JPS5880142A - 光磁気記録担体 - Google Patents
光磁気記録担体Info
- Publication number
- JPS5880142A JPS5880142A JP56177964A JP17796481A JPS5880142A JP S5880142 A JPS5880142 A JP S5880142A JP 56177964 A JP56177964 A JP 56177964A JP 17796481 A JP17796481 A JP 17796481A JP S5880142 A JPS5880142 A JP S5880142A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic thin
- layer
- protective layer
- vacuum deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
- G11B5/70—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は透明な基板上に光記録用磁性薄膜を形成した光
磁気記録担体に関するものであり、その目的とするとこ
ろは光記録用磁性薄膜を空気中の湿気、手の油、水分な
どによる酸化、腐食から防止することができ、信頼性が
高く取り扱いやすい光磁気記録担体を提供することにあ
る。
磁気記録担体に関するものであり、その目的とするとこ
ろは光記録用磁性薄膜を空気中の湿気、手の油、水分な
どによる酸化、腐食から防止することができ、信頼性が
高く取り扱いやすい光磁気記録担体を提供することにあ
る。
一般に、磁気−光学記録媒体への記録はレーザー光を熱
エネルギー源とする光磁気記録が用いられている。この
記録方法はレーザー光の照射により磁気記録媒体の温度
を磁気補償温度またはキュリ一点以上にしなければなら
ない。レーザー光が照射されている部分の記録媒体の温
度を上昇させるために′は、記録媒体重その周辺の受光
エネルギー即ち熱エネルギーを効率よく用いることが要
求される。そのためには、伝導、放射による熱の拡散を
防止することが必要である。
エネルギー源とする光磁気記録が用いられている。この
記録方法はレーザー光の照射により磁気記録媒体の温度
を磁気補償温度またはキュリ一点以上にしなければなら
ない。レーザー光が照射されている部分の記録媒体の温
度を上昇させるために′は、記録媒体重その周辺の受光
エネルギー即ち熱エネルギーを効率よく用いることが要
求される。そのためには、伝導、放射による熱の拡散を
防止することが必要である。
従来、光磁気記録担体は第１図および第２図に示すよう
に透明な基板１上に光記録用の磁性薄膜２を設けたもの
であり、その記録媒体としての磁性薄膜を大気に直接曝
したり、樹脂板材３を空気層４を介して貼り合わせるな
どしていた。これら゛光磁気記録担体は、磁性薄膜２が
基板１と空気に接触しているため、基板１にガラスまた
は高分子材を用いれば、比熱、熱伝導率とも低く熱が拡
散しにくいので温度が上昇し易い。また空気に関しても
熱伝導率が極めて低いため熱拡散、熱放射は起り難い。
に透明な基板１上に光記録用の磁性薄膜２を設けたもの
であり、その記録媒体としての磁性薄膜を大気に直接曝
したり、樹脂板材３を空気層４を介して貼り合わせるな
どしていた。これら゛光磁気記録担体は、磁性薄膜２が
基板１と空気に接触しているため、基板１にガラスまた
は高分子材を用いれば、比熱、熱伝導率とも低く熱が拡
散しにくいので温度が上昇し易い。また空気に関しても
熱伝導率が極めて低いため熱拡散、熱放射は起り難い。
従って、レーザー光の照射部の記録媒体としての磁性薄
膜の温度上昇が容易である長所をゼする。しかし、致命
的な短所としては、磁性薄膜が蒸着金属であるために大
気中に放置すれば大気中の水分を吸湿して酸化しゃすい
。また樹脂板材の貼り合わせについても高分子材料は通
気性が高く酸化は防止できない。また温度変化による膨
張、収縮も大きく接着部がはがれ易いなどの問題が生じ
る。また実使用に於いては磁性薄膜の劣化により閲録条
件の変化、記録情報のドロップアラ、）、Ｓ／Ｎ比の低
下などが生じ、信頼性に欠けるものであった。
膜の温度上昇が容易である長所をゼする。しかし、致命
的な短所としては、磁性薄膜が蒸着金属であるために大
気中に放置すれば大気中の水分を吸湿して酸化しゃすい
。また樹脂板材の貼り合わせについても高分子材料は通
気性が高く酸化は防止できない。また温度変化による膨
張、収縮も大きく接着部がはがれ易いなどの問題が生じ
る。また実使用に於いては磁性薄膜の劣化により閲録条
件の変化、記録情報のドロップアラ、）、Ｓ／Ｎ比の低
下などが生じ、信頼性に欠けるものであった。
本発明はこのような従来の欠点を解消するものであり、
透明な基板上に形成した磁性薄膜上に断熱効果のすぐれ
た薄膜層を設け、この薄膜層上に通気性を有せず防湿効
果の高い保護層を設けたものである。かかる構成によれ
ば、磁性薄膜は比熱、熱伝導率がともに低いガラスまた
は高分子材よりなる基材と、断熱効果にすぐれたつまり
比熱、熱伝導率がともに低い薄膜層に接触しているため
、磁性薄膜の温度上昇が容易で熱エネルギーを効率よく
用いることができる。また、通気性を有せず防湿効果の
高い保護層で覆われているため、大気中の湿気、手の油
や水分による酸化、腐食が防止することができ、信頼性
を高めることができると共に取り扱いを容易にできる利
点を有する。
透明な基板上に形成した磁性薄膜上に断熱効果のすぐれ
た薄膜層を設け、この薄膜層上に通気性を有せず防湿効
果の高い保護層を設けたものである。かかる構成によれ
ば、磁性薄膜は比熱、熱伝導率がともに低いガラスまた
は高分子材よりなる基材と、断熱効果にすぐれたつまり
比熱、熱伝導率がともに低い薄膜層に接触しているため
、磁性薄膜の温度上昇が容易で熱エネルギーを効率よく
用いることができる。また、通気性を有せず防湿効果の
高い保護層で覆われているため、大気中の湿気、手の油
や水分による酸化、腐食が防止することができ、信頼性
を高めることができると共に取り扱いを容易にできる利
点を有する。
以下、本発明の実施例について説明する。第３図は本発
明の光磁気記録担体の一実施例を示しており、第３図中
、１１は透明な基板で、比熱、熱伝導率がともに低く断
熱効果にすぐれたガラス又は高分子材で形成されている
。１２はこの透明な基板１１上に真空蒸着の手法で設け
られた記録媒体としての磁性薄膜、１３は上記磁性薄膜
１２上にコーティングまたは真空蒸着の手法で設けられ
た薄膜層であり、比熱、熱伝導率がともに低い断熱効果
にすぐれたアクリル、ポリイミド、ポリスチレンなどの
高分子材料、または−酸化ケイ素。
明の光磁気記録担体の一実施例を示しており、第３図中
、１１は透明な基板で、比熱、熱伝導率がともに低く断
熱効果にすぐれたガラス又は高分子材で形成されている
。１２はこの透明な基板１１上に真空蒸着の手法で設け
られた記録媒体としての磁性薄膜、１３は上記磁性薄膜
１２上にコーティングまたは真空蒸着の手法で設けられ
た薄膜層であり、比熱、熱伝導率がともに低い断熱効果
にすぐれたアクリル、ポリイミド、ポリスチレンなどの
高分子材料、または−酸化ケイ素。
二酸化ケイ素、酸化チタンなどの無機酸化物で形成され
ている。１４は上記薄膜層１３上に真空蒸着の手法によ
って形成された保護層であり、通気性のなく湿気に対し
て安定なアルミニウム、ビスマス、鉛などの金属により
形成されている。
ている。１４は上記薄膜層１３上に真空蒸着の手法によ
って形成された保護層であり、通気性のなく湿気に対し
て安定なアルミニウム、ビスマス、鉛などの金属により
形成されている。
第４図は光磁気記録担体のＳＮ比の経時変化特性を示す
。放置条件として温度３０℃、湿度６０％ＲＨとし、縦
軸にＳＮ比の初期値を１とした場合の変化比率をとり、
横軸に放置時間（Ｈｒ ）をとって磁性薄膜の劣化度合
を示した。第４図中、曲線ムは本発明によるもので、曲
線Ｂは従来例でアクリル′のディスク板材を空気層を介
して貼りつけたものであ、る。曲線Ｃは全く保護処理を
していない磁性薄膜を空気に直接に曝したものである。
。放置条件として温度３０℃、湿度６０％ＲＨとし、縦
軸にＳＮ比の初期値を１とした場合の変化比率をとり、
横軸に放置時間（Ｈｒ ）をとって磁性薄膜の劣化度合
を示した。第４図中、曲線ムは本発明によるもので、曲
線Ｂは従来例でアクリル′のディスク板材を空気層を介
して貼りつけたものであ、る。曲線Ｃは全く保護処理を
していない磁性薄膜を空気に直接に曝したものである。
第４図から明らかなように大気中の水分に対する保護に
大きな効界があり、デ′ジケータ保存、真空保存する必
要がなくなり、取り扱いが容易となった０第６図は薄膜
層１３に対するレーザー光の熱エネルギーの拡散特性を
示す。ここでは、磁性薄膜１２上に薄膜層１３として二
酸化ケイ素を蒸着し、その上に保護層１４としてビスマ
スを４００人の厚さで蒸着した場合の記録に必要なエネ
ルギー密度を示した。縦軸は保護層１４のない場合の記
録に必要なエネルギー密度を１とし相対値で表わした。
大きな効界があり、デ′ジケータ保存、真空保存する必
要がなくなり、取り扱いが容易となった０第６図は薄膜
層１３に対するレーザー光の熱エネルギーの拡散特性を
示す。ここでは、磁性薄膜１２上に薄膜層１３として二
酸化ケイ素を蒸着し、その上に保護層１４としてビスマ
スを４００人の厚さで蒸着した場合の記録に必要なエネ
ルギー密度を示した。縦軸は保護層１４のない場合の記
録に必要なエネルギー密度を１とし相対値で表わした。
横軸は二酸化ケイ素の厚みを変化させ最適値を求めた。
１００Å以下ではビスマスの保護層１４が近接するため
熱放散が起り易く、１０００Å以上では二酸化ケイ素の
喰が多く熱拡散が起り易く、二酸化ケイ素厚さ１００〜
１０００人で最適値１．１〜１．２倍が得られた。
熱放散が起り易く、１０００Å以上では二酸化ケイ素の
喰が多く熱拡散が起り易く、二酸化ケイ素厚さ１００〜
１０００人で最適値１．１〜１．２倍が得られた。
同様に第６図は磁性薄膜１２上に薄膜層１３としてアク
リル樹脂をコーチイブし、その上に保護層１４としてビ
スマスを４００人の厚さで蒸着した場谷の拡散゛特性を
示す。アクリル樹脂の厚さ１００゛λ以下ではビスマス
の保護層１４が近接するため熱放散が起り易く大きな記
録エネルギーが必要であるが、１００Å以上となるとア
クリル樹脂の熱伝導度が低いためアクリル樹脂の量の増
加による熱拡散は生じない。従ってアクリル樹脂の厚さ
１００Å以上が最適値で１．０６倍の結果が得られた。
リル樹脂をコーチイブし、その上に保護層１４としてビ
スマスを４００人の厚さで蒸着した場谷の拡散゛特性を
示す。アクリル樹脂の厚さ１００゛λ以下ではビスマス
の保護層１４が近接するため熱放散が起り易く大きな記
録エネルギーが必要であるが、１００Å以上となるとア
クリル樹脂の熱伝導度が低いためアクリル樹脂の量の増
加による熱拡散は生じない。従ってアクリル樹脂の厚さ
１００Å以上が最適値で１．０６倍の結果が得られた。
なお、実験では保護層１４としてのビスマスの厚さを４
００人一定としたが、これは厚さ１００人〜１ｏｏｏ人
程度においてはほぼ同様の結果が得られる。
００人一定としたが、これは厚さ１００人〜１ｏｏｏ人
程度においてはほぼ同様の結果が得られる。
第６図、第６図の結果よりレーザー光の出力を１．０６
〜１．２倍にすることにより記録特性を維持可能で、耐
湿効果のある信頼性の高い光磁気記録担体を作製するこ
とができた。
〜１．２倍にすることにより記録特性を維持可能で、耐
湿効果のある信頼性の高い光磁気記録担体を作製するこ
とができた。
尚、上記の説明ではアクリル、ポリスチレン。
ポリイミドの高分子材料または一酸化ケイ素、二酸化ケ
イ素、酸化チタンの無機酸化物の１つを薄膜層とした。
イ素、酸化チタンの無機酸化物の１つを薄膜層とした。
が、この薄膜層は上述して高分子材料又は／およ、び無
機酸化物の複層体として形成してもよいものである。
機酸化物の複層体として形成してもよいものである。
以上のように本発明によれば、透明な基板上に形成した
磁性薄膜上に断熱効果にすぐれた薄膜層果の高い保護層
を設けたので、レーザー光の記録エネルギーを大きく高
めることなしに記録特性を維持することができ、かつ耐
湿効果にすぐれた信頼性の高い光磁気記録担体を提供す
ることができるものである。
磁性薄膜上に断熱効果にすぐれた薄膜層果の高い保護層
を設けたので、レーザー光の記録エネルギーを大きく高
めることなしに記録特性を維持することができ、かつ耐
湿効果にすぐれた信頼性の高い光磁気記録担体を提供す
ることができるものである。
第１図、第２図は従来の光磁気記録担体の断面図、第３
図は本発明の光磁気記録担体の一実施例を示す断面図、
第４図は本発明と従来の光磁気記録担体のＳＮ比の経時
変化の比較特性図、第６図および第６図は本発明の光磁
気記録担体の熱エネルギーの拡散特性図である。 １１・°・・・・・基板、１２・・・・・磁性薄膜、１
３・・・・・・薄膜層、１４・・・・・・保護層。 代理人の氏名・弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ＩＩ
Ｉ図 第４図 時間〔Ｈす 第５図 二酸化ケイ１＾【λＪ 第 ６ 図 アクリル４４ （ズＪ
図は本発明の光磁気記録担体の一実施例を示す断面図、
第４図は本発明と従来の光磁気記録担体のＳＮ比の経時
変化の比較特性図、第６図および第６図は本発明の光磁
気記録担体の熱エネルギーの拡散特性図である。 １１・°・・・・・基板、１２・・・・・磁性薄膜、１
３・・・・・・薄膜層、１４・・・・・・保護層。 代理人の氏名・弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ＩＩ
Ｉ図 第４図 時間〔Ｈす 第５図 二酸化ケイ１＾【λＪ 第 ６ 図 アクリル４４ （ズＪ
Claims (1)
- 透明な基板上に形成された光記録用磁性薄膜上上に通気
性を有せず上記磁性薄膜に対して防湿効果の高い保護層
を設けてなる光磁気記録担体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177964A JPS5880142A (ja) | 1981-11-05 | 1981-11-05 | 光磁気記録担体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177964A JPS5880142A (ja) | 1981-11-05 | 1981-11-05 | 光磁気記録担体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5880142A true JPS5880142A (ja) | 1983-05-14 |
Family
ID=16040149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56177964A Pending JPS5880142A (ja) | 1981-11-05 | 1981-11-05 | 光磁気記録担体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5880142A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03105742A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-02 | Fujitsu Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1981
- 1981-11-05 JP JP56177964A patent/JPS5880142A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03105742A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-02 | Fujitsu Ltd | 光磁気記録媒体 |
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