級アルキル
、R4は水素、低級フルキル、低級アルコキシまたはハ
ロゲン、R5はカルボキシまたは保護されたカルボキシ
をそねそれ意味する) で示されるセフェム化合物、その塩類、それらの製造法
、並びにそれらを有効成分とする細菌感染症予防・治療
剤に関するものである。
本発明によれば、セフェム化合物())は以下に説明す
る方法により製造することができる。
方法1 (1)          1) (1) またはその塩類 方法2 またはその塩類 またはその塩類 方法5 またはその塩類 (Id ) またはその塩類 (式中、R1、R2、R5、R4およびR5はそれぞれ
前と同じ意味、R5aは保護されたカルボキシ、R2a
は保護されたカルボキシ(低級)アルキル、R2bハカ
ルボキシ(低級)アルキルヲナレソれ意味する) 目的化合物(1)、(Ia)、C11))、(IC)お
よび(1(1)、ならびに原料化合物l)については、
該目的化合物および原料化合物にはシン異性体、アンチ
異性体およびそれらの混合物が含まれるものとする。例
えば、目的化合物(1)についていえば、シン異性体は
式: 〔式中、R1およびR2は前と同じ意味〕で示される部
分構造を有する幾何異性体を意味し、アンh8!:ts
H−Rtで:+Qhft 〔式中、R1およびR2は前と同じ意味〕で示される部
分構造を有する他ρ幾何異性体を意味すム前記のその他
の化合物に関しても、それらのシンおよびアンチ異性体
は、化合物中について説明したシン異性体およびアンチ
異性体と同様の幾何異性体をいう。
目的化合物(1)の好ましい塩類は慣用の無毒性塩であ
り、例えばプトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属
塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩等のような金属塩、アンモニウム塩、例えば
トリフ9/l/アミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジ
ン塩、ピコリン塩、ジシクロヘギシルアミン’As  
N 、 N”)ヘンシルエチレンジアミン塩等の有機ア
ミン塩、例えば酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン
酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ごンゼンスルホ
ン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、
塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨー化水素酸塩、硫酸塩、リン
酸塩等の無機酸塩、または例えばアルギニン、アスパラ
ギン酸、グルタミン酸等のテミノ酸との塩等が含まれる
この明細書の前述の記載および以下の記載において、こ
の発明の範囲内に包含される種々の定義の好ましい例と
説明とを以下詳細に述べる。
「低級」とは特別の指示がなければ、炭素原11〜6個
を意味する。
好ましい「保護されたアミノ」は、アシルアミノもしく
は、例えばベンジル、トリチル等の置換基を少なくとも
1個有していてもよいアル(低級)アルキル等のような
慣用の保護基によって置換されtアミノ基を含む。
「アシルアミノ」における好ましいアシル部分は、カル
バ七イル、脂肪族アシル基および芳香族環もしくは複素
環を含むアシル基を含んでいてもよい。前記アシルの好
ましい例としては、例えばホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、オキャリル、サクシニル、ピバロイル等の低級ア
ルカノイル;例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキンカルボ二μ、1−シクロプロピルエ
トキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル1、t−ブトキシカルボニル、ペンチルオ
キシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等の炭素原
子2〜7個を有する低級アルコキシ力ルボニ/’ i 
例tハベンゼンメルホニル、トシル等のアレーンスルホ
ニル;例エハヘンゾイル、 トルオイル、キシロイル、
ナフトイル、フタロイル、インダンカルボニル等のアロ
イル;例エバフェニルレアセチル、フェニルプロピオニ
ル等のア/I/(低級)アルカノイル;例えばベンジル
オキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等のア
/L/(低級)アルコキシカルボニル等が挙げられる。
前記アシル部分はハロゲン(塩素、臭素、フッ素および
ヨー素)、低級アルカノイル等のような少なくとも1個
の適当な置換基で置換されていてもよい。
適当な「保護さ五たカルボキシ」および[保護されたカ
ルボキシ(低級)アルギル」の「保護されたカルボキシ
」部分としては、エステル化されたカルボキシ基が含ま
れ、該エステルの例としてハ、例エバメチルエステル、
ニブルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエス
テル、ブチルエステル、イソブチルエステル、t−ブチ
ルエステル、ペンチルエステル、t−ペンチルエステル
、ヘキシルエステル、ヘキシルエステル、オクチルエス
テル、ノニルエステル、デシルエステル、ラーンデシル
エステル、ドデシルエステル、ヘキサデシルエステル等
のアルキルエステル、好まシくハ低級アルキルエステル
;例えばビニルエステル、アリルエステル等の低級アル
ケニルエステル;例えばエチニルエステル、プロピニル
エステル等の低級アルキニルエステル;例えば2−ヨー
ドエチルエステル、2,2.2−)リクロロエチルエス
テル等の化ノー(またはシーまたはトリー)ハロ(低級
)アルキルエステル;例えばアセトキシエチルエステル
、プロピオニルオキシメチルエステル、1−アセトキシ
エチルエステル、バレリルオキシメチルエヌテル、ピパ
ロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチ
ルエステル、1−アセトキシエチルエステル、2−プロ
ピオニルオキシメチルエステル、1−イソブチリルオキ
シエチルエステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)
アルキルエステル;例えばメシルメチルエステル、2−
メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル(低
級)アルキルニス、テ/v;アル(低級)アルキルエス
テル、例えば、ベンジルエステル、4−メトキシベンジ
ルエヌテ/1/.  4−ニトロベンジルエステル、フ
ェネチルエステル、トリチルエステル、ジフェニルメチ
ルエステル、ビス(メトキシフェニル→メチルエヌテル
、6,4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキ
シ−3.5−:/ −t−−fftVベンジルエヌテル
等の1個以上の適当な置換基によって置換されていても
よいフェニル(低級)アルキルエステル;例えばメトキ
シカルボニルオキシメチルエステル、エトキシカルボニ
ルオキシメチルエステル、エトキシ力ルポニルオキシエ
チルエヌテル等の、アジドによ・つて置換されていても
よい低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)アルキル
エステル;複素環式エステル、好捷しくけオキソ基で置
換されていてもよいベンゾテトラヒドロフリルエステル
、さらに好ましくはフタリジルエステル;例えばベンゾ
イルオキシメチルエステル、ベンゾイルオキシエチルエ
ステル、トルオイルオキシエチルエステル等のアロイル
オキシ(低級)アルキルエステル;−例えばフェニルエ
ステル、トリルエステル、℃ーブチルフェニルエステル
、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエス
テル等の1個以上の適当な置換基を有していてもよいア
リールエステル等が挙げられる。
適当な「低級アルキル」および「保護されたカルボキシ
(低級)アルキル」および「カルボキシ(低級)アルキ
ル」における「低級アルキル」部分としては、メチル、
ニゲル、プロピル、イン10ビル、ブチル、イソブチル
、第6級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の1〜6個の炭
素原イを有するアルキルが挙げられるが好ましくは炭素
涼了1〜4個を有するアルキルである。
適当な「低級アルコキシ」としては、メトキシエトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ゛シ、イソブト
キシ、第6級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキ
シ等の1〜6個の炭素原子を有するアルコキシが挙けら
れるが、好ましくは炭素原71〜4個を有するアルコキ
シである。
適当な「ハロゲン」としては、塩素、臭素、ヨウ素また
はフッ素が挙げられる。
目的化合物(1)の好ましい具体例は、R1がアミノ、
R2がカルボキシ(低級)アルキルまたはエステル化さ
れたカルボキシ(低級)アルキル(さらに好ましくは低
級アルコキシカルボニル(低級)アルキ/L/)、Rが
水素または低級アルキル、R4が水素、低級アルキル、
低級アルコキシまたはハロゲン、Rがカルボキシまたは
エヌテル化されたカルボキシ(さらに好ましくはニトロ
置換アル(低11)アルコキシカルボニル、一層好まし
くはニトロ置換フエニ)V(低級)アルコキシカルボニ
ル)である化合物である。
この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。
ソuL1 目的化合物(1)またはその塩類は、化合物[11もし
くはそのアミン基における反応性誘導体またはそれらの
塩類に、化合物Q[)もしくはそのカルボキシ基におけ
る反応性誘導体またはそれらの塩類を作用させることに
より製造することができる。
化合物(1)のアミン基における好ましい反応性誘導体
としては、アミド化反応に用いられる慣用の反応性誘導
体、例えば化合物(1)とカルボニル化合物との反応に
よって生成したシッフ塩基型のイミノもしくはそのエナ
ミン型互変異性体;化合物(璽)とビス(トリメグルシ
リル)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド等
のようなシリル化合物との反応によって生成しだシリル
誘導体;化合物(1)と三塩化リンまたはホスゲンとの
反硲によって生成した誘導体等が挙げられる。
化合物(1)の好iしい塩類としては、例えば酢酸塩、
マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸塩、または例えば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩のような
酸付加塩;例えばプトリウム塩、カリウム塩、カルシウ
ム塩、マグネシウム塩等の金属塩;アンモニウム塩:例
えばトリエチルアミン塩、シンクロヘキシルアミン塩等
の有機アミン塩等が挙げられる。
化合物l)のカルボキシ基における好適な反応性誘導体
としては酸ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド、活性
エステル等が例示される。好ましい例としては酸塩化物
;酸アジド;例えばシアルギルリン酸、フェニルリン酸
、ジフェニルリン酸、ジベンジルリン酸、ハロゲン化リ
ン酸等の置換リン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チ
オ硫酸、硫酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペン
タン酸、インペンタン酸、2−エチル酪酸、酢酸または
トリクロロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、例えばメタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸等の
アルカンヌルホン酸、例えば安息香酸等の芳香族カルボ
ン酸のような酸との混合酸無水物;対称酸無水物iイミ
ダゾール、ジメザルビラゾール、トリアシー/L/また
はテトラゾール等トの活性アミド;例えばシアノメチル
エステル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメ
チル〔(CH5)2N+=C丁]−〕  エステル、 
ビニルエヌテル、プロパルギルエステル、p−ニトロフ
ェニルエステル、2.4−ジニトロフェニルエステル、
トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエ
ステル、メシルフェニルエヌテル、フェニルアゾフェニ
ルエステル、フェニルチオエステル、p−ニトロフェニ
ルチオエステル、p−クレジルチオエステル、カルボキ
シメチルチオエステル、ビラニルエステル、ピリジルエ
ステル、ピペリジルエステル、8−ギノリルチオエステ
ル等の活性エステルまたはN、N−ジメチルヒドロキシ
ルアミン、1−ヒドロキシ−2−(IH)−ピリドン、
N−ヒドロキシフタルイミド、N−ヒドロキシフタルイ
ミドもしくは1−ヒドロキシ−6−クロロ−1H−ベン
ゾトリアゾールとのエステル等が挙げられる。これらの
反応性誘導体はそれらの中から使用すべき化合物l)の
種類に応じて任意に選択することができる。
化合物l)の塩類としては、例えばナトリウム塩もしく
はカリウム塩等のアルカリ金属塩または力)vシウム塩
モしくはマグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩のよう
な無機塩基との塩類、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、ピリジンのような有機塩基との塩、例えば塩酸、
臭化水素酸のような酸との塩等が挙げられる。
反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチzlz、N。
N−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような慣用の溶
媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒で
あれば、その他のどのような有機溶媒中でも行なうこと
ができる。これらの溶媒中親水性溶媒は水と混合して使
用してもよい。
化合物l)を遊離酸の形またはその塩の形で反応に使用
する場合、反応は慣用の縮合剤の存在下に行なうことが
望ましく、縮合剤としては例えば、N、N’−シンクロ
へキシルカルボジイミド、N−シクロヘキシル=N′−
モルホリノエチルカルボジイミド;N−シクロへキシル
−N’−(4−ジエチルアミノンクロヘキシル)カルボ
ジイミドi N、N’−ジエチルカルボジイミドi N
 、 N’−ジイソプロピルカルボジイミド;N−エチ
ル−N’−(3−ジメチルアミノプロピノし)カルボジ
イミドiN、N’−カルポニルビヌ(2−メチルイミダ
ゾ−/I/);ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキ
シルイミン;ジフェニルクテンーN−シクロヘキシルイ
ミン;エトキシアセチレン;ポリリン酸エチ7+z逼ポ
リリン酸イソプロピル;ジエチルホスホロクロリダイト
;オキシ塩化リン;玉石化リン;五塩化リン;塩化チオ
ニ)v;塩化オキサリル;トリフェニルホスフィン;N
−エチ/L/−7−ヒトロキシベンズイソキサゾリウム
フルオロボレート;N−エチル−5−フェニルイソキサ
ゾリウム−6′−スルホ*−ト1l−(1)−クロロベ
ンゼンスルホニルオキシ)−6−タロロー1H−ベンゾ
トリアゾール;いわゆるヒリレヌマイヤー試薬、例えば
ジメチルホルムアミドと塩化チオニルもしくはホスゲン
との反応によって生成した(クロロメチレン)ジメチル
アンモニウムクロリド、ジメチルホルムアミドとオキシ
塩化リンとの反応によって生成した化合物等がその例と
して挙げられる。
この反応はまた後に例示するように、水酸化アルカリ金
属、炭酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、酢酸ア
ルカリ金属、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、
N−(低級)アルキルモルホリン、N、N−ジ(低級)
アルキルベンジルアミン、N、N−ジ(低級)アルキル
アニリンのよう、な無機もしくは有機塩基等の存在下に
行なってもよい。塩基もしくは縮合剤が液状である場合
には、溶媒として使用してもよい。反応虐度は特に限定
されず、反応は通常冷却下ないしは常温で行なわれる。
この反応においては、目的化合物(1)のシン異性体は
、好ましくは化合物(1)を原料化合巻組のシン異性体
と反応させることによっ″て得ることができる。
方法2 目的化合物(Ib)またはその塩類は、化合物(Ia)
またはその塩類をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造することができる。
化合物(Ia)および(1b)の好ましい塩類としては
、化合物(1)について例示したものを挙げることがで
きる。
この反応は加水分解、還元等のような慣用の方法によっ
て行なわれる。  、 保護基がエステルである場合には、保護基は加水分解に
よって脱離することができる。加水分解は塩基またはル
イヌ酸を含めた酸の存在下に行なうことが望ましい。好
適な塩基としては、例えばプトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアル
カリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の
水酸化物もしくは次酸塩もしくは炭酸水素塩、例えばト
リメチルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルア
ミン、ピコリン、1.5−ジアザビシクロ〔4゜6.0
〕ノン−5−エン、1.4−ジアザビシクロ(2,2,
2)オクタン、1,8−ジアザビシクロ〔5゜4.0〕
ウンデセン−7等のような無機塩基および有機塩基が挙
げられる。好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、トリクロロ酢酸、−トリフ/X/40酢酸等
の有機酸および例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機
酸が挙げられる。例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ
酢酸等のトリハロ酢酸のようなルイス酸を用いる脱離反
応は、例えばアニソール、ウニノール等のカチオン捕捉
剤の存在下に行なうことが好ましい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコールのような溶媒、それらの混合物中で行なわれ右
が、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればどんな溶媒
でも使用することができる。
液状の塩基または酸も溶媒として使用することができる
。反応温度はとくに限定されず、反応は通常、冷却下な
いし、加温下の範囲で行なわれる。
71元は4−ニトロベンジル、2−ヨードエチル、2.
2.2−)リクロロエチル等Ωような保護基の脱離に適
用することが望ましい。この脱離反応に適用できる還元
法としては、例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属もし
くは塩化第一クロム、酢酸第一クロム等のクロム化合物
と、例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸もしく
は無機酸との組合わせを用いる還元;および例えばパラ
ジウム−炭素等の慣用の金属触媒の存在下における通常
の接触還元等が挙けられる。
方法3 目的化合物〔1d]または子の塩類は、化合物〔1c〕
またはその塩類をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造することができる。
化合物(1’c)の好ましい塩類としては、化合物′[
11について例示したものを使用することができる。
この脱離反応は方法2と実質的に同じ方法により行なう
ことができる。
このように前記方法1〜3に従って得られた化合物は、
慣用の方法によって医薬として許容される塩類にするこ
とができる。
この発明の目的化合物(1)およびその塩類は新規化合
物であり、高い抗菌活性を示してダラム陽性菌お、よび
り7うろ眺性蒔を含む広範囲の病原菌の生育を阻止し、
特に経口投与用抗菌剤として有用そある。この発明の化
合物を治療用として使用する場谷、前記化合物を有効成
分として、経口投与用、非経口投与用もしくは外部用に
適した有機もしくは無機固体もしくは液体賦形剤のよう
な医薬として許容される担体と混合して含有する、慣用
の医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤とし
ては、カプセル剤、錠剤、糖衣錠、軟膏もしくは半開、
液剤、懸濁剤、エマルジヨン等が挙げられる。要すれば
、上記製剤に助剤、安定剤、湿潤剤もしくは乳化剤、緩
衝剤その他の通常の添加剤を添加してもよい。
この発明の化合物の投与量は、患者の年齢および状態に
よって変化するが、病原菌感染症治療に効果を示すこの
発明の化合物の平均−回投与量は、10〜.50〜.1
00〜.250〜.500■、1000〜である。一般
的には1日投与量は1■/体重〜6000■/体重であ
るが、それ以上投与してもよい。
目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的化
合物の抗菌活性iよび尿中排泄を以下に示す。
試験化合物 7−(2−カルボキシメトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾ−/L/−5−イ/L/)
アセトアミド〕−6−クーロロー5−セフェム−4−カ
ルボン酸(シン異性体) [11最低発育阻止濃度 (8)試験法 試験管内抗菌活性を下記の寒天平板2倍稀釈法により測
定した。
トリプチケース−ソイブロス中−夜培養した各試験菌の
1白金耳(接種菌量10/g/)を各濃度段階の試験化
合′物を含むハートインフユージッン寒天(HI寒天)
に画線し、37°Cで20時間インキュベートした後、
最低発育阻止濃度(M工C)をμ’l/wlで表わした
(至)試験結果 [2]  尿中排泄 (A)  試験法 体重kQ当り100■の試験化合物をラットに経口投与
し、0〜6時間後および6〜24時間後に、尿採集器に
よりラットの尿を採集した。尿試料中の抗1物質濃度を
p H7,0の標準緩衝液でパイAアッセイにより検定
し、24時間の尿中排泄量を計算した。
(ト)試験結果 24時間中の尿中排泄量   26.53%以下、この
発明を実施例により説明する。
実施例1 2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)
酢酸(シン異性体)(3,7y)を攪拌しながら、−1
5°Cで5塩化リン(2,55F)の塩化メチレン(4
0璽t)溶液に加える。混合液を−5〜−15°Cで1
時間攪拌し、これに−10°Cで無水ジイソプロピルエ
ーテIv(12011t)を加え、次いで15〜20°
Cで5分間攪拌する。析出物をi/”4!Y L、無水
ジイソプロピルエーテルで洗浄する。
7−アミノ−6−メチル−6−セフェム−4−カルボン
酸(2,OF)のテトラヒドロフラン(40厘/)@濁
’0に攪拌下トリメチルシリルジアセトアミド(8,6
F)を加え、55〜40°Cで20分間攪拌する。この
溶液に上記の析出物を一10°Cで加え、−5〜−10
°Cで40分間攪拌する。この溶液に酢酸エチルと水の
混液を加え、分離した有機層を水に加える。次いで混液
を飽和炭酸ナトリウム水溶液でp H7,5に調整する
。分離した水層を10%塩酸でp H2,0とし酢酸エ
チルで抽出する。
抽出液を飽和塩化プトリウム水溶液で洗浄、硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち溶媒を留去すると、7−(2−第
3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト
アミド〕−6−ノチyv−3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)(1,71P)を得る。
IR(ヌジョ二ルC+290.3180.1760(〕
℃−ド)。
1730 、1680 、1620atrNMR(DM
SO−46,δC1,43(9H,s)、2.02(3
H。
s)、3.45(2H,q 、J=9.0Hz) 、4
.62(2H,s)。
5.08(IH,d、J=5.0Hz)、5.73(I
H,dd。
J=5.0Hz、8.0Hz)、8.09(2H,%I
−F  S)。
9.41(II、d、J=8.0H2)実施例2 5塩化りん(3,4F)の塩化メチレン(40ml )
溶液に2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l/−
3−イ/L/)酢酸(シン異性体)(4,9’P)を−
15°Cで加え、混合物を−5〜−10°Cで1時間撹
拌する。反応液に一10°Cでジイソプロピルエーテ/
I/(120111)を加え、15〜20°Cで5分間
攪拌する。析出物を炉取し、ジイソプロピルエーテルで
洗浄する。この析出物を7−アミノ−5−メトキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸の4−ニトロベンジルエス
テルの塩酸塩(5,0))およびトリメチルシリルアセ
トアミド(11,4y)のテトラヒドロフラン(50g
/)溶液に一10°Cで加え、−5〜−10°Cで1時
間攪拌する。反応液に一5°Cで酢酸エチルおよび水の
混液を加え、有機層を分離する。有機層を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液および塩化ナトリウム水溶液で洗浄、
硫酸マグネシウムで乾燥したのち濃縮する。残渣をジイ
ソプロピルエーテルで粉末化すると、7−〔2−第6級
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−5−イ/L/)アセト
アミド)−3−メトキシ−6−セフェム−4−カルボン
酸の4−二トロベンジルエステル(シン異性体)(6,
13y)を得る。
工R(ヌジョール):3290.3180.1760.
1710゜1680 、161001 NMR(DMSO−J 6.δ):1.45(9H,s
)、3.72(2H,s)。
3.83(3H,S)、4.66(2H,S)、5.2
1(IH,d、。
J=4.0Hz)、5.35(2H,s)、5.72(
IH,dd、J==4.0Hz、8.0Hz)、7.6
5(2H,d、J=8.0Hz)。
8.22(2H,d、、’1J=8.0Hz)、9.4
5(IH,d、J=8.0Hz)実施例3 実施例1および2と同様にして次の化合物を得る。
(1)  7−(2−第5級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
−/l/−3−イル)アセトアミド〕−6−クロロー3
−セフェム−4−カルボン酸の4−ニトロベンジルエヌ
テ/I/(シン異性体)。
■Iヌジッール):1780.172ち、1675.1
605o++  ”NMR(DMSO−d 6.δ):
1.42(9H,S)、3.86(2H。
8.24(2H,d、、T”=8.0Hz) 、9.5
8(IH,d、 J=8.0H2) (2)  7−(2−第39ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアシアソ
ー/Ly−3−4ル)アセトアミド〕−3−クロロー6
−七フェムー4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌジョール):1770,1710.1670.
1610o*  ’(3)7−〔2−カルボキシメトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−5−イ/I/)アセ′ドアミド〕−6−クロロ−
6−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌジョール):6690.3280.1770.
1720 。
1670、i620(m (4)7−(2−カルボキンメトキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−#−3−イル)ア
セトアミド)−,3−メチ/l/−3−セフェム−4−
カルボン酸(シン異性体)。
IP(ヌジョール):3390.+280.1763,
1720゜1665ffi (5)  7−(1−第3級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−6−イ/L/)アセトアミド〕−2−メチル−6
−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌジョール) :3230.1770.1710
.1680 。
1620、n NMR(DMS O−d 6.δ) : 1.28−1
.61 (12H,m) 。
3.67(IH,m) 、4.63(2H,s)、5.
10(IH,d。
J=5.0.Hz ) 、 5.91 (I H、dd
 、 J=5.0Hz 、 8.0Hz ) 。
6.55(IH,d、J=6.0Hz)、8.09(2
H,7−ロー)−S)。
9.46(IH,d、J=8.0Hz)(6)  7−
 C2−カルボキシメトキシイミノ−2−(5−アスク
−1,2,4−チアジアゾ−fi/−3−、イ)L/)
アセトアミド−2−メチル−6−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン異性体)。
工R(ヌジョzし):3380.3250.1770,
1720゜1675.16301’Jl (7)7−(2−第6級ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−5−イル)アセトアミドシー6−ノトキシー3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異1’tJ)。
IR(ヌジョ /L’):3230.1755(7’l
’  F)、1670.1610QII遍1(8)7−
(2−カルボキシメトキシイミノ−2−(5−アミノ、
1,2.4−チアジアゾール−6−イ)V )アセトア
ミド〕−3−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)。
IR(ヌジョール):3390.3280,1760,
1720゜66511 実施例4 7−(2−第6級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−zL−−
3−イ/L/)アセトアミド〕−5−ノドキシ−3−セ
フェム−4−カルボン酸の4−二トロベンジルエステル
(シン異性体)(6,3F)および10%パラジウム炭
素(6,0y)のメタノール溶液(60s+/)、テト
ラヒドロフラン(60s+/)、酢酸(0,6*/)お
よび水(5*t)の混合物を室温、常圧下5時間を要し
て接触還元する。不溶物を沖去し、r液を濃縮する。残
渣に酢酸エチルおよび飽和法酸水素ナトリウム水溶液の
混akを加え、10分間攪拌する。不溶物・′f:枦去
し、p液を分離する。
水層を10チ塩酸でpH2,0とし酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶液を濃縮し、残渣を
dイソプロピルエーテルで粉末化すると、7−〔2−第
3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−fアジアシー/l’−3−イ)v)
アセトアミド〕−3−メトキシ−6−セフェム−4−カ
ルボン酸(シン異性・体)(2,43F)を得る。
工R(ヌジョー/l/):3250.1755()シー
ド)、167G。
1610cN” NMR(DMSO−d6.δ):1.43(9H,s)
、3.58(2H,s)。
5.71(3H,s)、4.61(2H,s)、5.0
9(IH,d。
J=4.0H2)、5.61(IH,dd、J=40H
z、8.0Hz)。
8134C2H,ブレードS)、9.32(IH,d、
J=8.0H2)実施例5 実施例4と同様にして次の化合物を得る。
(1)  7−(2−第3級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−5−イル)アセトアミドシー6−クロロ−5−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
工R(ヌジm−/し):1770.1710..167
0.16103NME< DMSO−d6.δ):1.
45(9H,s)、3.82(2H,m)。
(2H,S、) 、9.61 (IH,d、J==8.
0Hz)(2)7−(2−カルボキシメトキシイミノ−
2−(5−アミノ−1,2,4−ナアジアゾーtv−3
−イル)ア七ドアミド〕−3−クロロー5−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。
工R(ヌジョール):3390.5280,1770,
1720゜1670.16203 (3)7−(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−5−ヘイ)V)アセトアミドシー6−メチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌジヲールつ:5290.5180.1760(
〕シード)。
1750 、1680 、1620 cm ’(417
−(2−力lし゛ボキシメトキシイミノー2−〕 (5−アミノ−1,2,4−ナアジアゾーlL/−3−
イ/L/)アセトアミド〕−3−メチルー3−セフェム
=4−カルボン酸(シン異性体)。
IP(ヌジWコル):3390.3280.1763,
1720゜1665cIl (5)7−(2−第5級ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/
L/−5−イ/L/)アセトアミド〕−2−メチル−5
−セフェム−4−カルボン酸(シン%性体)。
工E((ヌジッール):525[1,177[1,17
10,1680゜1620傷 (6)  7−(2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−)v−3−イ
/l/)アセトアミド〕−2−メチル−5−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。
工R(ヌジ、1ν):55B0.3250.1770.
1720゜1675.1650cm (力 7−〔2−カルボキシメトキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l/−3−イ)
V)アセトアミドシー6−メドキシー3−セフェム−4
−カルボン酸(シン異性体)。
工R(ヌジrゴレ):5590,3280.1760,
1720゜1665ff ’ 実施例6 7−〔2−第6級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
2−(5−アミノ−1,2,4−チア、ジアゾ−1Lz
−5−イ/L/)アセトアミド〕−3−メチル−73−
t!フエムー4−力/l/7Nン酸(シン異性体)(1
,5F)の塩化メチレン(3鱈l)およびアニソ−A/
(1,5m1)の懸濁液に攪拌下室篩でトリフルオロ酢
酸(6ml >を加え、同温度で1.5時間攪拌する。
これにジイソプロピルエーテ#(50g/)を加え、攪
拌し、析出物を枦取後ジイソフロピルエーテルで洗浄す
る。析出物を酢酸エチルおよび水の混液に加え、次いで
飽和炭酸ナトリウム水溶液でpH7,5とする。分離し
た水層を10襲塩酸で氷冷下pH2,2とし、析出物を
p取、氷水で洗。
浄し、減圧下5酸化り°ンで乾燥すると、7−〔2−カ
ルボキシメトキシイミノ−2−(5−7ミノー1.2.
4−チアジアゾール−6−イ/L/)アセトアミドシー
5−メチ/V−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体)(0,82y)を得る。
1F(ヌジョール):3590,3280,1763.
1720゜1665cIM−1 NMR(DMSO−46,δ):2.01 (!IH,
S)、5.45(2H,q 。
J=18.0Hz)、4.65(2H,S)、5Jl)
6(IH,(1,J=4.0Hz)、5.73(IH,
dd、J=4.0Hz、8.0Hz)。
8.09(2H,)”ロード S)、939(I H,
d、J=8.0Hz)実施例7 実施例6と同様にして次の化合物を得る。
(1)  7−(2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/v−6−イ
/l/)アセトアミドクー3−クロロ−5−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。
工R(ヌジョールC’3590.52B0.1770,
1720゜1670 、1620 cyt NMR(DMso−d6.δ):3.80(2H,q、
J=18.0Hz)。
4.64(2H,S L 5.i!6(IH,d、J=
5.0Hz )。
5735(IH,dd、J=5.0Hz、8.0Hz)
 、8:’)O(2H。
ブレードs ) 、 9.58 (I H、d 、 J
=8.0Hz )(2)7−(2−カルボキシメトキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イ/L/)アセトアミド〕−2−メチルー3−
セフェム−4−カルボン酸(!/シン異性体。
工R(ヌジョーy):3380.3250.1770,
1720゜1675.1630停− NMR(DMSO−d6.δ):1.46(3T(、d
、J=7.[]Hz)、。
3.82(IH,m)、4.67(2H,s)、5.1
1(IH,d、J=5.0Hz)、5.93(IH,d
d、J=5.0Hz、8.0Hz)。
6.55(1B、d、J=6.0’Hz)、8.23(
2H,)’aミード)。
9.47(IH,d、J=8.DH2)(317−(2
−カルボキシメトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾ=/V−3−イル)アセトアミドツ
ー6−メドキシー5−士フエムー4−カルボン酸(シン
異性体)。
王R(ヌショール):5590,3280,1760,
1720゜1665 txt NME(DMSO−(16,δ):3.60(2H,プ
p−ド 8)、3.73(+H,s)、4.64(2H
,s)、5.jO(IH,d、J=4.0Hz)。
5.62(IH,dd、 J=4.[]Hz、8.0H
z) 、8.07(2H。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 (式中、R1はアミノまたは保護されたアミン、R2は
    置換分としてカルボキシもしくは保護されたカルボキシ
    を有していてもよい低級アルキル、R3は水素または低
    級アルキル、R4は水素、低級アルキル、低級アルコキ
    シまたはハロゲン、R5はカルボキシまたは保護された
    カルボキシをそれぞれ意味する) で示されるセフェム化合物およびその塩類。
  2. (2)  R’が低級アルコキシである特許請求の範囲
    第(1)項記載の化合物。
  3. (3)  (a)  一般式 (式中、R3は水素または低級アルキル、R4は水素、
    低級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン、R5は
    カルボキシまたは保護されたカルボキシ基をそれぞれ意
    味する) で示される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
    誘導体またはそれらの塩類に、一般式(式中、R1はア
    ミノまたは保護されたアミノ、R2は置換分としてカル
    ボキシもしくは保護されたカルボキシを有していてもよ
    い低級アルキルをそれぞれ意味する) で示される化合物もしくはそのカルボキシ基における反
    応性誘導体またはそれらの塩類を作用させて、 一般式 (式中、’R’ 1.R2、R’ 、R’お上びR5は
    それぞれ前と同じ意味) で示されるセフェム化合物またはその塩類を得るか、 (b)  一般式 (式中、R1、R2、R3およびR4は峰れぞれ前と同
    じ意味、85M保護されたカルボキシを意味する) で示される化合物またはその塩類を、カルボキシ保護基
    の脱離反応に付して、一般式 (式中、R1,R2、R3およびR4はそれぞれ前と同
    じ意味) で示される化合物またはその塩類を得るか、または (C)  一般式 (式中、R’ 、R5、R’およびR5はそれぞれ前と
    同じ意味、Rは保護されたカルボキン(低級)アルキル
    を意味する) で示される化合物またはその塩類を、カルボキシ保護基
    の脱離反応に付して、一般式 (式中、R1、R5、R4およびR5はそれぞれ前と同
    じ意味、R2−力ルボキシ(低級)アルキルを意味する
    ) で示される化合物またはその塩類を得ることを特徴とす
    るセフェム化合物またはその塩類の製造法。
  4. (4)一般式 (式中、R1はアミノまたは保護されたアミノ、R2は
    置換分としてカルボキシもしくは保護されたカルボキシ
    を有していてもよい低級アルキル、Rは水素または低級
    アルキル、R4は水素、低級アルキル、低級アルコキシ
    またはハロゲン、R5はカルボキシまたは保護されたカ
    ルボキシをそれぞれ意味する) で示されるセフェム化合物またはその塩類を有効成分と
    する細菌感染症予防・治療剤。
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