JPS5877032A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体に関し、特定の有機物質を磁性層
上に吸着させることにより、磁性層表面の改質を行い、
特性的には表面の濡れ性変化を得、さらに撥水性を大幅
に付与己て、磁性層の耐食性を良くシ、さらには磁気記
録媒体の走行時の摩擦抵抗を低下させようとするもので
ある。

真空蒸着またはメッキ法で作製した！脱型の金属磁気記
録媒体は高密度性に優れているといわれている。特に近
年はオーディオ録音用やビデオ録画用としての用途が期
待されており、小型録音テープ用として、グラステック
ス基板上に真空蒸着によって、コバルト主成分合金の薄
膜を形成したものは実用化の域に入り、市販されるよう
になり乍。しかし、一般的には強磁性金属は腐食し易く
、金属の皮膜・ｓ１０′等のクラ′伏の皮膜を形成する
等の方法が採用されている。しかし、これらの方法にお
いては、まず磁性層の合金化の場合、磁気特性の観点か
らは、耐食性の良い合金が必らずしも良いとは言えない
のが普通である。一方、腐食防止という点では磁性層上
に耐食性のある皮膜を形成することは効果があるが、し
かし電磁変換特性の観点から、耐食性皮膜があまり厚い
と出力の低下を招き、好ま゛しいとは言えない。皮膜層
の厚さの許容範囲は高々５００人でやり、好ましくは２
００人程度である。この程度の膜厚を持つ耐・　食性皮
膜を安定にしかも量産性良く形成することは、非常な困
難を伴う。また、膜が形成されたと防ぐことは１難であ
る。本発明では従来の困難さを避ける目的で、磁性膜中
に酸素を含むコバルトおよびコバルト合金を主成分とす
る金属薄膜型磁５　記録媒体上吟ハーフルオロアルヤル
カルボン酸（ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＯＯＨ）もしくはバー：
フルオ’　ｏ　ｆ　ルー５　’／Ｌ。

スルホンｅ　（ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯｇＨ）　　のアンモ
ニウム塩または金属塩を化学吸着させて、十分な耐食性
および潤滑性を得るものである。

以下に本発明の磁気記録媒体について詳述する。

本発明においては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
アミドなどの高分子フィルム上に形成した酸素を含むコ
バルトもしくはコバルト’を主成分とする合金、いわゆ
るＣ０−０合金、およびＧ。

−Ｎｉ−０′合金、Ｇｏ　−Ｎｉ−’Ｏｒ−０合金、ｃ
。

−Ｎ＝−ｃｕ−で　合金、Ｃｉ：＋　−Ｆａ　−０合金
、　Ｇ。

−Ｆｅ−ｃｒ−ｏ　　合金、ｃｒ−Ｔｉ　−、ｏ合金、
ｃ。

−Ｎｉ、−Ｖ−０合金、Ｇｏ　−Ｎｉ　−Ｍｎ　−’Ｏ
合金、Ｇｏ　−Ｐｄ−で合金、Ｇｏ　−Ｒｈ　−０合金
、ｃｏ−ｗ−■合金、Ｇｏ−Ｍｏ−０合金、Ｇｏ−Ｎｂ
−０合金’ｃｏ−Ｒ−０合金（Ｆｔ＝Ｌａ、　Ｃｅ、　
Ｇｄ、　Ｓｍ　　等の希土類元素）などのコバルト’に
主成分とし、副成分としテＮｉ、　Ｆｅ、　Ｏｒ、Ｔｉ
、Ｖ　、Ｍｎ；Ｃｕ。

Ｐｄ　、　Ｒｈ　、　Ｗ　、　Ｎｂ　、　Ｍｏ　、　　
希土類元素、Ａｌ。

Ｓｉ　、　Ｂ−、Ｐ　などを含み、さらに、薄膜作成工
程中で蒸着膜中に取込まれる酸素を含む合金より形成さ
れて、いる強磁性薄膜で、しかも結晶構造が六　・方稠
密構造または六方稠密構造に幾分かの体心立方構造９而
心立方構造など六方稠密構造とは全く形態の異なる構造
が混じっているものの５表面上にパーフルオロアル干ル
ヵルボン酸、モシクハハーフルオロアル千ルスルホン酸
のアンモニウム塩かあるいは金属塩を化学吸着させる。

金属薄膜型磁気記録媒体の特性は残留磁束密度と抗磁力
で記述できる。残留磁束密度Ｂｒを大きくするためには
まず、飽和磁束密度Ｂｓの大きな材料を選択し、更に角
形比（Ｂｒ／Ｂｓ　）を大きくする工夫が必要である。

抗磁力を大きくするためには磁気異方性エネルギーを大
きくすることが求められる。これらの問題点を克服する
ために、種々の強磁性薄膜形成技術が開発されている。

たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティンダ法、電気化学的メッキ法などである。

その中でも工業的に大面積の媒体を容易に形成で　−き
るのは真空蒸着法である。真空蒸着法でも種々の実施態
様があるが、前記の問題点を克服するのに有望なのは斜
方入射蒸着法と酸素導入効果である。真空蒸着で酸素導
入効果を調べると、磁性膜中に自動的に酸素が取込まれ
る。同様なことはスパッタリング法やイオンプレーテ、
インク法でも期待されるが、メッキ法では自然に酸化さ
れることを除いて、酸素を膜中に取込むのにはなんらか
の特別な工夫が必要となる。したがって、本発明におい
ては工業的な生産性を考慮して、主に真空蒸着法で作製
した磁性膜を処理した場合について述べるが、他の成膜
方法による磁気記録媒体に対して処理を行った場合にも
、膜の性質が類似であれば、当然同様の結果が得られる
ものである。　　　、斜方入射蒸着法は蒸発原子の基板
への入射方向全制御することによって蒸着膜の結晶成長
を制°御する方式であり、一方、酸素ガス蒸着は蒸発原
子と酸素ガスの化学反応を用いて、蒸着膜？結晶成ば、
磁気異カ性、エネルギーを大きくすることかで的である
。磁だ異方性エネルギーを大きくするもうひとつの方法
は、結晶自体が保、持する結晶磁気異方性エネルギーを
有効に利用することである。

そのためには結晶磁気異方性定数の大きな材料を選択す
ることが重要である。結晶磁気異方性の大きな金頑磁性
材料としては、六方格子を持つ一軸異方性を有するもの
が知られている。代表的なものとしては六方稠密構造の
コバルト、および同じ結晶構造を有するコバルト合金が
ある。副成分の種類にもよるが、一般的には、コバルト
に対する副成分の割合が約２０％以下の時に六方稠密構
造を形成する。副成分の割合が大きくなると遷移領域が
あり、さらに体心立方格子や面心立方格子に転移する。

体心立方格子や面心立方格子のコバルト合金は、六方稠
密構造を有するものに比べて、結晶磁気異方性がおおよ
そ１桁小さく、大きな異方性、すなわち高い抗磁力を得
ることはできない。

一方、酸素が磁性層中に含まれていることの意味は以下
に述べる耐−食性改善ということにある。

金属薄膜型磁気記録媒体は酸化物塗布系の磁気記録媒体
と異なり、本質的に腐食するという点がある。腐食の種
類にも種々のものが考えられるがその中でも最も顕著な
ものが酸化によるものである。

耐腐食性を向上させる方法としては不動態を形成しやす
いような金属を合金にするととが有効な場合が多いが、
一般的に言って強固な不動態全形成する領域まで合金元
素を添加していくと磁気特性の劣化を伴うことがしばし
ばである。また、強固な不働態ｉはその膜厚がミクロン
のオーダーになるといわれており、磁気記録媒体自体の
膜厚が、本発明のような金属薄膜の場合社々０，３μｍ
程度であるので、強固な不動態層の膜厚が、：磁性膜の
ｌＩσ厚以上になってしまわないとも限らないので、不
都合である。

さて磁気特性と不働態形成という点を考えて見ると、多
くの場竺、本発明に関係するコバルトまたはコバルト合
金薄膜に不働態を形成する元素を添加していくと、コバ
ルトの六方稠密構造から他の面心立方格子や体心立方格
子へ相変態するのが常である。変態後は前述の如く結晶
磁気異方性が゛低下するので、゛良好な磁気特性が得ら
れなくなる。

そこで、コバルトまだはコバルト主体合金の場合。

金属または合金薄膜の六方品格子を破壊しないで耐酸化
性を改良する必要がある。そのためには金属薄膜の表面
付近にきわめて安定でかつ緻密な不働態の役目をする酸
化物層を形成することが有効である。具体的にはまず、
真空蒸着など前述の薄膜形成手段を用いて金属磁性層を
形成したあと、さらに酸素中で同じ組成の層を真空蒸着
やスパッタリングなどの方法で形成すれば良い。また、
プラズマ酸化法なども有効な手段である。しかし、これ
らの方法は実施の手順が繁雑であり、でき得れば、一度
に酸化皮膜が形成されれば息い。このアイデアを実現す
るためには、酸素分圧が蒸着始めから終り近ずくにつれ
て大きくなるように、装置の制御システムをプログラム
して真空蒸着すれば良い。こうすれば、膜厚方向に酸素
濃度全変化させることが可能である。

一方、前記のような酸素濃度勾配をつけなくて一様に酸
素が分布するようにしても、幾分かは表面に酸化物が形
成されて効果的なわけである。も、ワともコバルトおよ
びコバルト合金では、その酸化物が非強磁性となるので
、膜中に酸化物が一様に分布すれば、磁気特性的には好
ましくないことになる。しかし、磁性膜内の酸化に対す
るボテンシアルの変化するという効果も考えられるので
、耐食性の観点からは一概に悪いとも言えない。

まだ、特開昭５３−５８２Ｑ６号公報に開示されている
ような場合も考えられる。すなわち、前記公開公報によ
れば、磁性膜が柱状結晶の集合体であり、かつその柱状
結晶の表面が、磁性体金属まだは合金の酸化物で覆われ
ていることを特徴としている。このような場合におりて
も、平均的には酸素が磁性膜中に取り込まれた状態にあ
り、本発明の対象としている酸素を含むコバルトおよび
コバルト合金薄膜と同一と考えられる。また１本発明の
実施例中で示される磁性膜林前記公開公報記載の磁性薄
膜とほぼ同等のものである。

以上のように、酸素を含むコ具ルトまたはコバルト合金
磁性薄膜は酸素を含まない磁性薄膜よりも耐食性に優れ
ていることが期待される。

実験的にもこのことは確認されておシ、酸素導入真空蒸
着膜と、無酸素の通常の真空蒸着膜とでは、第１表に示
すような差が生じている。

（以下余白） 第１表かられかるように酸素中で作製された磁性膜も、
実用的な環境では耐食性の点でがならずしも満足ヤきる
ものではない。そこで本発明では酸素中で蒸着されたコ
バルト上やコバルト合金上に、さらに耐食性に有効な材
料であるところのパーフルオロアルキルカルボン酸のア
ンモニウム塩モＬ　＜ハ金属塩、’ｚ　タハハーフルオ
ロアル千ルスルホン酸のアンモニウム塩もしくは金属塩
を吸着さ２せて、さらに高度な耐食性を仰ん表するもの
であり、かつ前記フッ素化した化合物の特徴である低表
面エネルギー性を利用して、磁気記録媒体の走行時の摩
擦力の低減を行おうとするものである。

バーレルオロアルキルヵルボン酸ハ通常の脂肪酸ＣｎＨ
２ｎ＋＋Ｃ０ＯＨのアルキル基の水素を全てフッもノテ
ＣｎＦ２ｎ＋’Ｉ　Ｃ０ＯＨテ表わされる。

同様にパーアルキルスルホン酸ハＣｎＦ２ｎ＋＋５Ｏｓ
Ｈ１で表わされる・化学的性質は通蘂の炭化水素鎖カル
ボン酸およびスルホン酸と良く似ているが、フッ素化さ
れているので、フッ素の特徴である、電気陰性度が大き
いことと、原子半径が水素より少し大きいことにより、
溶媒への可溶性などに多少の変化が生じる。　　　　　
　　　　　　−金属塩となる金属はフルオロカルボン酸
あるいはフルオロスルホン酸と反応上て堪ヲ形成するも
のであるならば特に制約はないが、特に吸着゛させる相
手の磁性層がコバルトなどの遷移金属であるので塩を形
成する金属は性質の似かよっだ遷移金属が良い。耐食性
′の優れたクロム、マンガン、鉄。

コバルト、ニッケル、銅などはその中でも好゛ましい金
属である。

パーフルオロアルキルカルボン酸もしくはスルホン酸の
アンモニウム塩あるいは金属塩は水あるいは有機溶媒中
に溶かすか、あるいは分散させておき、磁性−薄膜上に
塗布するか、液中に浸漬することによって吸着反応を行
わせ→る。アルキル基の数が多くなると徐々に水に対す
る溶解度が低下するが、磁性膜と反応して吸着する分子
の数はそれ程多くないので、有効成分°は微量含まれて
いれば十分である。反応後溶媒は熱風乾燥して取り除く
。上記処理を施すことにより磁性膜の表面は改質される
が、その一番顕著なものは、水に対する接触角の増大で
ある。処理を施さない薄膜の接触角は４００〜ｅ　ｏＯ
であるが、本発明による処理を行うと、アー千二基の炭
素数が少ないもので６０：以上、炭幸数が多いものでは
９ｏｏ以上に′なって、著しい撥水性の発現が可能であ
る。本効果が生じる原因として考えられることは、カル
ボン酸のカルボ千シル°基あるいはスルホン酸基が薄−
膜と反応し、分子鎖？反対側のアルキル基（−ＣｎＦ２
ｎ＋　１）が外向きに配向するために疎水性が生じると
考えられる。注目すべきことはアルキル基の水素がフッ
素で置換されていることであり、これはポリテトラフル
オロエチレン（ＰＴＦＥ）の例で見られる如く反応性が
少ないことから疎水性が通常の−ＣｎＨ２ｎ＋１　　基
より大きくなっている。

まだＰＴＦＥではその疎水性のゆえ潤滑性が優れている
が、本発明において用いるパーフルオロアルキルカルボ
ン酸するいはパーフルオロアルキルスルホン酸において
もアルキル基の炭素数が多くなるにつれて摩擦係数の減
少が見られた。ここでさらに注目すべきことはアルキル
基が水素からフッ素に置換されているために、アルキル
基の炭素数が８個程度でも通常の水素を持つステアリン
酸（’Ｃ１７Ｈ３ｓｃ００Ｈ）と曙の撥水性と潤滑性が
得られる。また炭素数が少ないだめに金属塩が水に可溶
であって、水素を持つステアリン酸の金属塩のよ、　　
うに金属石鹸となって水に不溶ではないので、水溶液と
して磁性薄膜と反応させられるという重要な特徴がある
。以下に実施例を示し、本発明による処理の効果を記す
。

τ：：Ｊ：　厚のポリエテレンテレフタレートフィール
ム上にコバルト膜を酸素中真空蒸着法で形成し、その磁
性膜上にパーフルオロアルキルカルボン酸コバルト塩、
ニッケル塩、ア゛ンモニウム塩を吸着−１− 磁性膜の作製条件　　− “’　、：（１１組成　　コバルト（１００％）′”（
２）基板　　１２μｍ厚ポリエチレンテレフタレート （３）蒸着膜ビード　１０００人／秒 （４）蒸気入射角　６５゜ （６）雰囲気　　バックグラウンド真空度　５ｘ１ｏ−
”ｒｏｒｒ　　　、゛酸素導入量　　　ｌＸ１０　　’
ｒｏ、ｒｒ（６）膜厚　　１５００人 吸着層の処理条件　　　　　　。

（１）組成Ａ　　ペンタデカフルオロオクタン酸コノ（
ルト塩濃度　（ａ）１ミリモル／ｌ（水） （ｂｌ　　Ｏ０５ミリモル／ｌ（水） （Ｃ）　０．１　ミリモル／ｌ（水） （２）組成り　　ペンタデカフルオロオクタン酸ニック
ル塩濃度　（２Ｌ）１ミリモル／ｌｃ水） （ｂｌ　　ｃ）、ｅｓミリモル／７！（水）（Ｃ１Ｏ，
１ミリモル／ｌｃ水） （３）組成Ｃペンタデカフルオロオクタン酸アンモニウ
、〜盆濃度　（ａ）１ミリモル／ｌ（水） （ｂ）　　０．６ミリモル／７１（水）（Ｃ）　０．１
ミリモル／／！（尿） ここで、濃度を表わすミリモル／ｌという値はオロアル
千ルスルホン酸に換算しての値を示しており、塩に対す
るモル数を示していない。

上記実施例中で用いられそ蒸着膜中の竺素濃度は平均的
には５原子％程度であるが、表面、付近には平均値より
酸素濃度が大きくな・て゛いる゛。　　″以下に環境試
験の結果とｊス、テンレス！ｊｉ（ＳＵ”５３０４）に
対する動摩擦係数、の大、きさを−示ヂ。環境試験は、
温度６ｏ”Ｃ，’、相対湿度９０％の雰囲気中で、被検
サンプルをスライドガラス上に両面接着テープで接着し
、さらに、恒温恒湿層中の熱風第２表にその結果を示す
。第２表には表面エネルギーの変化を知る目的で、水に
対する接触角の値もあわせて示している０ （以下余白ン 第２表 第２表から明らかなように、本実施例に示す処されてい
ることがわかる。しかし、フルオロカルボン酸塩の対イ
オンによって耐食性に幾分かの差が生じていることも理
解できる。また潤滑性の付与も可能であって対果がある
ことがわかる。

実施例２ １２μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に
コバルト膜を酸素中真空蒸着法で形成し、その磁性膜上
にヘプタデカフルオロアルモルスルホン酸（０８Ｆ１７
ｓ０３Ｈ）のコバルト塩、ニラクル塩およびアンモニウ
ム塩を吸着させた。蒸着膜の作製条件は以Ｆのとおりで
ある。

（１）組成　　　　コバルト　（１００％）（２）基板
　　　　　　１２μｍ　ポリエチレンテレフタレート（
３）蒸着スピード　１０００人／秒 （４）蒸気入射角　６６°　　・ ６ −（６）雰囲気　　　　　バックグラウンド真空度　６
×１σＴｏｒｒ酸素導入量　　　　ｌＸ１ｐ　　’ｒｏ
ｒｒ（６）膜厚　　　　１５００人 蒸着膜については実施例１で用いたのと同一ロットより
選んだ。

吸着層の処理条件 （１）’＋１１１成Ａ　　　ヘブタテカフルオロアル千
ル刃叶ン酸コバルト塩濃度　（ａ）１ミリモル／ｌ（水
） （ｂｌ　　ｏ、ｓミリモル／ｌ（水） （ｃｌ’ｏ、１　ミリモル／ｌ（水） （２１ｍ　成り　　　ヘフタテ加ルオロアノ晴ルスルホ
ン酸ニッケル塩濃度　（＆）１ミリモル／ｌ（水） ｆｂｌ　　Ｏ，５ミリモル／ｌ（水） （ｃ）　０．１ミリモル／ｌ（水） （３）ｍ　成Ｃヘブタテカフノリｔロアノｌ−’Ｆ、ル
スルホン酸アンモニウム塩濃度　（ａ）１ミリモル／ｌ
（水） （ｂｌ　　ｏ、ｔｓミリモル／Ｉｃ水）（Ｃ）　０．１
ミリモル／Ｉｃ水） 実施例１と同様の摩擦係数の測定と、温度６０℃、相対
湿度９０％に卦ける環境試験の結果を第３表に示す。

第３表 第３表から明らかなように、ヘプタデカフルオロスルホ
ン酸の金属塩とアンモニウム塩の酸素含有コバルト薄膜
への耐食性付与効果があることがわかるが、対イオンの
種類によって効果が異なり、金属イオンの方が著しい効
果を示す。

、　実施例３ １２μｍ厚のポ、リエチレンテレフタレートフィルム上
ニコバルト（８５％）−ニッケル（１６％）の薄膜を酸
素中真空蒸着法で形成し、その磁性膜上にパーフルオロ
アルモルヵルボン酸（炭素数８：ペンタデカフルオロオ
クタン酸、な−ラびに炭素数１０＝ノナデカフルオロデ
カン巖）のコバルト塩豐ニンクル塩ならびにアンモニウ
ム塩、パーフルオロアル斥ルスルホン酸（炭素数８．ヘ
プタデカフルオロスルホン酸なラヒに工４コサフルオロ
スルホン酸）のコバルト塩、二２クル塩ならびにアンモ
ニウム塩を吸着させた。

本実施例テハハーフルオロアルキルヵルボン酸オヨヒパ
ーフルオロアル千ルスルホン酸の濃度を組成を第４表に
示す。

２３ 蒸着膜としては次の条件で作製したものを用いた。

（１）ＭＬ、成　　　　　　コバルト（８６％）−ニラ
クル（１６％）：：：：：＝−’、、−、’、−、、：
二二二”１／＞ｆＬ／’７ｊ１１／”゛（４）蒸気入射
角　７？０ ’１．（６１雰囲気　　　　バンクグラウンド亥空度　
５Ｘ１０　　ＴＯｒｒｌｘｌｏ−”ｒｏｒｒ （６）膜厚　　　　１８００人　　　　・−ヒ記処理液
によりそコバルト、−ンクル酸素合金磁性薄膜を処理し
、実施例１七同様の環境試験と摩擦係数の測定を行なっ
た。本実施例では環境試験に温度４０℃、相対湿度９０
％の項目も追加して効果を調べたが、処理による効果は
十分確認できた。結果を第５表に示す。本発明によれば
十分実用性のある媒体を作製することができ°る。

Ｃ以下金白２　　″ 実施例４ ２６μｍ厚のポリイミドフィルム上にコバルト（９０％
）−クロム（１０％）の合金薄膜を酸素中真空蒸着法で
形成し、その磁性膜上にパーフルオロアル千ルカルボン
酸（炭素数８：ペンタデカフルオロオクタン酸、および
炭素数１０二ノナデカフルオロデカン酸）のコバルト（
５０％）−クロム（５０％）塩およびアンモニウム塩を
吸着させた。蒸着膜の作製条件は以下のようである。

（１）組成　　　　　　コバルト（９０％）−クロム（
１０％）（２）基板　　　　２５μｍ厚ポリイミド（３
）蒸着スピード　１０００人／秒 （４）蒸気入射角　６６゜ （＠雰囲気　　　　　バックグラウンドｇ　　５ｘｉｏ
　　Ｔｏｒｒ酸素導入量　　　　ｌＸ１０＝ＴＯｒｒ（
６）膜厚　　　　１’６００人 吸着層の処理条件 ＋１）ｆｆｉ成Ａ　　　バックデカフルオロオクタン酸
中コノ９レト−クロム塩コノ切／ト：クロム＝１：１ 濃度　０．５ミリモル／ｌ（水） ＋２］ｍ成り　　　　ノナテカフルオ喰ン酸コノ９レト
ークロ４゛　濃度　０．５ミリモル／ｌ（水）−＋３１
　Ｍ　成Ｃペンタデカフルオロオクタ′／：酸アンモニ
ウム塩濃度　０．６ミリモル／ｌ（水） 前記実施例と同様の摩擦係数の測定生、温度６０℃、相
対湿度９０％における環境試験の結果を第６表に示す０
　　　　　　　　　　　　　　゛第６表　　− コバルト、クロム合金はもともと耐食性が良好な合金で
あるが、それでも十分な耐食性を有しているとは言い難
い。本発明による処理をすると。

実用に十分な耐食性が得られる。

実施例５ １２μｍ〜のポリエチレンテレフタレートフ、イルム上
ニコバル）　（８ｏ％）−ニソクル（２０％）膜を酸素
中真空蒸着法で形成し、その磁性膜上に一パーフルオロ
チル守ルカルボン酸の金属塩モジくは讐ンモ閂つム塩の
炭素数の異な−るものを２種以上の混合物を吸着させた
。本実施移りでは溶媒として水取りに、磁性面への濡れ
性を改善する目的で極性の有機溶剤を添加した。磁性膜
としては実施例３で用いたものと同一条件で作製したも
のでろ（以下余白）　　１、 第７表 ゲタフルオロ酪酸（ＣｘＦ７ＣＯＯＨ）の金属塩やアン
モニウム塩の働きは磁性面上への炭素数の多いフルオロ
カーボ′ンの吸着を助けることである。撥水性には主に
炭素数、の多い分子が寄与するものと考えられる。第８
表に前記実施例と同様の評価結果を示す。　　　　　　
　　　　　　− 第８表 以上のように本発明による処理を酸素雰囲気中で真空蒸
着したコバルトまだはコバルトを主成分とする合金の強
磁性薄膜に処理すると耐食性の向上および摩擦力低減に
効果があることがわかる。

真空蒸着法で得られる磁性薄膜はビデ牙テープ用として
は非常に大きな用途をもち、本発明も磁気テープの信頼
性向上に有効である。なお実施例中では合金薄膜材料と
して、酸素中真空蒸着で作製シタコバルト、コバルト・
ニック；”　合金＊コバルト・クロム合金について述べ
たが、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ■評□□−１−一□− 合金、　Ｇｏ　−Ｎｉ　−Ｆｅ　−０合金、Ｇｏ−Ｆｅ
−Ｃｒ　−０合金、ｃｏ−Ｎｉ−Ｖ　−０合金、　Ｇｏ
　−Ｎｉ　−ｋｎ−〇合金、Ｃｏ　−Ｐｄ−０合金、ｃ
ｏ−Ｒｈ−０合金。

Ｇｏ−Ｗ−０合金、Ｇｏ　−Ｍｏ−０合金、Ｇｏ−Ｎｂ
−〇合金、Ｇｏ−Ｒ−０合金（Ｒ−希土類元素Ｌａ　、
　Ｃｅ　、　Ｇｄ　、　Ｓｎ　　等）などのコバルトを
主成分として、従成分とし、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍ
ｎ。

Ｃｕ　、　Ｐｄ　、　Ｒｈ　、　Ｗ　、　Ｗｂ　、　Ｍ
ｏ　、’希土類元素、Ａｄ、Ｓｉ、Ｂ、Ｐなどを含む合
金薄膜でも同様の効果を確認している。まだこれ以外の
コバルトヲギ成分とする酸素含有合金薄膜でも同様の効
果を１！することかできる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基板上に形成された酸素を含むコバルト金属また
   はコバルトを主成分とする合金の強磁性薄膜の表面に少
   なくともパーフルオロアル千ルカルボン酸のアンモニウ
   ム塩もしくは金属塩、また゛ハハーフルオロアル千ルス
   ルホン酸のアンモニウム塩、または金属塩を吸着させた
   こ七ヲ特徴とする磁気記録媒体０