JPS5888117A - 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 - Google Patents
高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法Info
- Publication number
- JPS5888117A JPS5888117A JP57193982A JP19398282A JPS5888117A JP S5888117 A JPS5888117 A JP S5888117A JP 57193982 A JP57193982 A JP 57193982A JP 19398282 A JP19398282 A JP 19398282A JP S5888117 A JPS5888117 A JP S5888117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicic acid
- precipitated silicic
- suspension
- acid
- precipitated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
- C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B30/00—Compositions for artificial stone, not containing binders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/11—Powder tap density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ケイIIO構造性(8truktur ) とは、そ
の−欠粒子の二次粒子ないし三次凝集体への凝集状態の
程度および範囲を表わすケイ酸の性質を意味する◎7ア
ーネスプフツクの構造性の特性化K11lする現在妥当
する考察によれば、沈殿ケイ酸についてOカポット(0
ムnor ) Kよる[プラベンダー(Brab@na
@r )吸収値法」を用いることKよって、いわゆるジ
ブチルフタレート吸収値(−/lま友は慢で表わされる
)と構造性との間に祉明確な相関関係が示される(ドイ
ツ特許第1,747,552号明細書第2欄第45−6
4行参照)0 従来技術として、その構造性に関して平均的なS*の構
造性を有する通常のケイII(ゴム用の補強充填物質)
とは異なるWOケイ酸が知られている・ この場合、乾燥工110411殊な変法によってその構
造性が高められていると見される生成物が形成される沈
殿ケイlI2またはシリカゲルが重要である0これには
、ケイ酸−オルガノ−ヒドルゲルの超限界脱水(米国特
許第2,245,747号明細書参jl)Kよシ、まえ
はケイ酸ヒト冑グルのジェット粉砕乾燥(ドイツ特許第 1,054,220号明細書参照)Kよって得られるニ
ー四ゾルが属する(ウルマン編工業化学百科辞典(Ux
xmamns Ingyklop’ali* a@r
technis−ch@n Ch@mis )第厘版第
15巻第725頁1!49年発行参11)ol!K、乾
燥工程前の中間iセル性液体が有機溶剤ま九はそのよう
な溶剤と水との混合物からなるものであるようなケイS
およびケイ酸ゲル%またこの群に加えるべきである(米
国特許g2,2JI5.44?号、ドイツ特許公告$1
1.(108,717号、およびドイツ特許第1、OB
?、754号各明細書参照)ol!に、加うるに噴霧
乾燥され九ケイWR類(オランダ特許会告第4&027
91号、ドイツ特許第 2.447,415号各明細書参jIll)および最1
1にドイツ特許公告第1.(100,7? 5号、ドイ
ツ特許第1,747.S 52号各明細書参照)O下記
の一括(第11!)に杜、平均的な構造性を有する1通
常の”沈殿ケイ酸に比較し九従来技術による生成物に関
する比較データが示されている@この一覧!!KFi更
に、本発明による5種の相異なるケイ酸のデータが加え
ら゛れている。
の−欠粒子の二次粒子ないし三次凝集体への凝集状態の
程度および範囲を表わすケイ酸の性質を意味する◎7ア
ーネスプフツクの構造性の特性化K11lする現在妥当
する考察によれば、沈殿ケイ酸についてOカポット(0
ムnor ) Kよる[プラベンダー(Brab@na
@r )吸収値法」を用いることKよって、いわゆるジ
ブチルフタレート吸収値(−/lま友は慢で表わされる
)と構造性との間に祉明確な相関関係が示される(ドイ
ツ特許第1,747,552号明細書第2欄第45−6
4行参照)0 従来技術として、その構造性に関して平均的なS*の構
造性を有する通常のケイII(ゴム用の補強充填物質)
とは異なるWOケイ酸が知られている・ この場合、乾燥工110411殊な変法によってその構
造性が高められていると見される生成物が形成される沈
殿ケイlI2またはシリカゲルが重要である0これには
、ケイ酸−オルガノ−ヒドルゲルの超限界脱水(米国特
許第2,245,747号明細書参jl)Kよシ、まえ
はケイ酸ヒト冑グルのジェット粉砕乾燥(ドイツ特許第 1,054,220号明細書参照)Kよって得られるニ
ー四ゾルが属する(ウルマン編工業化学百科辞典(Ux
xmamns Ingyklop’ali* a@r
technis−ch@n Ch@mis )第厘版第
15巻第725頁1!49年発行参11)ol!K、乾
燥工程前の中間iセル性液体が有機溶剤ま九はそのよう
な溶剤と水との混合物からなるものであるようなケイS
およびケイ酸ゲル%またこの群に加えるべきである(米
国特許g2,2JI5.44?号、ドイツ特許公告$1
1.(108,717号、およびドイツ特許第1、OB
?、754号各明細書参照)ol!に、加うるに噴霧
乾燥され九ケイWR類(オランダ特許会告第4&027
91号、ドイツ特許第 2.447,415号各明細書参jIll)および最1
1にドイツ特許公告第1.(100,7? 5号、ドイ
ツ特許第1,747.S 52号各明細書参照)O下記
の一括(第11!)に杜、平均的な構造性を有する1通
常の”沈殿ケイ酸に比較し九従来技術による生成物に関
する比較データが示されている@この一覧!!KFi更
に、本発明による5種の相異なるケイ酸のデータが加え
ら゛れている。
数値の比12によシ、本発明によって驚くべきことには
400 vm”/ f以上Of!面積を500嘔以上の
DBP値と組合せて有する高い構造性を有する沈殿ケイ
酸およびケイ酸ゲルを製造することに成功し友ことが立
証され°る〇 本発明は、アルカリ金属ケイ酸塩溶液を酸シよび/ま曳
Fi陵として作用する物質とを反応させることによって
、s000以上の高いDBP値を一時に400 g”/
1以上の高い比表面積を有する沈殿ケイ讃を製造する
という課題から出発している@本発明のもう一つの目的
は、前記の物理的−化学的特性データを備えた沈殿ケイ
酸を、種々の目的の粒度分布W!において製造する本発
明の対象は、下記の一理的一化学的物質データによって
特徴づけられる沈殿ケイ酸である: DBP値 11540−580 520−
540 510−5401アルビーネ(ALPnll) ふるい残分”〉65μ講 重量嘩 25−1 <1
1 <1口1従って、これらの本発明による沈殿
ケイ酸の物理的−化学的物質バラメーターは、高いBB
P値と組合わされ九比較的高いB1チー表面積によって
、より高い構造性を有する沈殿ケイIlおよびケイ酸ゲ
ルならびにケイ酸エアログルのそれらと異なっている0
それぞれ粒子分布−線に従って、これらの沈殿ケイ酸は
、あらゆる11類の工作材料の曳めの貴重な、堺用技術
的に極めて有効な担体ケ4@、*めて良好な透明度を有
するボリプロビレンーシよびポリエチレンフィルム用の
能率のよいブロッキング防止剤、高温処理されたケイ酸
があまり鎖線率を示さないような一定の極性系中の濃縮
ケイ酸、ラッカー用の非常に有効なつや消し剤および有
用な触媒担体ならびに絶縁材料である◎ 本発明のもう一つの対象は、下記の物理的−化学的特性
データ: DBP l[% 540−580 520−56fl
510−560を有する本発明による沈殿ケイ酸を製
造すぺく、pH値を6〜7に一定に保ちつつ水からなる
40℃〜42℃に加温されえ仕込み物中で、全沈殿時間
KIEって続く剪断力の下に、水ガラス溶液および硫酸
を同時に供給し、第1S分目から第105分目まで!0
分関沈at中断し、146分間の全沈殿時間の後にケイ
酸の最終濃度を441/lK調整し、沈殿ケイII!懸
濁液を12〜17W#間熟成せしめ、フィルタープレス
を用いて上記懸濁液から沈殿ケイ酸を分離し、洗滌し、
フィルターケーキを水および/を良はllを用いて10
〜16重量嘩の固形分を有する懸濁液まで液状化し、そ
して最後に噴霧乾燥することを特徴とする沈殿ケイ酸の
製造方法であるO 仁のようKして得られた沈殿ケイ酸は、特許請求の範囲
第1項Kle禦され友物理的−化学的特性データを示す
。この沈殿ケイ酸は、十字流ンルを用いて粉砕すること
ができる。それは特許請求の範囲第S項に記載され九物
理的−化学的特性データを示す。しかしながら、特許請
求囲第5項に記載され九物理的−化学的特性データを示
す。
400 vm”/ f以上Of!面積を500嘔以上の
DBP値と組合せて有する高い構造性を有する沈殿ケイ
酸およびケイ酸ゲルを製造することに成功し友ことが立
証され°る〇 本発明は、アルカリ金属ケイ酸塩溶液を酸シよび/ま曳
Fi陵として作用する物質とを反応させることによって
、s000以上の高いDBP値を一時に400 g”/
1以上の高い比表面積を有する沈殿ケイ讃を製造する
という課題から出発している@本発明のもう一つの目的
は、前記の物理的−化学的特性データを備えた沈殿ケイ
酸を、種々の目的の粒度分布W!において製造する本発
明の対象は、下記の一理的一化学的物質データによって
特徴づけられる沈殿ケイ酸である: DBP値 11540−580 520−
540 510−5401アルビーネ(ALPnll) ふるい残分”〉65μ講 重量嘩 25−1 <1
1 <1口1従って、これらの本発明による沈殿
ケイ酸の物理的−化学的物質バラメーターは、高いBB
P値と組合わされ九比較的高いB1チー表面積によって
、より高い構造性を有する沈殿ケイIlおよびケイ酸ゲ
ルならびにケイ酸エアログルのそれらと異なっている0
それぞれ粒子分布−線に従って、これらの沈殿ケイ酸は
、あらゆる11類の工作材料の曳めの貴重な、堺用技術
的に極めて有効な担体ケ4@、*めて良好な透明度を有
するボリプロビレンーシよびポリエチレンフィルム用の
能率のよいブロッキング防止剤、高温処理されたケイ酸
があまり鎖線率を示さないような一定の極性系中の濃縮
ケイ酸、ラッカー用の非常に有効なつや消し剤および有
用な触媒担体ならびに絶縁材料である◎ 本発明のもう一つの対象は、下記の物理的−化学的特性
データ: DBP l[% 540−580 520−56fl
510−560を有する本発明による沈殿ケイ酸を製
造すぺく、pH値を6〜7に一定に保ちつつ水からなる
40℃〜42℃に加温されえ仕込み物中で、全沈殿時間
KIEって続く剪断力の下に、水ガラス溶液および硫酸
を同時に供給し、第1S分目から第105分目まで!0
分関沈at中断し、146分間の全沈殿時間の後にケイ
酸の最終濃度を441/lK調整し、沈殿ケイII!懸
濁液を12〜17W#間熟成せしめ、フィルタープレス
を用いて上記懸濁液から沈殿ケイ酸を分離し、洗滌し、
フィルターケーキを水および/を良はllを用いて10
〜16重量嘩の固形分を有する懸濁液まで液状化し、そ
して最後に噴霧乾燥することを特徴とする沈殿ケイ酸の
製造方法であるO 仁のようKして得られた沈殿ケイ酸は、特許請求の範囲
第1項Kle禦され友物理的−化学的特性データを示す
。この沈殿ケイ酸は、十字流ンルを用いて粉砕すること
ができる。それは特許請求の範囲第S項に記載され九物
理的−化学的特性データを示す。しかしながら、特許請
求囲第5項に記載され九物理的−化学的特性データを示
す。
本発明による沈殿ケイ酸を製造する友めの本発明による
方決の特別の利点−これらは本発明O新規な方法の経済
性にとって有利に影響を及ぼすtのであるがm−下記の
とおりであるニー−高い比表面積を有する沈殿ケイMK
比較してフィルターケーキ中の16〜17重量嘔という
より高い固形分は、この製造方法の乾燥費そして従って
エネルギー消費を減少せしめる。
方決の特別の利点−これらは本発明O新規な方法の経済
性にとって有利に影響を及ぼすtのであるがm−下記の
とおりであるニー−高い比表面積を有する沈殿ケイMK
比較してフィルターケーキ中の16〜17重量嘔という
より高い固形分は、この製造方法の乾燥費そして従って
エネルギー消費を減少せしめる。
ピロ高い比l!開面積有する沈殿ケイ酸に比較して従来
みられなかつ九ような驚異的に低い洗滌時間は、洗滌水
の必要量を減少せしめ、そしてフィルタープレスの性能
の著しい向上を可能にする。
みられなかつ九ような驚異的に低い洗滌時間は、洗滌水
の必要量を減少せしめ、そしてフィルタープレスの性能
の著しい向上を可能にする。
不発1jlKよるケイ酸ならびにそれらを製造する方法
を以下の実施例において詳細に説明する0例1 沈殿容器として作用しそしてM工G−桿型攪拌装置およ
びエカト(1hato )−剪断タービンを備え曳75
− の木製槽中に、40℃の温度の水40w5J予め装
入するOこの仕込み−に市販の水ガラス(810雪:2
表8重量慢、M&、O:ao重量嘔、モジz yスm
h S 5 ) t 8−/hをt 8 s”/hの速
度でそして濃硫酸(viaJをa ? II m”/h
の速度で同時に流入せしめる〇そOII、酸はタービン
を経て添加され、このタービンは沈殿の始まりと共に運
転管開始される。
を以下の実施例において詳細に説明する0例1 沈殿容器として作用しそしてM工G−桿型攪拌装置およ
びエカト(1hato )−剪断タービンを備え曳75
− の木製槽中に、40℃の温度の水40w5J予め装
入するOこの仕込み−に市販の水ガラス(810雪:2
表8重量慢、M&、O:ao重量嘔、モジz yスm
h S 5 ) t 8−/hをt 8 s”/hの速
度でそして濃硫酸(viaJをa ? II m”/h
の速度で同時に流入せしめる〇そOII、酸はタービン
を経て添加され、このタービンは沈殿の始まりと共に運
転管開始される。
このII加の間、沈殿仕込本物の1H値は、&OK保た
れるOtS分間の沈殿の後に−一すなわち著しい対照を
なす粘度の上昇−一水ガラスシよびWRの添加を90分
間の間中断する0この中断期間の間、エカトタービンで
更に剪断上行なう0tOS分目から水lラスの添加を上
記の添加速度およびpH値を保ちつつ146分目まで続
行する0その時、沈l1211PI41[の固形物含有
量は、441/l である。温度は、それぞれ外的温
度条件に応じて42〜atco値に調整されうる・最終
pH値は瓜Oである0全部で水ガラス11 ws”
および硫1m!(1?1− が反応せしめられる0この
懸濁液管圧縮する前に中間容器内で1s時闘熟成させる
0この熟成期間に絖いて、この懸濁液を4個のフィルタ
ープレスによって1遇する。その際、兜填時間は、五S
バールの最終圧力において1時間である0僅かt5時間
の極めて短かい洗滌時間の後の、流出し九P液の伝導変
株、1050μsであり、4時間の洗滌時間の後の伝導
度は、2−0μ8である0得られ九フイルターケー中の
固形分は、約1瓜5〜17重量嘔である0このフィルタ
ーケーキは、剪断力の影響下に水で液状化され友後、1
1重量嘔の固形分を示す0この液状化に絖いて、ケイW
RIl濁液を1転円板によって噴霧し、熱い燃焼ガスに
よって乾燥する0 粉砕されていないこの生成物04I性データは、第2表
に示されている。
れるOtS分間の沈殿の後に−一すなわち著しい対照を
なす粘度の上昇−一水ガラスシよびWRの添加を90分
間の間中断する0この中断期間の間、エカトタービンで
更に剪断上行なう0tOS分目から水lラスの添加を上
記の添加速度およびpH値を保ちつつ146分目まで続
行する0その時、沈l1211PI41[の固形物含有
量は、441/l である。温度は、それぞれ外的温
度条件に応じて42〜atco値に調整されうる・最終
pH値は瓜Oである0全部で水ガラス11 ws”
および硫1m!(1?1− が反応せしめられる0この
懸濁液管圧縮する前に中間容器内で1s時闘熟成させる
0この熟成期間に絖いて、この懸濁液を4個のフィルタ
ープレスによって1遇する。その際、兜填時間は、五S
バールの最終圧力において1時間である0僅かt5時間
の極めて短かい洗滌時間の後の、流出し九P液の伝導変
株、1050μsであり、4時間の洗滌時間の後の伝導
度は、2−0μ8である0得られ九フイルターケー中の
固形分は、約1瓜5〜17重量嘔である0このフィルタ
ーケーキは、剪断力の影響下に水で液状化され友後、1
1重量嘔の固形分を示す0この液状化に絖いて、ケイW
RIl濁液を1転円板によって噴霧し、熱い燃焼ガスに
よって乾燥する0 粉砕されていないこの生成物04I性データは、第2表
に示されている。
例2
fllK従って沈殿ケイ酸を調製するOその際、例1と
異なって熟成時間は、全部で1411P間に嬌長され、
これによって同じ構造性標準数値(8trtzkttz
rmassgahl ) にかいて11丁−表鋼積は
、低下する0 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、第2表に
示されているO 例S 例1に従って沈殿ケイ酸の製造を行なう0相違点は、熟
成時間を1s時間に減らし、同時に固形分を11重量嘩
から15重量’IK高め九ことである〇 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、第2表に
示されている。
異なって熟成時間は、全部で1411P間に嬌長され、
これによって同じ構造性標準数値(8trtzkttz
rmassgahl ) にかいて11丁−表鋼積は
、低下する0 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、第2表に
示されているO 例S 例1に従って沈殿ケイ酸の製造を行なう0相違点は、熟
成時間を1s時間に減らし、同時に固形分を11重量嘩
から15重量’IK高め九ことである〇 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、第2表に
示されている。
例4
例1の諸条件を守る・ただし、噴霧乾燥にかけられ友液
状化され友フィルターケーキの固形分は、12嘩に高め
られた。
状化され友フィルターケーキの固形分は、12嘩に高め
られた。
粉砕されて−ないこのケイ酸の特性データは、第2表に
示されている。
示されている。
例5
このケイ酸の製造線、例1に従って行なわれる◎熟成時
間のみ15時間から17時間に変えられる◎更に、フィ
ルターケーキを少量の希硫s2および少量の水で液状化
し、得られた16重量嘔の固形分を有する懸濁液を噴霧
乾燥にかけるom形−に含1れえ遊離OIIをアン篭エ
アガスによって中和する〇 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、第2表に
示されている。
間のみ15時間から17時間に変えられる◎更に、フィ
ルターケーキを少量の希硫s2および少量の水で液状化
し、得られた16重量嘔の固形分を有する懸濁液を噴霧
乾燥にかけるom形−に含1れえ遊離OIIをアン篭エ
アガスによって中和する〇 粉砕されていないこのケイ酸の特性データは、第2表に
示されている。
例6
例5による粉砕されていない噴霧乾燥され友ケイ酸をU
P!5ellOアルビーネー十字* ;l(/(ムLP
工111に−Qu@rstrommihl 3寸★で粉
砕するr゛坊 その物理的−化学的データが第2表に示されている生成
物が得られる・ 」L 例1によって得られた噴霧乾燥された沈殿ケイ酸をUP
!Sol!のアルビーネ十字m<ルで粉砕する0このケ
イ酸Oデータ社、第2表に示されている。
P!5ellOアルビーネー十字* ;l(/(ムLP
工111に−Qu@rstrommihl 3寸★で粉
砕するr゛坊 その物理的−化学的データが第2表に示されている生成
物が得られる・ 」L 例1によって得られた噴霧乾燥された沈殿ケイ酸をUP
!Sol!のアルビーネ十字m<ルで粉砕する0このケ
イ酸Oデータ社、第2表に示されている。
例・
例5によって得られ九粉砕されていない噴霧乾燥され九
沈毅ケイ酸をUP45011のアルビーネ十字流ンルを
用い゛て粉砕する0このケイ酸の特性データは、第29
に示されているO」!− 例1によるケイ酸をマイクログラインディングMO50
01!の空気ジェットミルを用いて粉砕し、その際、7
パールの粉砕空気圧においてtoIK4/h の出力が
保九れる。このケイ酸の特性データも同様に第2表に示
されている0例10 例5による沈殿ケイ酸を例!の条件に従って空気ジエン
)Nルで粉砕する。第2表に示されているようなデータ
が得られる。
沈毅ケイ酸をUP45011のアルビーネ十字流ンルを
用い゛て粉砕する0このケイ酸の特性データは、第29
に示されているO」!− 例1によるケイ酸をマイクログラインディングMO50
01!の空気ジェットミルを用いて粉砕し、その際、7
パールの粉砕空気圧においてtoIK4/h の出力が
保九れる。このケイ酸の特性データも同様に第2表に示
されている0例10 例5による沈殿ケイ酸を例!の条件に従って空気ジエン
)Nルで粉砕する。第2表に示されているようなデータ
が得られる。
例11(比較例)
この例は、本発明によるケイ酸が公知の表面積の大きな
ケイ酸に比較して、フィルタープレス上での改善され友
Ffiシよび洗滌速度の点において優れていることを示
している〇 ドイツ特許公告第1,517.? Of1号明細書に従
って(第2欄第55〜68行および第5欄第1〜7行参
FIIA)、470 m”lf O比表面積を有する沈
殿ケイ酸を調製するO 濾過工程のデータは、第5表に示されている0そこには
これらの濾過データが本発明による例5のケイ酸の濾過
データと比較されている〇これらは乾燥され九沈駿ケイ
酸について測定され九はぼ胃じ電導率を示す〇 この比較何社、洗滌水およびフィルタープレス容量につ
いてO驚異的に高い節約を示す・従って、本発明による
方法は、最も経済的な条件まで高い表面積を有する沈殿
ケイ酸の製造を可能にする0 BIAT−比表面積、DBP値およびかさ密度のような
物理的−化学的特性データ社、DXHによる方法に従っ
て測定される0 4上水性分散液中O電導皐は、ドイツ特許出願公開第2
.428.975号明細書第16頁に従って一定される
0 1アルビーネ(ムLPXNR)−ふるい残分”拡、次の
ようにして測定される: ふるい残分を測定するには、ケイ酸は、場合によって社
存在する通気節目を破壊するために500*−メツシュ
の−によって鱈分けられるO次いで、鯵分けられた物質
10Fを定められえ空気流tIIKかけ、200−水柱
の減圧で鉤分けする。篩分けは、残漬が一定となったと
きに終了し、それは大抵流動性の外観で見分けられる。
ケイ酸に比較して、フィルタープレス上での改善され友
Ffiシよび洗滌速度の点において優れていることを示
している〇 ドイツ特許公告第1,517.? Of1号明細書に従
って(第2欄第55〜68行および第5欄第1〜7行参
FIIA)、470 m”lf O比表面積を有する沈
殿ケイ酸を調製するO 濾過工程のデータは、第5表に示されている0そこには
これらの濾過データが本発明による例5のケイ酸の濾過
データと比較されている〇これらは乾燥され九沈駿ケイ
酸について測定され九はぼ胃じ電導率を示す〇 この比較何社、洗滌水およびフィルタープレス容量につ
いてO驚異的に高い節約を示す・従って、本発明による
方法は、最も経済的な条件まで高い表面積を有する沈殿
ケイ酸の製造を可能にする0 BIAT−比表面積、DBP値およびかさ密度のような
物理的−化学的特性データ社、DXHによる方法に従っ
て測定される0 4上水性分散液中O電導皐は、ドイツ特許出願公開第2
.428.975号明細書第16頁に従って一定される
0 1アルビーネ(ムLPXNR)−ふるい残分”拡、次の
ようにして測定される: ふるい残分を測定するには、ケイ酸は、場合によって社
存在する通気節目を破壊するために500*−メツシュ
の−によって鱈分けられるO次いで、鯵分けられた物質
10Fを定められえ空気流tIIKかけ、200−水柱
の減圧で鉤分けする。篩分けは、残漬が一定となったと
きに終了し、それは大抵流動性の外観で見分けられる。
なお念の九めに、更に1分間帥分けを続ける。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 t 下記の物理的−化学的特性データを有することを特
徴とする沈殿ケイl!= DIM 4!151による Ble?−表面積 渭Yt 40G
−600D工M 5560tによる DBP値 % 540〜580D15S1
?4による かさ密度 t/l 180−
2201アルビーネ(ムLPIMI)− ふるい残分”〉65μ−重量% 25−602
下記の物理的−化学的特性データ:DIM 4415
1による BIT−11i[積 −’/f 4
00−600D工N 55401による I)BP値 嘔 540−580p工M
55194による かさ密度 f/l 180
−2201フルビーネ(ムLP工Ml)− ふるい残分”)45μ講 重量% 25−6
0を有する沈殿ケイ酸を製造すべく、pHIII[を6
〜7に一定に保ちつつ水からなる40℃〜42℃に加温
され大仕込み物中K、全沈殿時間に亘って続く剪断力の
下に、水ガラス溶液および硫酸を同時に供絽し、第1S
分目から第105分目まで90分間沈殿を中断せしめ、
146分間の全沈殿時間の後にケイ酸の最終濃度を44
f/l K調整し、沈゛殿ケイ酸懸濁液を12〜17
時間熟成せしめ、フィルタープレスを用いて上記懸濁液
から沈殿ケイ酸を分離し、洗滌し、フィルターケーキを
水および/または酸を用いて10〜16重量囁の園形分
を有する懸濁液まで液状化し、そして次いで噴霧乾燥す
ることを特徴とする、前記沈殿ケイ酸の製造方法。 五 下記の物理的−化学的特性データを有することを特
徴とする沈殿ケイ酸: DIM 55401による DBP値 嘩 520−560表 下記の
一理的一化学的特性データ:を有する沈殿ケイ酸を製造
すぺ(、pH値を6〜7に一定に保ちつつ水からなる4
0℃〜42℃に加温されえ仕込み物中に、全沈殿時間に
亘って絖〈剪断力の下に、水ガラス**および硫酸を同
時に供給し、第1S分目から第105分目まで90分間
沈殿を中断せしめ、146分間の全沈殿時間の後にケイ
酸の最終濃度を44 f/l K調整し、沈殿ケイ酸懸
濁液を12〜17g#間熟成せしめ、フィルタープレス
を用いて上記懸濁液から沈殿ケイ酸を分離し、洗滌し、
フィルターケーキを水シよび/ま九は酸を用いて10〜
16重量嘩の固形分を有する懸濁液まで液状化し、噴霧
乾燥し、次いでアルビーネー十字流ンル(ムLP工菖ト
Qu・r・trosnmiihl・)で粉砕することを
特徴とする、前記沈殿ケイ酸の製造方法0 五 下記の物理的−化学的特性データを有することを特
徴とする沈殿ケイwI: 表 下記の物理的−化学的特性データ:を有する沈殿ケ
イ酸を製造すぺく、pH値を6〜7に一定に保ちつつ水
からなる40℃〜42℃に加温され九仕込み物中に1全
沈殿時間に亘って続く剪断力の下で、水ガラス浴液およ
び硫酸を同時に供給し、第15分目から第105分目ま
で90分間沈殿を中断せしめ、146分間の全沈殿時間
011Kケイ@0最終l11度を46 f/l に調
整し、沈殿ケイ酸懸濁液を12〜17m#間熟成せしめ
、フィルタープレスを用いて上記懸濁液から沈殿ケイ酸
を分離し、洗滌し、フィルターケーキを水および/ま九
社酸を用いて10〜16重量暢の固形分を有する懸濁液
まで液状化し、噴霧乾燥し、次いでジエン)1ルで粉砕
することを特徴とする、前記沈殿ケイ酸の製造方法〇
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3144299.4 | 1981-11-07 | ||
DE19813144299 DE3144299A1 (de) | 1981-11-07 | 1981-11-07 | Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5888117A true JPS5888117A (ja) | 1983-05-26 |
JPS6126492B2 JPS6126492B2 (ja) | 1986-06-20 |
Family
ID=6145876
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57193982A Granted JPS5888117A (ja) | 1981-11-07 | 1982-11-06 | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 |
JP59257761A Granted JPS60221315A (ja) | 1981-11-07 | 1984-12-07 | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 |
JP59257762A Granted JPS60155524A (ja) | 1981-11-07 | 1984-12-07 | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59257761A Granted JPS60221315A (ja) | 1981-11-07 | 1984-12-07 | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 |
JP59257762A Granted JPS60155524A (ja) | 1981-11-07 | 1984-12-07 | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4495167A (ja) |
EP (1) | EP0078909B2 (ja) |
JP (3) | JPS5888117A (ja) |
KR (1) | KR890000809B1 (ja) |
AR (1) | AR230249A1 (ja) |
AT (1) | ATE19385T1 (ja) |
BR (1) | BR8206437A (ja) |
CA (1) | CA1194272A (ja) |
DE (2) | DE3144299A1 (ja) |
DK (1) | DK171556B1 (ja) |
ES (1) | ES8307664A1 (ja) |
FI (1) | FI72497C (ja) |
IL (1) | IL67145A0 (ja) |
ZA (1) | ZA828158B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60155524A (ja) * | 1981-11-07 | 1985-08-15 | デグ−サ・アクチエンゲゼルシヤフト | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 |
JP2007501180A (ja) * | 2003-08-05 | 2007-01-25 | Dsl.ジャパン株式会社 | 高吸油性非晶質シリカ粒子 |
JP2015510866A (ja) * | 2012-03-22 | 2015-04-13 | ローディア オペレーションズ | ミキサー又は押出機を用いた沈降シリカの製造方法 |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3346349A1 (de) * | 1983-12-22 | 1985-07-11 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Methylisothiocyanat-zubereitung |
DE3545615C3 (de) * | 1984-12-28 | 1996-11-21 | Ppg Industries Inc | Verwendung von amorphem gefälltem Siliziumdioxid zum Verstärken von mikroporösen Trennelementen für Batterien |
US4636415A (en) * | 1985-02-08 | 1987-01-13 | General Electric Company | Precipitated silica insulation |
DE3639844A1 (de) * | 1986-11-21 | 1988-06-01 | Degussa | Zahnpflegemittel |
DE3639845A1 (de) * | 1986-11-21 | 1988-06-01 | Degussa | Faellungskieselsaeuren, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung |
US6143281A (en) * | 1987-03-31 | 2000-11-07 | Smithkline Beecham P.L.C. | Dentifrice compositions |
EP0334400B1 (en) * | 1988-03-22 | 1994-01-05 | Agfa-Gevaert N.V. | A sheet or web carrying an antistatic layer |
DE3815670A1 (de) * | 1988-05-07 | 1990-01-25 | Degussa | Feinteilige faellungskieselsaeure mit hoher struktur, verfahren zu seiner herstellung und verwendung |
FI83330C (fi) * | 1988-06-03 | 1991-06-25 | Neste Oy | Foerfarande foer aktivering av en polymerisationskatalysatorbaerare och en medelst foerfarandet erhaollen katalysatorkomponent. |
US5362541A (en) * | 1988-08-24 | 1994-11-08 | Degussa Aktiengesellschaft | Shaped articles for heat insulation |
US6193795B1 (en) | 1993-08-02 | 2001-02-27 | Degussa Corporation | Low structure pyrogenic hydrophilic and hydrophobic metallic oxides, production and use |
ATE142986T1 (de) * | 1993-08-07 | 1996-10-15 | Degussa | Verfahren zur herstellung einer fällungskieselsäure |
US6977065B1 (en) * | 1993-10-07 | 2005-12-20 | Degussa Ag | Precipitated silicas |
US5571494A (en) * | 1995-01-20 | 1996-11-05 | J. M. Huber Corporation | Temperature-activated polysilicic acids |
MY116513A (en) * | 1995-04-19 | 2004-02-28 | Ppg Ind Ohio Inc | Amorphous precipitated silica having large liquid carrying capacity |
DE19617039A1 (de) * | 1995-06-01 | 1996-12-05 | Degussa | Fällungskieselsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung von vulkanisierbaren Kautschukmischungen |
IN188702B (ja) * | 1995-06-01 | 2002-10-26 | Degussa | |
DE19526476A1 (de) * | 1995-07-20 | 1997-01-23 | Degussa | Fällungskieselsäure |
US5605569A (en) * | 1995-11-08 | 1997-02-25 | Ppg Industries, Inc. | Precipitated silica having high sodium sulfate content |
DE19740440A1 (de) | 1997-09-15 | 1999-03-18 | Degussa | Leicht dispergierbare Fällungskieselsäure |
US6395247B1 (en) | 1997-12-12 | 2002-05-28 | Degussa Ag | Precipitated silica |
DE19755287A1 (de) * | 1997-12-12 | 1999-07-08 | Degussa | Fällungskieselsäure |
JP4071343B2 (ja) * | 1998-02-18 | 2008-04-02 | 株式会社ブリヂストン | ゴム組成物及びそれを用いた空気入りタイヤ |
DE19807700A1 (de) * | 1998-02-24 | 1999-08-26 | Degussa | Fällungskieselsäuregranulate |
US6573032B1 (en) | 1999-04-22 | 2003-06-03 | J. M. Huber Corporation | Very high structure, highly absorptive hybrid silica and method for making same |
US7015271B2 (en) * | 1999-08-19 | 2006-03-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Hydrophobic particulate inorganic oxides and polymeric compositions containing same |
US6419174B1 (en) | 2000-08-18 | 2002-07-16 | J. M. Huber Corporation | Abrasive compositions and methods for making same |
US6652611B1 (en) | 2000-08-18 | 2003-11-25 | J. M. Huber Corporation | Method for making abrasive compositions and products thereof |
US6403059B1 (en) | 2000-08-18 | 2002-06-11 | J. M. Huber Corporation | Methods of making dentifrice compositions and products thereof |
DE10048616A1 (de) | 2000-09-30 | 2002-04-11 | Degussa | Dotierte Fällungskieselsäure |
DE10058616A1 (de) | 2000-11-25 | 2002-05-29 | Degussa | Fällungskieselsäuren mit hoher Struktur |
DE10105750A1 (de) * | 2001-02-08 | 2002-10-10 | Degussa | Fällungskieselsäuren mit enger Partikelgrößenverteilung |
US7253224B2 (en) * | 2001-08-07 | 2007-08-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silica-based particulates |
US7135429B2 (en) * | 2002-05-24 | 2006-11-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Attrition resistant carrier product |
DE10241273A1 (de) † | 2002-09-06 | 2004-03-18 | Degussa Ag | Effiziente Mattierungsmittel basierend auf Fällungskieselsäuren |
FR2856680B1 (fr) * | 2003-06-30 | 2005-09-09 | Rhodia Chimie Sa | Materiaux d'isolation thermique et/ou acoustique a base de silice et procedes pour leur obtention |
DE102004005409A1 (de) * | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Degussa Ag | Hydrophile Fällungskieselsäure für Entschäumerformulierungen |
US7037476B1 (en) | 2004-12-27 | 2006-05-02 | Council Of Scientific And Industrial Research | Process for preparing amorphous silica from kimberlite tailing |
WO2007054955A1 (en) * | 2005-11-10 | 2007-05-18 | Council Of Scientific & Industrial Research | A process for the preparation of sodium silicate from kimberlite tailings |
AU2008246949B2 (en) * | 2007-05-03 | 2012-11-01 | Council Of Scientific & Industrial Research | A process for the preparation of finely divided precipitated silica |
DE102009045104A1 (de) | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Evonik Degussa Gmbh | Neuartige Mattierungsmittel für UV-Lacke |
DE102010029945A1 (de) * | 2010-06-10 | 2011-12-15 | Evonik Degussa Gmbh | Neuartige Mattierungsmittel für UV-Überdrucklacke |
DE102017209874A1 (de) | 2017-06-12 | 2018-12-13 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von wachsbeschichteter Kieselsäure |
CN112694092A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-04-23 | 山东联科卡尔迪克白炭黑有限公司 | 一种氯化胆碱载体用二氧化硅的生产工艺及应用 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE14059C (de) * | c. von trott in New-York (V. St. A.) | Neuerungen an elektromagnetischen Signalvorrichtungen für Eisenbahnen | ||
DE1299617B (de) * | 1965-01-13 | 1969-07-24 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem gefaelltem Siliciumdioxid |
NL6502791A (ja) * | 1965-03-05 | 1966-09-06 | ||
DE1767332C3 (de) * | 1968-04-27 | 1975-10-09 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung feinstteiliger, amorpher Kieselsäuren mit hoher Struktur |
US4067954A (en) * | 1971-05-11 | 1978-01-10 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Process for the production of finely divided silicon dioxide having a large specific surface |
DE2414478C3 (de) * | 1974-03-26 | 1978-07-13 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Aerogelartige strukturierte Kieselsäure und Verfahren zu ihrer Herstellung |
AU497891B2 (en) * | 1974-05-22 | 1979-01-18 | J.M. Huber Corp. | Siliceous pigments & their production |
SE420596B (sv) * | 1975-03-25 | 1981-10-19 | Osaka Packing | Formad kropp av amorf kiseldioxid, eventuellt innehallande kalciumkarbonat, sett att framstella en formad kropp av amorf kiseldioxid samt partikel av amorf kiseldioxid for framstellning av en formad kropp |
US4243428A (en) * | 1979-01-24 | 1981-01-06 | Donnet Jean Baptise | Processes for the manufacturing of precipitated silica |
US4312845A (en) * | 1979-09-10 | 1982-01-26 | J. M. Huber Corporation | Method of producing amorphous silica of controlled oil absorption |
DE3144299A1 (de) * | 1981-11-07 | 1983-05-19 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Faellungskieselsaeuren mit hoher struktur und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1981
- 1981-11-07 DE DE19813144299 patent/DE3144299A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-09-25 EP EP82108893A patent/EP0078909B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1982-09-25 AT AT82108893T patent/ATE19385T1/de active
- 1982-09-25 DE DE8282108893T patent/DE3270779D1/de not_active Expired
- 1982-10-18 FI FI823558A patent/FI72497C/fi not_active IP Right Cessation
- 1982-11-01 IL IL67145A patent/IL67145A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1982-11-02 US US06/438,633 patent/US4495167A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-11-04 AR AR291208A patent/AR230249A1/es active
- 1982-11-05 BR BR8206437A patent/BR8206437A/pt not_active IP Right Cessation
- 1982-11-05 ES ES517140A patent/ES8307664A1/es not_active Expired
- 1982-11-05 DK DK493882A patent/DK171556B1/da not_active IP Right Cessation
- 1982-11-05 CA CA000414998A patent/CA1194272A/en not_active Expired
- 1982-11-05 ZA ZA828158A patent/ZA828158B/xx unknown
- 1982-11-06 JP JP57193982A patent/JPS5888117A/ja active Granted
- 1982-11-06 KR KR8205014A patent/KR890000809B1/ko active
-
1984
- 1984-12-07 JP JP59257761A patent/JPS60221315A/ja active Granted
- 1984-12-07 JP JP59257762A patent/JPS60155524A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60155524A (ja) * | 1981-11-07 | 1985-08-15 | デグ−サ・アクチエンゲゼルシヤフト | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 |
JPS6212171B2 (ja) * | 1981-11-07 | 1987-03-17 | Degussa | |
JP2007501180A (ja) * | 2003-08-05 | 2007-01-25 | Dsl.ジャパン株式会社 | 高吸油性非晶質シリカ粒子 |
JP4758896B2 (ja) * | 2003-08-05 | 2011-08-31 | Dsl.ジャパン株式会社 | 高吸油性非晶質シリカ粒子 |
JP2015510866A (ja) * | 2012-03-22 | 2015-04-13 | ローディア オペレーションズ | ミキサー又は押出機を用いた沈降シリカの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6212171B2 (ja) | 1987-03-17 |
ES517140A0 (es) | 1983-08-01 |
CA1194272A (en) | 1985-10-01 |
JPS60155524A (ja) | 1985-08-15 |
IL67145A0 (en) | 1983-03-31 |
DK493882A (da) | 1983-05-08 |
ZA828158B (en) | 1983-09-28 |
KR890000809B1 (ko) | 1989-04-08 |
BR8206437A (pt) | 1983-09-06 |
FI72497B (fi) | 1987-02-27 |
DE3144299A1 (de) | 1983-05-19 |
KR840002326A (ko) | 1984-06-25 |
FI823558L (fi) | 1983-05-08 |
FI72497C (fi) | 1987-06-08 |
AR230249A1 (es) | 1984-03-01 |
JPS6126492B2 (ja) | 1986-06-20 |
ATE19385T1 (de) | 1986-05-15 |
EP0078909B2 (de) | 1992-09-30 |
JPS60221315A (ja) | 1985-11-06 |
EP0078909B1 (de) | 1986-04-23 |
US4495167A (en) | 1985-01-22 |
EP0078909A2 (de) | 1983-05-18 |
DK171556B1 (da) | 1997-01-13 |
EP0078909A3 (en) | 1984-10-10 |
JPH0246521B2 (ja) | 1990-10-16 |
ES8307664A1 (es) | 1983-08-01 |
FI823558A0 (fi) | 1982-10-18 |
DE3270779D1 (en) | 1986-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5888117A (ja) | 高い構造性を有する沈殿ケイ酸およびそれらの製造方法 | |
US4105757A (en) | Amorphous precipitated siliceous pigments for cosmetic or dentifrice use and methods for their production | |
US4122161A (en) | Amorphous precipitate silica compositions | |
US4122160A (en) | Toothpaste compositions containing improved amorphous precipitated silicas | |
JPS5845106A (ja) | 沈殿ケイ酸およびその製造方法 | |
TW298587B (ja) | ||
CN101824235A (zh) | 一种耐中温氧化铁黄的制作工艺 | |
US2805955A (en) | Silica composition and production thereof | |
CN108516582B (zh) | 一种高耐候纳米金红石型钛白粉的制备方法 | |
NO150954B (no) | Fremgangsmaate til oppberedning av silisiumdioksydholdig avfallsflyvestoev til utfellingskiselsyre eller silikat | |
CN103435046A (zh) | 一种雪地轮胎用的高分散性白炭黑的制作工艺 | |
CN108137331A (zh) | 用于制备硅酸盐的新颖方法及其用于制备沉淀二氧化硅的用途 | |
CN103466635B (zh) | 一种二氧化硅的制备方法 | |
CN103435051A (zh) | 一种绿色轮胎用的高分散性白炭黑的制作工艺 | |
US4045240A (en) | Amorphous precipitated siliceous pigments and methods for their production | |
JPS5899121A (ja) | 二酸化チタンスラリ−の製造法 | |
CN103803566B (zh) | 透明橡胶补强剂沉淀二氧化硅的制备方法 | |
US4038098A (en) | Amorphous precipitated siliceous pigments for cosmetic or dentrifice use and methods for their production | |
CN112694098A (zh) | 含硅污水回收合成分子筛zsm-5x的方法 | |
NO118431B (ja) | ||
CN114671460B (zh) | 硫酸法钛白短流程工艺中工业偏钛酸除杂的方法 | |
JPH073182A (ja) | 塗料艶消し剤用シリカ及びその製造方法 | |
KR0133232B1 (ko) | 저밀도 다공성 실리카겔 분말의 제조방법 | |
CN108928827A (zh) | 一种提高白炭黑比表面积和孔容的方法 | |
CN108975371A (zh) | 一种聚合氯化铝的制备方法 |