JPS59217242A - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
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- JPS59217242A JPS59217242A JP58089918A JP8991883A JPS59217242A JP S59217242 A JPS59217242 A JP S59217242A JP 58089918 A JP58089918 A JP 58089918A JP 8991883 A JP8991883 A JP 8991883A JP S59217242 A JPS59217242 A JP S59217242A
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- Japan
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- recording medium
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0064—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material
- G11B23/0071—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material additional layers for lubrication or wear protection
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ光により情報の書き込み及び/又は読み
取シを行う情報記録媒体に関する。
取シを行う情報記録媒体に関する。
従来、レーザ光等の高エネルギー密度のビームを用いる
記録媒体がある。このような熱的記録媒体においては、
記録層が高い光学濃度を有し、照射される高エネルギー
密度の光ビームを吸収して、局所的女温度上昇を生じ、
物理的あるいは化学的な変化によってその光照射された
部分の光学的特性が変わることによシ情報が記録される
。
記録媒体がある。このような熱的記録媒体においては、
記録層が高い光学濃度を有し、照射される高エネルギー
密度の光ビームを吸収して、局所的女温度上昇を生じ、
物理的あるいは化学的な変化によってその光照射された
部分の光学的特性が変わることによシ情報が記録される
。
このような記録媒体は、高密度記録が可能であること、
高速で情報の書き込み読み取りができること、アクセス
タイムが短かいこと、記録の長期保存性がすぐれている
こと等の多くの利点を有する。
高速で情報の書き込み読み取りができること、アクセス
タイムが短かいこと、記録の長期保存性がすぐれている
こと等の多くの利点を有する。
一般に、このような記録媒体への記録は、起呼すべき情
報を電気的な時系列信号に変侯し、その信号に応じて強
度変調されたレーザビームでその記録媒体上を走査させ
て行うことができ、この場合にはリアルタイムで記録画
像が得られるという利点がある。
報を電気的な時系列信号に変侯し、その信号に応じて強
度変調されたレーザビームでその記録媒体上を走査させ
て行うことができ、この場合にはリアルタイムで記録画
像が得られるという利点がある。
このような記録層(ヒートモード記録層)としては、一
般に、Bi、Sn、In、Te、等の金属、半金属、又
は半導体などを、ガラスや透明プラスチック基板上に蒸
着停により薄膜として設けたものが用いられている。
般に、Bi、Sn、In、Te、等の金属、半金属、又
は半導体などを、ガラスや透明プラスチック基板上に蒸
着停により薄膜として設けたものが用いられている。
一方、製造時に情報を記録しておくタイプ、即ち再生専
用の情報記録媒体もあシ、この場合はスタンパ−等を用
いて微細な凹凸を基板に転写した後、Al、Or等の反
射率の高い皮膜を反覆する。
用の情報記録媒体もあシ、この場合はスタンパ−等を用
いて微細な凹凸を基板に転写した後、Al、Or等の反
射率の高い皮膜を反覆する。
また、これらの記録媒体の取扱中や保存中に記録層表面
に傷が生じたり、塵埃等の異物が付着し、記録や読み取
りに悪影響を与えることがあシ、このような欠点を除く
ためにサンドイッチ型(全面接着型)又はエアサンドイ
ッチ型の情報記録媒体が用いられている。
に傷が生じたり、塵埃等の異物が付着し、記録や読み取
りに悪影響を与えることがあシ、このような欠点を除く
ためにサンドイッチ型(全面接着型)又はエアサンドイ
ッチ型の情報記録媒体が用いられている。
基板の材料としては光学的特性、取扱性、コストの点か
ら通常、ポリメチルメタクリレート等のプラスチックを
用いるが、これらのプラスチックは一般的に吸湿膨張が
太きいため吸湿により変化するという欠点がある。例え
ば基板の片面に記録層を蒸着した榴造のものでは、記録
層側と反記録層側とで吸湿速度が異なるため、取扱や保
存中基板が吸湿によシ反りを生じ記録や読み取シに悪影
響を与えたり、又サンドイッチ型やエアサンドイッチ型
構造の場合には基板の吸湿による変形や透湿によシ記録
層の劣化を生ずることもある。
ら通常、ポリメチルメタクリレート等のプラスチックを
用いるが、これらのプラスチックは一般的に吸湿膨張が
太きいため吸湿により変化するという欠点がある。例え
ば基板の片面に記録層を蒸着した榴造のものでは、記録
層側と反記録層側とで吸湿速度が異なるため、取扱や保
存中基板が吸湿によシ反りを生じ記録や読み取シに悪影
響を与えたり、又サンドイッチ型やエアサンドイッチ型
構造の場合には基板の吸湿による変形や透湿によシ記録
層の劣化を生ずることもある。
従来、このような欠点を除くために、有機物質や無機物
質の保護層を基板の記録層の反対面に設けることが行わ
れている(例えば、特開昭57−50337号公報、特
開昭57−55545号公報、特開昭57−66542
号公報等)。しかしながら、従来のこのような保護層で
は十分な耐湿性を得るには到っていない。
質の保護層を基板の記録層の反対面に設けることが行わ
れている(例えば、特開昭57−50337号公報、特
開昭57−55545号公報、特開昭57−66542
号公報等)。しかしながら、従来のこのような保護層で
は十分な耐湿性を得るには到っていない。
この分野のプラスチック基板として最もよく用いられて
いるポリメチルメタクリレート基板は公知の如く吸湿、
透湿しゃすく、前記した発す」例では保護層によシ水の
透過を防止する考えで吸湿。
いるポリメチルメタクリレート基板は公知の如く吸湿、
透湿しゃすく、前記した発す」例では保護層によシ水の
透過を防止する考えで吸湿。
透湿を改良しようとしている。しかし、本発明者らは、
種々検討の結果、吸湿、透湿33.象はまず水が表面に
付着する過程から始するため、水を句着しにくくすると
言う観点から基板表面を撥水剤で処理してその水に対す
る接触角を90’以上としたところ基板の対吸湿性を著
しく改良できることを見出した。また、他のプラスチッ
ク基板に関しても同様であシ、更に、従来の保護層を設
けた場合も同様に、保り層の面を撥水剤で処理し、その
面の水に対する接触角が90°以上になるようにするこ
とによシ、保護層としての効果(耐傷性、耐酸素透過性
)に加えて耐湿性を著しく改良する“ことができた。
種々検討の結果、吸湿、透湿33.象はまず水が表面に
付着する過程から始するため、水を句着しにくくすると
言う観点から基板表面を撥水剤で処理してその水に対す
る接触角を90’以上としたところ基板の対吸湿性を著
しく改良できることを見出した。また、他のプラスチッ
ク基板に関しても同様であシ、更に、従来の保護層を設
けた場合も同様に、保り層の面を撥水剤で処理し、その
面の水に対する接触角が90°以上になるようにするこ
とによシ、保護層としての効果(耐傷性、耐酸素透過性
)に加えて耐湿性を著しく改良する“ことができた。
すなJ7ぢ、本発明は、透明プラスチック基板上にレー
ザ光により情報を書き込み及び/又は読み取りができる
4W ¥I!記録媒体において、該基板の該記録層の反
対面が、直接又は有機物質又は無機物質からなる保護層
を設けた後に、撥水剤によって水に対する接触角が90
°以上になるように撥水処理されていることを特徴とす
る情報記録媒体である。
ザ光により情報を書き込み及び/又は読み取りができる
4W ¥I!記録媒体において、該基板の該記録層の反
対面が、直接又は有機物質又は無機物質からなる保護層
を設けた後に、撥水剤によって水に対する接触角が90
°以上になるように撥水処理されていることを特徴とす
る情報記録媒体である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いられるプラスチック基板としては、ハ?リ
エチレンテレフタレート、ポリカーiネートアクリル樹
脂(ポリメチルメタクリレート等)、等の透明プラスチ
ック板又はシートが用いられるがポリメチルメタクリレ
ートが特に好ましい。
エチレンテレフタレート、ポリカーiネートアクリル樹
脂(ポリメチルメタクリレート等)、等の透明プラスチ
ック板又はシートが用いられるがポリメチルメタクリレ
ートが特に好ましい。
基板の厚さは一般にQ、 3 tnm以上、特に1.0
〜1.5關が好ましく、一般にディスク状として用いら
れる。
〜1.5關が好ましく、一般にディスク状として用いら
れる。
記録層として用いられる材料には特に制限はなく、当該
技術分野で用いられる材料、例えば’I’e。
技術分野で用いられる材料、例えば’I’e。
Zn、 In、 Sn、 Zr、 Al、 Cu、 G
a等の金属;Bi 、 As、 Sb等の生金i;Ge
、Si等の半導体やこれらの合金又は組み合わせとして
用いられる。
a等の金属;Bi 、 As、 Sb等の生金i;Ge
、Si等の半導体やこれらの合金又は組み合わせとして
用いられる。
上記の基板上にこれらの材料によって記録層を設けるに
は、蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等が
用いられ、光情報記録に必要な光学濃度として600λ
〜1500人の厚さとするのが適当である。
は、蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等が
用いられ、光情報記録に必要な光学濃度として600λ
〜1500人の厚さとするのが適当である。
さらにまた、基板面にスタンパ−等を用いて情報を微細
な凹凸としてあらかじめ転写し、これにAl、Or等の
金属の皮膜を設けた、いわゆる反射型記録層であっても
よい。
な凹凸としてあらかじめ転写し、これにAl、Or等の
金属の皮膜を設けた、いわゆる反射型記録層であっても
よい。
本発明においては、このような基板の記録層の反対面に
以下に述べる如き撥水処理を施こすか、或は該基板面に
保咳層が設けられている場合にはその保護層の面に撥水
処理を施す。(本発明で、「該基板の該記録層の反対面
が、直接又は保護層を設けた後に撥水処理されている」
なる表現は上記の如き態様を意味している。) 本発明て用いられる撥水剤としては、プラスチック基板
面に強固に塗着し、その表面の水に対する接触角を90
°以上にし得る材料であれば何れも使用できるが、例え
ば、高級脂肪族カルヂン酸(Ctt〜C21)及びその
エステル類、アミド類、金属塩類;リン酸の芳香族又は
脂肪族エステル類(/IHc長鎖7 ルキ/l/ z
、Xチル) ; S (CH20H2’jOOQ z(
Rはアルキル基又はフェニル基)で表わされる硫黄化合
物等が好ましい。具体例としては、0B3H2,C0O
H、Cll−13(CHg)zo Coon−CgH,
。
以下に述べる如き撥水処理を施こすか、或は該基板面に
保咳層が設けられている場合にはその保護層の面に撥水
処理を施す。(本発明で、「該基板の該記録層の反対面
が、直接又は保護層を設けた後に撥水処理されている」
なる表現は上記の如き態様を意味している。) 本発明て用いられる撥水剤としては、プラスチック基板
面に強固に塗着し、その表面の水に対する接触角を90
°以上にし得る材料であれば何れも使用できるが、例え
ば、高級脂肪族カルヂン酸(Ctt〜C21)及びその
エステル類、アミド類、金属塩類;リン酸の芳香族又は
脂肪族エステル類(/IHc長鎖7 ルキ/l/ z
、Xチル) ; S (CH20H2’jOOQ z(
Rはアルキル基又はフェニル基)で表わされる硫黄化合
物等が好ましい。具体例としては、0B3H2,C0O
H、Cll−13(CHg)zo Coon−CgH,
。
CH3(CH2) 、。GOOn−C4H,、、S (
OH20H2CooCI2H2゜CI 4 H490G
OG Hg G H2’CO2C14H29、(Q
1B )(3,o) 、p ==Q等がある。
OH20H2CooCI2H2゜CI 4 H490G
OG Hg G H2’CO2C14H29、(Q
1B )(3,o) 、p ==Q等がある。
撥水処理方法としては、上記の撥水剤をメチルエチルケ
トン等の適当な溶剤に溶解し、スピンコード、ディップ
コート等で基板表面に塗布乾燥する。塗布厚には特に限
定は、なく、例えば、単分子層でも効果を発揮すること
ができ、基板と撥水剤の種類によって適宜選択する。
トン等の適当な溶剤に溶解し、スピンコード、ディップ
コート等で基板表面に塗布乾燥する。塗布厚には特に限
定は、なく、例えば、単分子層でも効果を発揮すること
ができ、基板と撥水剤の種類によって適宜選択する。
又、木兄WJでは、撥水剤としてフッ化オレフィン、フ
ッ化アルキル(メタ)アクリロニトリルいた場合、撥水
処理方法としてプラズマ重合法、表面グラフト法を用い
る事によりその表面の水に対する接触角を90°以上に
する事ができ同様な耐湿性を示す。
ッ化アルキル(メタ)アクリロニトリルいた場合、撥水
処理方法としてプラズマ重合法、表面グラフト法を用い
る事によりその表面の水に対する接触角を90°以上に
する事ができ同様な耐湿性を示す。
本発明では、基板に保護層を設けることができ、この場
合には保護層の面に上記と同様に撥水処理を施す。
合には保護層の面に上記と同様に撥水処理を施す。
本発明で用いる保護層としては有機物質からなる層であ
っても無機物質からなる層であってもよ)が八。
っても無機物質からなる層であってもよ)が八。
保護層として用いられる有機物質としては、ポリアクリ
ロニトリル、ボ゛す塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、酢酸ビ
ニル−塩化ビニル共重合体等の種々のポリマーが用いら
れる。これらの材料は適当な溶剤に溶解し、スピンコー
ド、ディップコート、エクストル−・クヨンコート等の
塗布方法により塗布し、乾燥する。
ロニトリル、ボ゛す塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、酢酸ビ
ニル−塩化ビニル共重合体等の種々のポリマーが用いら
れる。これらの材料は適当な溶剤に溶解し、スピンコー
ド、ディップコート、エクストル−・クヨンコート等の
塗布方法により塗布し、乾燥する。
膜厚としては、0.01〜.10μ程度が適当である。
まだ、無機物質としては、5in2.Sin。
Al2O3,SnO2,In2O,、等の酸化物や、C
eF3゜ThF4.BiF3.MgF、等のフッ化物力
後1ましく、蒸着やスパッタリング等によって保諏層と
して設けられる。この場合も層厚は、o、oi〜10μ
程度が適当である。
eF3゜ThF4.BiF3.MgF、等のフッ化物力
後1ましく、蒸着やスパッタリング等によって保諏層と
して設けられる。この場合も層厚は、o、oi〜10μ
程度が適当である。
このような保護層を設けた後、上記したように該保両層
の面に撥水処理を施こす。
の面に撥水処理を施こす。
本発明は単板型の光情報記録媒体にも、サンドイッチ型
又は、エアサンドインチ型の光情報記録媒体にも適用で
きる。
又は、エアサンドインチ型の光情報記録媒体にも適用で
きる。
本発明は上記のように光情報記録媒体のプラスチック基
板に撥水処理が施されているので、基板面への水分の付
着が防止され、基板の吸湿による変形を有効に防止する
ことができ、また、基板面に保護層を設け、該保獲層面
に撥水処理を施すことによシ、耐傷性、耐酸素透過性と
共に対吸湿性の優れた記録媒体を得ることができる。
板に撥水処理が施されているので、基板面への水分の付
着が防止され、基板の吸湿による変形を有効に防止する
ことができ、また、基板面に保護層を設け、該保獲層面
に撥水処理を施すことによシ、耐傷性、耐酸素透過性と
共に対吸湿性の優れた記録媒体を得ることができる。
実施例
ポリメチルメタクリレートを用い射出成型によって外径
300mg、内径65間、厚さ1.5間のディスク状基
板2板を成型し、各基板の片面に5in2をスパッタリ
ングによシ厚さ1000人の層として設けた。次いで、
この上にミリスチン酸の1qbメチルエチルケトン溶液
をスピンコードにヨリ10001:p、m、の速度で6
0秒間塗布し乾燥した。
300mg、内径65間、厚さ1.5間のディスク状基
板2板を成型し、各基板の片面に5in2をスパッタリ
ングによシ厚さ1000人の層として設けた。次いで、
この上にミリスチン酸の1qbメチルエチルケトン溶液
をスピンコードにヨリ10001:p、m、の速度で6
0秒間塗布し乾燥した。
次いで、各基板の反対面にTet’300Aの厚さに蒸
着して記録層を設け、両基板を記録層を内側にスペーサ
を介してエアサンドイッチ構造に組み立て、耐吸湿性、
耐傷性、耐酸素透過性に曖れ、長期保存性に優れた光デ
ィスクを得ることができた。
着して記録層を設け、両基板を記録層を内側にスペーサ
を介してエアサンドイッチ構造に組み立て、耐吸湿性、
耐傷性、耐酸素透過性に曖れ、長期保存性に優れた光デ
ィスクを得ることができた。
手続補正書
昭和58年z月ユク日
昭和58年特許願第89918 シ」2、発明の名
称 情報記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 (520) 冨士写真フィルム株式会社1)明
細書第4頁下から2行目、「対吸湿性」を「耐湿性」と
補正する。
称 情報記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 (520) 冨士写真フィルム株式会社1)明
細書第4頁下から2行目、「対吸湿性」を「耐湿性」と
補正する。
2)同 第1o頁2行目、「対吸湿性」を「1酬湿性」
と補正する。
と補正する。
6)同 第10頁16行目、「耐吸湿性」を「耐湿性」
と補正する。
と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)透明プラスチック基板上にレーザ光によシ情報を書
き込み及び/又は読み取シができる情報記録媒体におい
て、該基板の該記録層の反対面が、直接又は保獲層を設
けた後に、撥水剤によって水に対する接触角が90°以
上になるように撥水処理されていることを特徴とする情
報記録媒体。 2)保獲層が有機物質からなる特許請求の範囲第1項に
記載の情報記録媒体。 6)保護層が無機物質からなる特許請求の範囲第1項に
記載の情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58089918A JPS59217242A (ja) | 1983-05-24 | 1983-05-24 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58089918A JPS59217242A (ja) | 1983-05-24 | 1983-05-24 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59217242A true JPS59217242A (ja) | 1984-12-07 |
Family
ID=13984081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58089918A Pending JPS59217242A (ja) | 1983-05-24 | 1983-05-24 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59217242A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02162547A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 光ディスクの製造方法 |
JPH0312836A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-21 | Nec Home Electron Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
-
1983
- 1983-05-24 JP JP58089918A patent/JPS59217242A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02162547A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 光ディスクの製造方法 |
JPH0312836A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-21 | Nec Home Electron Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
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