JPH0555938B2 - - Google Patents
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- JPH0555938B2 JPH0555938B2 JP57083484A JP8348482A JPH0555938B2 JP H0555938 B2 JPH0555938 B2 JP H0555938B2 JP 57083484 A JP57083484 A JP 57083484A JP 8348482 A JP8348482 A JP 8348482A JP H0555938 B2 JPH0555938 B2 JP H0555938B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学記録媒体、詳しくはある特定の波
長の光を用いて情報を記録する光学記録媒体に関
するものである。
長の光を用いて情報を記録する光学記録媒体に関
するものである。
光または光を集束させることによつて発生する
熱を用いて、物質に物理的・化学的変化を生じせ
しめ情報を記録する光学記録方式は原理的に高密
度記録が可能であるところから、今日、勢力的に
研究が行われている。この光学記録方式に用いら
れる従来の記録媒体は第１図にその断面図として
示すように、基板−１上にある特定の波長の光を
吸収する光吸収層−２を形成した構造となつてい
る。同図において基板−１としてはガラス・有機
物樹脂等が用いられる。使用し得る有機物樹脂と
しては、塩化ビニル樹脂・ポリメタクリル酸エス
テル樹脂・ポリスチレン樹脂・ポリカーボネート
樹脂がある。光吸収層−２としては低融点金属・
金属化合物・金属低酸化物有機染料等が使用され
る。低融点の金属・金属化合物は真空蒸着・スパ
ツタにより形成され、たとえばTe、Bi、Ti、
AsTe、AsTeSeが用いられる。また有機染料は
スピンコート法により形成され、たとえばフタロ
シアニン、アゾ染料が用いられる。このような記
録媒体への情報の記録は集束光ビーム３を光吸収
層側あるいは基板側より入射せしめ、光吸収層に
物理的化学的変化をもたらすことによつて行われ
る。このような光学記録媒体において、ガラスを
基板として用いた場合には光吸収層に吸収された
光によつて発生した熱がガラス基板へ拡散するた
めに、記録感度の低下が生ずる欠点があるが、こ
れに対して有機物樹脂を基板として用いた場合
は、ガラスに比べて熱伝導率が小さいために記録
時の光吸収層への影響が少ないことや、集束光ビ
ームを媒体上でトラツキングするときのガイドと
なる案内溝（Pre−groove）−４をあらかじめ形
成しておく場合の加工のしやすさ、さらには取扱
い上の点からも衝撃に強く、損傷しにくい等の優
位性があり、基板としては有機物樹脂を使用する
ことが好ましい。
熱を用いて、物質に物理的・化学的変化を生じせ
しめ情報を記録する光学記録方式は原理的に高密
度記録が可能であるところから、今日、勢力的に
研究が行われている。この光学記録方式に用いら
れる従来の記録媒体は第１図にその断面図として
示すように、基板−１上にある特定の波長の光を
吸収する光吸収層−２を形成した構造となつてい
る。同図において基板−１としてはガラス・有機
物樹脂等が用いられる。使用し得る有機物樹脂と
しては、塩化ビニル樹脂・ポリメタクリル酸エス
テル樹脂・ポリスチレン樹脂・ポリカーボネート
樹脂がある。光吸収層−２としては低融点金属・
金属化合物・金属低酸化物有機染料等が使用され
る。低融点の金属・金属化合物は真空蒸着・スパ
ツタにより形成され、たとえばTe、Bi、Ti、
AsTe、AsTeSeが用いられる。また有機染料は
スピンコート法により形成され、たとえばフタロ
シアニン、アゾ染料が用いられる。このような記
録媒体への情報の記録は集束光ビーム３を光吸収
層側あるいは基板側より入射せしめ、光吸収層に
物理的化学的変化をもたらすことによつて行われ
る。このような光学記録媒体において、ガラスを
基板として用いた場合には光吸収層に吸収された
光によつて発生した熱がガラス基板へ拡散するた
めに、記録感度の低下が生ずる欠点があるが、こ
れに対して有機物樹脂を基板として用いた場合
は、ガラスに比べて熱伝導率が小さいために記録
時の光吸収層への影響が少ないことや、集束光ビ
ームを媒体上でトラツキングするときのガイドと
なる案内溝（Pre−groove）−４をあらかじめ形
成しておく場合の加工のしやすさ、さらには取扱
い上の点からも衝撃に強く、損傷しにくい等の優
位性があり、基板としては有機物樹脂を使用する
ことが好ましい。
しかしながら、第１図に示した従来の光学記録
媒体は、光吸収層が空気と接しているために、光
吸収層が経時変化を起こし、記録感度の著しい低
下、あるいは記録情報の欠如・再生出力の低下を
招いていた。経時変化の原因は、光吸収層の酸化
であり、空気中の水分を吸収することにより酸化
は急速に進む。これ等の欠点を解決するために第
２図に示すような光吸収層−２上にシリコンゴム
を用いて保護層５を形成した構成が提案された。
（アプライド・フイジクス・レターズ（Applied
Physics Letters）、1979年、第34巻、pp275）し
かしながら、この場合基板あるいは保護層に有機
物樹脂を使用しているために、空気中の水分の浸
透を遮断することができない。そのため光吸収層
の経時変化を防ぐことができなかつた。
媒体は、光吸収層が空気と接しているために、光
吸収層が経時変化を起こし、記録感度の著しい低
下、あるいは記録情報の欠如・再生出力の低下を
招いていた。経時変化の原因は、光吸収層の酸化
であり、空気中の水分を吸収することにより酸化
は急速に進む。これ等の欠点を解決するために第
２図に示すような光吸収層−２上にシリコンゴム
を用いて保護層５を形成した構成が提案された。
（アプライド・フイジクス・レターズ（Applied
Physics Letters）、1979年、第34巻、pp275）し
かしながら、この場合基板あるいは保護層に有機
物樹脂を使用しているために、空気中の水分の浸
透を遮断することができない。そのため光吸収層
の経時変化を防ぐことができなかつた。
本発明の目的は、このような従来の光学記録媒
体の欠点を除去せしめて、取扱い、作成が容易で
かつ集束光ビームエネルギの光吸収層への吸収を
低下させることなく、光吸収層の経時変化を防ぐ
ことのできる新規な光学記録媒体を提供すること
にある。
体の欠点を除去せしめて、取扱い、作成が容易で
かつ集束光ビームエネルギの光吸収層への吸収を
低下させることなく、光吸収層の経時変化を防ぐ
ことのできる新規な光学記録媒体を提供すること
にある。
本発明の光学記録媒体は、特定波長の光を吸収
する光吸収層を備えた光学記録媒体において、基
板上に第１防止層と、第１熱遮へい層と、光吸収
層と、第２熱遮へい層と、第２防止層とが順次形
成された構造と備え、前記第１防止層と第２防止
層は無機材料薄膜であり、かつ該第１防止層と該
第２防止層は前記光吸収層に水分が浸透すること
を防止することを特徴とする。
する光吸収層を備えた光学記録媒体において、基
板上に第１防止層と、第１熱遮へい層と、光吸収
層と、第２熱遮へい層と、第２防止層とが順次形
成された構造と備え、前記第１防止層と第２防止
層は無機材料薄膜であり、かつ該第１防止層と該
第２防止層は前記光吸収層に水分が浸透すること
を防止することを特徴とする。
以下、本発明について図面を用いて説明する。
第３図は本発明の適用された光学記録媒体の断面
図である。有機物樹脂からなる基板１の上に第１
防止層７、第１熱遮へい層６、光吸収層２、第２
熱遮へい層６′、第２防止層７′を積層する。一例
として、基板１には厚さ２mmのポリメタクリル酸
エステル樹脂を用い、光吸収層２には真空蒸着法
による30nｍ厚のテルル（Te）膜を用いた。熱遮
へい層６，６′としてポリメタクリル酸エステル
樹脂を10μｍ厚にスピンコート法で形成した。防
止層７，７′として真空蒸着法により1000Å厚の
二酸化ケイ素（SiO2）を形成した。熱遮へい層
６，６′は、光吸収層２の記録条件の低下させる
ことなく、光吸収層において発生した熱の周辺部
への拡散を抑えるために積層され、使用する光の
波長において均質・透明かつ熱伝導率の小さい物
質たとえばシリコンゴム有機物樹脂（ポリメタク
リル酸エステル樹脂・ポリカーボネート樹脂等）
が用いられる。これらの材料はスピンコート法、
あるいはイオンビームデポジシヨン法によつて形
成される。膜厚は1μｍないしは100μｍ程度あれ
ば十分である。無機材料薄膜からなる防止層７，
７′には耐湿性・気密性を有し、使用する光の波
長において、均質かつ透明である材料が用いられ
る。材料として酸化ケイ素（SiO）、二酸化ケイ
素（SiO2）、フツ化マグネシウム（MgF2）、酸化
アルミニウム（Al2O3）等を用いることができ
る。前記無機材料薄膜からなる防止層は、真空蒸
着・スパツタ・プラズマCVDによつて形成する
ことができ、膜厚は500Åないしは5000Åあれば
十分である。
第３図は本発明の適用された光学記録媒体の断面
図である。有機物樹脂からなる基板１の上に第１
防止層７、第１熱遮へい層６、光吸収層２、第２
熱遮へい層６′、第２防止層７′を積層する。一例
として、基板１には厚さ２mmのポリメタクリル酸
エステル樹脂を用い、光吸収層２には真空蒸着法
による30nｍ厚のテルル（Te）膜を用いた。熱遮
へい層６，６′としてポリメタクリル酸エステル
樹脂を10μｍ厚にスピンコート法で形成した。防
止層７，７′として真空蒸着法により1000Å厚の
二酸化ケイ素（SiO2）を形成した。熱遮へい層
６，６′は、光吸収層２の記録条件の低下させる
ことなく、光吸収層において発生した熱の周辺部
への拡散を抑えるために積層され、使用する光の
波長において均質・透明かつ熱伝導率の小さい物
質たとえばシリコンゴム有機物樹脂（ポリメタク
リル酸エステル樹脂・ポリカーボネート樹脂等）
が用いられる。これらの材料はスピンコート法、
あるいはイオンビームデポジシヨン法によつて形
成される。膜厚は1μｍないしは100μｍ程度あれ
ば十分である。無機材料薄膜からなる防止層７，
７′には耐湿性・気密性を有し、使用する光の波
長において、均質かつ透明である材料が用いられ
る。材料として酸化ケイ素（SiO）、二酸化ケイ
素（SiO2）、フツ化マグネシウム（MgF2）、酸化
アルミニウム（Al2O3）等を用いることができ
る。前記無機材料薄膜からなる防止層は、真空蒸
着・スパツタ・プラズマCVDによつて形成する
ことができ、膜厚は500Åないしは5000Åあれば
十分である。
第４図は、本発明の効果を示す加速試験の結果
である。横軸が時間（日数）、縦軸が記録情報誤
り率である。媒体Ａは第３図に示した本発明の一
実施例の場合で防止層７，７′のSiO2がある場合
であり、媒体Ｂは比較のためのもので第３図の構
成において防止層７，７′がない場合を示してい
る。各媒体の光学記録を行つたのち、45℃湿度95
％の条件で加速試験を行つた。この条件は25℃湿
度50％の250倍の時間加速に相当する。媒体Ｂに
ついては記録情報誤り率が15日以降悪化している
のに対して、媒体Ａは30日間経過後もほとんど誤
り率の低下は見られなかつた。このことから
SiO2層の積層により光吸収層の経時変化が大き
く軽減されたことがわかつた。
である。横軸が時間（日数）、縦軸が記録情報誤
り率である。媒体Ａは第３図に示した本発明の一
実施例の場合で防止層７，７′のSiO2がある場合
であり、媒体Ｂは比較のためのもので第３図の構
成において防止層７，７′がない場合を示してい
る。各媒体の光学記録を行つたのち、45℃湿度95
％の条件で加速試験を行つた。この条件は25℃湿
度50％の250倍の時間加速に相当する。媒体Ｂに
ついては記録情報誤り率が15日以降悪化している
のに対して、媒体Ａは30日間経過後もほとんど誤
り率の低下は見られなかつた。このことから
SiO2層の積層により光吸収層の経時変化が大き
く軽減されたことがわかつた。
本発明では光吸収層への水分の浸透を防ぐ防止
層が光吸収層の両側にあり、しかも１つは基板と
光吸収層の間に形成されているので、空気中から
水分の侵入だけでなく、基板に含まれる水分の光
吸収層への拡散をも防ぐことができる。尚、熱遮
へい層は薄膜であるから、熱遮へい層に含まれる
水分の影響は極めて小さいが、必要に応じて熱遮
へい層６，６′と防止層７，７′の位置を入れかえ
て、光吸収層の直上、直下に防止層を配置するこ
とにより、その影響を完全になくすことができ
る。
層が光吸収層の両側にあり、しかも１つは基板と
光吸収層の間に形成されているので、空気中から
水分の侵入だけでなく、基板に含まれる水分の光
吸収層への拡散をも防ぐことができる。尚、熱遮
へい層は薄膜であるから、熱遮へい層に含まれる
水分の影響は極めて小さいが、必要に応じて熱遮
へい層６，６′と防止層７，７′の位置を入れかえ
て、光吸収層の直上、直下に防止層を配置するこ
とにより、その影響を完全になくすことができ
る。
以上、本発明について説明してきた。光吸収層
を被覆する形に無機材料薄膜からなる防止層を形
成することにより、光吸収層の経時変化を防ぐこ
とができる。光学的に均質でかつ透明な材料を用
いることによつて、元来の光吸収層の特性に影響
を与えることなく光学記録媒体自体の保存性を大
きく向上できる。
を被覆する形に無機材料薄膜からなる防止層を形
成することにより、光吸収層の経時変化を防ぐこ
とができる。光学的に均質でかつ透明な材料を用
いることによつて、元来の光吸収層の特性に影響
を与えることなく光学記録媒体自体の保存性を大
きく向上できる。
第１図、第２図は従来の光学記録媒体の構成を
示した断面図、第３図は本発明にかかる光学記録
媒体の構成を示した断面図である。また第４図は
光学記録媒体の記録情報誤り率の経時変化を測定
したグラフである。 図においては１は基板、２は光吸収層、３は集
束光ビーム、４は案内溝、５は保護層、６，６′
は熱遮蔽層、７，７′は無機材料薄膜からなる防
止層を示す。
示した断面図、第３図は本発明にかかる光学記録
媒体の構成を示した断面図である。また第４図は
光学記録媒体の記録情報誤り率の経時変化を測定
したグラフである。 図においては１は基板、２は光吸収層、３は集
束光ビーム、４は案内溝、５は保護層、６，６′
は熱遮蔽層、７，７′は無機材料薄膜からなる防
止層を示す。
Claims (1)
- １ 特定波長の光を吸収する光吸収層を備えた光
学記録媒体において、基板上に第１防止層と、第
１熱遮へい層と、光吸収層と、第２熱遮へい層
と、第２防止層とが順次形成された構造を備え、
前記第１防止層と第２防止層は無機材料薄膜であ
りかつ該第１防止層と該第２防止層は、前記光吸
収層に水分が浸透することを防止することを特徴
とする光学記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083484A JPS58199449A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083484A JPS58199449A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 光学記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199449A JPS58199449A (ja) | 1983-11-19 |
| JPH0555938B2 true JPH0555938B2 (ja) | 1993-08-18 |
Family
ID=13803742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57083484A Granted JPS58199449A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58199449A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62184639A (ja) * | 1986-02-07 | 1987-08-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスク |
| JPH05182242A (ja) * | 1992-01-08 | 1993-07-23 | Victor Co Of Japan Ltd | 光記録媒体 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51135649A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Canon Inc | Recording member |
| JPS54133134A (en) * | 1978-04-06 | 1979-10-16 | Canon Inc | Recording medium |
| JPS5690438A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-22 | Fujitsu Ltd | Optical recording medium |
-
1982
- 1982-05-18 JP JP57083484A patent/JPS58199449A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51135649A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Canon Inc | Recording member |
| JPS54133134A (en) * | 1978-04-06 | 1979-10-16 | Canon Inc | Recording medium |
| JPS5690438A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-22 | Fujitsu Ltd | Optical recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58199449A (ja) | 1983-11-19 |
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