JPS5872945A - アライメントマ−ク検出方法 - Google Patents
アライメントマ−ク検出方法Info
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- JPS5872945A JPS5872945A JP56172456A JP17245681A JPS5872945A JP S5872945 A JPS5872945 A JP S5872945A JP 56172456 A JP56172456 A JP 56172456A JP 17245681 A JP17245681 A JP 17245681A JP S5872945 A JPS5872945 A JP S5872945A
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- mask
- pulse
- wafer
- pulse width
- marks
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7073—Alignment marks and their environment
- G03F9/7076—Mark details, e.g. phase grating mark, temporary mark
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザービーム等でマスクとウエノ・−のア
ライメントマーク上を走査してこれらのイータからの信
号を検出し、マスクとウェハーとの位置合せを行う方法
に関するものである。
ライメントマーク上を走査してこれらのイータからの信
号を検出し、マスクとウェハーとの位置合せを行う方法
に関するものである。
従来から仁の種の方法では、マスクとウェハーのアライ
メントマーク上をレーザビーム等で走査し、これらの散
乱光な充電変換して電気的パルスに変え、このパルス位
置をカウンタ等で計測して位置合せなすることが広く行
なわれている。例えば第１図（１１）に示すようなアラ
イメントマークＭをマスクに、伽）に示すような１−り
Ｗをウェハーに描いて、第２図に示すような一構成の装
置によりマスク１とウェハー２のアライメントマーりＭ
、Ｗ上をレーザビームＬで、走査し、第１図（Ｃ）に示
す状態にマスク１とウェハー２の相対的な位置合せが行
なわれる。この場合第２図のステージ３上に載置された
ウェハー２は、位置合せ実施前は例えば第１図（ｄ）
Ｉｎ示すようにマスク１（二対して変位しているのが通
常である。この状態に於いて第２図１＝示すポリゴンイ
ラー等から成る偏向器４及びビームスプリッタ５を介し
て、レーザ光源６より発光され九レーザビームＬξ＝よ
シマスフ１及びウエハ−２のアライメンＦマークＭ、Ｗ
上を示矢方向に走査すると、その散乱光は元の光路を逆
行しビームスプリッタ５を通過し集光レンズ７を介して
光電検出器８に達し、第１画一）に示すようなパルス信
号が検出器８で得られる。１１１２図の制御回路９はこ
のパルース信号をコンパレータ１ｏによっテ適ｍなｘｖ
ッシ二ホールド電圧Ｖでカットし、（ｆ）＋：示すこの
パルス列の中から、アライメントマークＭ、Ｗの間隔を
求め、マスク１とウェハー２の相対的な変位量を判定し
、モー遺１１．１２を駆動し、ステージ３を作動して位
置合せを行なうようになっている。
メントマーク上をレーザビーム等で走査し、これらの散
乱光な充電変換して電気的パルスに変え、このパルス位
置をカウンタ等で計測して位置合せなすることが広く行
なわれている。例えば第１図（１１）に示すようなアラ
イメントマークＭをマスクに、伽）に示すような１−り
Ｗをウェハーに描いて、第２図に示すような一構成の装
置によりマスク１とウェハー２のアライメントマーりＭ
、Ｗ上をレーザビームＬで、走査し、第１図（Ｃ）に示
す状態にマスク１とウェハー２の相対的な位置合せが行
なわれる。この場合第２図のステージ３上に載置された
ウェハー２は、位置合せ実施前は例えば第１図（ｄ）
Ｉｎ示すようにマスク１（二対して変位しているのが通
常である。この状態に於いて第２図１＝示すポリゴンイ
ラー等から成る偏向器４及びビームスプリッタ５を介し
て、レーザ光源６より発光され九レーザビームＬξ＝よ
シマスフ１及びウエハ−２のアライメンＦマークＭ、Ｗ
上を示矢方向に走査すると、その散乱光は元の光路を逆
行しビームスプリッタ５を通過し集光レンズ７を介して
光電検出器８に達し、第１画一）に示すようなパルス信
号が検出器８で得られる。１１１２図の制御回路９はこ
のパルース信号をコンパレータ１ｏによっテ適ｍなｘｖ
ッシ二ホールド電圧Ｖでカットし、（ｆ）＋：示すこの
パルス列の中から、アライメントマークＭ、Ｗの間隔を
求め、マスク１とウェハー２の相対的な変位量を判定し
、モー遺１１．１２を駆動し、ステージ３を作動して位
置合せを行なうようになっている。
然し一般に検出器８で得られる信号、即ちマークＭ、Ｗ
からの散乱光は、第６図伽）〜（Ｃ）に拡大して示すよ
うにマークＭ、Ｗの線１３の両端の縁部からの散乱光！
１、ｌＩの和！、であり、ｊ３は夷−のマークの幅畠よ
勤も一間的な拡が〉を有している。
からの散乱光は、第６図伽）〜（Ｃ）に拡大して示すよ
うにマークＭ、Ｗの線１３の両端の縁部からの散乱光！
１、ｌＩの和！、であり、ｊ３は夷−のマークの幅畠よ
勤も一間的な拡が〉を有している。
このためアライメントマーりＭ％Ｗが第４画一）に示す
ように近接し九場合に、検出器８の出方は絡４図−）に
示す波形Ｗのよう：：信号が重なる部分が現出する。こ
の状鯵では、マークＭ、Ｗ間の間隔を測定しても正しい
位置関係は求まらず、位置合せは開離である。従来では
このような場合にパルス信号が６個に分離するまで模索
的にマスク１又はウェハー２を移動するか、パルス信号
が分離するレベルまでスレッシュホールド電圧ＶＩＶ’
に上げる等の措置が必要であった。
ように近接し九場合に、検出器８の出方は絡４図−）に
示す波形Ｗのよう：：信号が重なる部分が現出する。こ
の状鯵では、マークＭ、Ｗ間の間隔を測定しても正しい
位置関係は求まらず、位置合せは開離である。従来では
このような場合にパルス信号が６個に分離するまで模索
的にマスク１又はウェハー２を移動するか、パルス信号
が分離するレベルまでスレッシュホールド電圧ＶＩＶ’
に上げる等の措置が必要であった。
然しアライメントマーりＭ、Ｗを小さく造ろうとすると
、ウェハー２のセット時にマスク１とウェハー２のアラ
イメントマークＭ、Ｗが１１４図（―）に示すように近
接したり又は重合する確率が非常に高（なる、従って！
−りＭ、Ｗを過度Ｋ ／Ｊ＼さくすると、模索駆動を繰
り返し位置合せに非常な特開が掛かるとか、位瞳台せが
できなくなる等の間履かあり、アライメントマー７、Ｍ
、Ｗを小さくする場合の大きな障害となっている。
、ウェハー２のセット時にマスク１とウェハー２のアラ
イメントマークＭ、Ｗが１１４図（―）に示すように近
接したり又は重合する確率が非常に高（なる、従って！
−りＭ、Ｗを過度Ｋ ／Ｊ＼さくすると、模索駆動を繰
り返し位置合せに非常な特開が掛かるとか、位瞳台せが
できなくなる等の間履かあり、アライメントマー７、Ｍ
、Ｗを小さくする場合の大きな障害となっている。
本発明の目的は、上述のようにアライメントマークが近
接した場合でも、模索駆動を繰り返して行なうことなし
に、或いはスレッシュホールド電圧を変えることなく、
各マーりの位置を求めることを可能とすると共に、マー
クが全く重合した場合でもＩＷＡの僅かの量の模索駆動
により、各マーりの位置を求めることを可能とするアラ
イメントマーク検出方法を提供す為ことにあり、その要
旨は、マスク及びウェハー上の７ライメント！−りを走
査し、マスク及びクエへ−の相対位置を検出する方法に
於いて、近接した或いは墓分的に重合したアライメント
マークからパルス信号を得て、個々のパルス−を基準パ
ルス幅と比較し１準幅より大きい場合には別々のパルス
に分離して、マスクとウニへ−のそれぞれのアライメン
ト！−りを識別することを特徴とするものである。
接した場合でも、模索駆動を繰り返して行なうことなし
に、或いはスレッシュホールド電圧を変えることなく、
各マーりの位置を求めることを可能とすると共に、マー
クが全く重合した場合でもＩＷＡの僅かの量の模索駆動
により、各マーりの位置を求めることを可能とするアラ
イメントマーク検出方法を提供す為ことにあり、その要
旨は、マスク及びウェハー上の７ライメント！−りを走
査し、マスク及びクエへ−の相対位置を検出する方法に
於いて、近接した或いは墓分的に重合したアライメント
マークからパルス信号を得て、個々のパルス−を基準パ
ルス幅と比較し１準幅より大きい場合には別々のパルス
に分離して、マスクとウニへ−のそれぞれのアライメン
ト！−りを識別することを特徴とするものである。
本発明を第５図以下に図示の実施例に基づいて詳細に説
明する。
明する。
菖５＃Ａは本発明に係る方法を実現するための装置の−
ＩＩ論例を示し、第２図と同一符号は同一部材を示して
いる０点線で囲む回路はパルスの分離ｍ＊２Ｄであり、
その出力は偏向器４０同期信号と共にパルス間隔測定回
路２１に入力されている。
ＩＩ論例を示し、第２図と同一符号は同一部材を示して
いる０点線で囲む回路はパルスの分離ｍ＊２Ｄであり、
その出力は偏向器４０同期信号と共にパルス間隔測定回
路２１に入力されている。
又、この測定−路２１はマイクロコンビエータ等の０Ｐ
Ｕ２２と接続され、この０ＰＵ２２の指令に基づいて作
動するステージ駆動回路２６を介して、ステージ６を移
動するモータ１１，１２が駆動されるようＫなっている
。
Ｕ２２と接続され、この０ＰＵ２２の指令に基づいて作
動するステージ駆動回路２６を介して、ステージ６を移
動するモータ１１，１２が駆動されるようＫなっている
。
上記の構成に於いて、レーザ光源６から発せらハたレー
ザ光りはマスク１及びウェハー２上のアライメントマー
クＭ及びＷで散乱され、検出器８で検知される。先ずＯ
ＰＵ、２２は１本のマークからの第６図に示す信号幅ｂ
Ｋ相当する時間を作るため、成る値を分ｍｔｍ路２０内
のラッテる０にセットする。又、信号幅すよりも幾らか
短かい時間Ｃを作るため別の値をラッチ！ＩＫ−にッ卜
する。
ザ光りはマスク１及びウェハー２上のアライメントマー
クＭ及びＷで散乱され、検出器８で検知される。先ずＯ
ＰＵ、２２は１本のマークからの第６図に示す信号幅ｂ
Ｋ相当する時間を作るため、成る値を分ｍｔｍ路２０内
のラッテる０にセットする。又、信号幅すよりも幾らか
短かい時間Ｃを作るため別の値をラッチ！ＩＫ−にッ卜
する。
これらの値は、コンパレータ１０の出力が低レベルの期
間、即ちマーりＭ％Ｗ′力・らの信号がな６１期間に、
カウンタ回路６２はこのプリセットによりマークＭ％Ｗ
の線からの信号幅すに相当する時間をフリップフロップ
回路（以下ＦＦ回路という）６４のセットと共に計数す
る。一方、カウンタ回路６６は、カウンタ回路３２とプ
リセットされ計数を開始するが、この計数量はカクン／
回路６２よりも、幾らか少ない値εである。
間、即ちマーりＭ％Ｗ′力・らの信号がな６１期間に、
カウンタ回路６２はこのプリセットによりマークＭ％Ｗ
の線からの信号幅すに相当する時間をフリップフロップ
回路（以下ＦＦ回路という）６４のセットと共に計数す
る。一方、カウンタ回路６６は、カウンタ回路３２とプ
リセットされ計数を開始するが、この計数量はカクン／
回路６２よりも、幾らか少ない値εである。
マスク１及びウェハー２のマークＭ、Ｗが第６図（ａ）
に示すように近接した場合に、検出ｓ８の出力は第６図
か）に示すように現われる、この検出信号は、コンパレ
ータ１０を通勤、第６図（Ｃ）に示すパルス群となり、
これらのパルス群が到達するごとにＦＰｌｉ路２４及び
！ｉ＋５はセットされる。カウンタ回路３６はｅ゛の時
間が経過した後ＦＦ１ｌ路６５をクリアするため、論理
和ゲート３６のＦＦ回路３５からの入力には、第６図＠
）に示す波形が現われる。一方、カウンタ回路３２はｂ
の時間が経過した後にＦＦ回路３４をリセットし、この
後もコンパレータ１０の出力レベルが高レベルであれば
ゲート３７で論理積が成立し、第６同感）に示す波形が
論理積ゲート３７の出力に現われ、その出力は論理和ゲ
ート３６に加えられる。従って論理和ゲート！１６の出
力、即ちパルス間隔測定回路２１への出力としては分離
された第６図（０に示すパルスが得られることになる。
に示すように近接した場合に、検出ｓ８の出力は第６図
か）に示すように現われる、この検出信号は、コンパレ
ータ１０を通勤、第６図（Ｃ）に示すパルス群となり、
これらのパルス群が到達するごとにＦＰｌｉ路２４及び
！ｉ＋５はセットされる。カウンタ回路３６はｅ゛の時
間が経過した後ＦＦ１ｌ路６５をクリアするため、論理
和ゲート３６のＦＦ回路３５からの入力には、第６図＠
）に示す波形が現われる。一方、カウンタ回路３２はｂ
の時間が経過した後にＦＦ回路３４をリセットし、この
後もコンパレータ１０の出力レベルが高レベルであれば
ゲート３７で論理積が成立し、第６同感）に示す波形が
論理積ゲート３７の出力に現われ、その出力は論理和ゲ
ート３６に加えられる。従って論理和ゲート！１６の出
力、即ちパルス間隔測定回路２１への出力としては分離
された第６図（０に示すパルスが得られることになる。
以後０ＰＵ２２はパルス間隔測定回路２１の出力を基に
マスク１とウェハー２のずれ量を算出し、ステージ駆動
回路２３を介してＸ方向モータ１１、Ｘ方向モータ１２
を駆動し位置合せを行なうこと１＝なる。
マスク１とウェハー２のずれ量を算出し、ステージ駆動
回路２３を介してＸ方向モータ１１、Ｘ方向モータ１２
を駆動し位置合せを行なうこと１＝なる。
第６図（ｄ）に示す各パルスでは立下セの部分が、（ｅ
）に示すパルスでは立ぢ１抄の部分が誤差を有している
が、これを無視し、粗合せとして位置合せを行ない、第
６図（Ｃ）の重なり部分を分離し先後、ＯＰ ＴＪ ２
２からの信号により第５図のスイッチ３８を切換え、再
度検出器８からの検出信号を取）込めば、各マークＭ、
Ｗの精密位置が求まり、精密な位置合せが可能となる。
）に示すパルスでは立ぢ１抄の部分が誤差を有している
が、これを無視し、粗合せとして位置合せを行ない、第
６図（Ｃ）の重なり部分を分離し先後、ＯＰ ＴＪ ２
２からの信号により第５図のスイッチ３８を切換え、再
度検出器８からの検出信号を取）込めば、各マークＭ、
Ｗの精密位置が求まり、精密な位置合せが可能となる。
第７図は各パルスの立上り位置と、そのパルス幅を測定
しＯＰ ｔＪ ２２に取り込めるようにした場合の方法
を実現するための装置の実施例である。
しＯＰ ｔＪ ２２に取り込めるようにした場合の方法
を実現するための装置の実施例である。
第７図書；於いて、４０はコンパレータ１０からの入力
パルス信号を基に、パルス幅測定用カラン、り回路４１
の計数値をメモリ回路４２にへ書き込む丸めのタイミン
グを発生するタイミング回路、４３はコンパレータ１０
からの各パルスの到来ごとにカウントアツプ１２、メモ
リ回路４２のアドレスな更新するアドレスカウンタ回路
４４は偏向器４からの同期信号によってセットされる。
パルス信号を基に、パルス幅測定用カラン、り回路４１
の計数値をメモリ回路４２にへ書き込む丸めのタイミン
グを発生するタイミング回路、４３はコンパレータ１０
からの各パルスの到来ごとにカウントアツプ１２、メモ
リ回路４２のアドレスな更新するアドレスカウンタ回路
４４は偏向器４からの同期信号によってセットされる。
ＦＦ回路４５は各信号パルスの到来ごとに出力Ｑ−Ｑ、
を遂次高レベルとし、パルス位置計測用カウンタ回路４
６〜４８を停止してゆくシフトレジスタ、４９は計測用
クロックの発振器である。
を遂次高レベルとし、パルス位置計測用カウンタ回路４
６〜４８を停止してゆくシフトレジスタ、４９は計測用
クロックの発振器である。
上記構成に於いて、０ＰＵ２２は先ずクリアライン５０
１：よシＦＦ回路４４、シフトレジスタ４５、及び各カ
ウンタ回路をクリアする。次に偏向器４からの同期信号
によって、ＦＦ回路４４はセットされ、論理積ゲート５
１及び５２を開き計６個のカウンタ囲路が計数を開始す
る。そしてコンパレータ１０からパルス信号が入力する
と、羊の高レベルの期間をカウンタ・回路４１が計測し
、カウンタ回路４６はシフトレジスタ４５のＱ、出力の
高レベルにより計測を停止する。カウンタ回路４１の値
はコンパレーター１０の出力が低レベルに戻つ先後にタ
イミング回路４０によってメモリ回路４２に書き込まれ
る。冑、書き込み先のメモリアドレスはアドレスカウン
タ回路４Ｂによって指定される。以後、６番目のパルス
の信号の終了オで、アドレスカウンタ回路４６は各パル
スごとにカウントアツプすることにより、メモリ回路４
２のアドレスを更新し、カウンタ回路４１の計測値はそ
のアドレスに格納されてゆく、又、カウンタ回路４６〜
４８は各パルス信号の到来ごと６＝その立上り位置を記
憶して順次停止する。冑、５３は論理積ゲート、４５は
アドレスデコード回路であり、走査終了後ζ二０ Ｐ
Ｕ ２２は、メモリ回路４２及びカウンタ回路４６〜４
８の値を読み出し、近接したマークからの重なった信号
が存在すればこれらを分離する。
１：よシＦＦ回路４４、シフトレジスタ４５、及び各カ
ウンタ回路をクリアする。次に偏向器４からの同期信号
によって、ＦＦ回路４４はセットされ、論理積ゲート５
１及び５２を開き計６個のカウンタ囲路が計数を開始す
る。そしてコンパレータ１０からパルス信号が入力する
と、羊の高レベルの期間をカウンタ・回路４１が計測し
、カウンタ回路４６はシフトレジスタ４５のＱ、出力の
高レベルにより計測を停止する。カウンタ回路４１の値
はコンパレーター１０の出力が低レベルに戻つ先後にタ
イミング回路４０によってメモリ回路４２に書き込まれ
る。冑、書き込み先のメモリアドレスはアドレスカウン
タ回路４Ｂによって指定される。以後、６番目のパルス
の信号の終了オで、アドレスカウンタ回路４６は各パル
スごとにカウントアツプすることにより、メモリ回路４
２のアドレスを更新し、カウンタ回路４１の計測値はそ
のアドレスに格納されてゆく、又、カウンタ回路４６〜
４８は各パルス信号の到来ごと６＝その立上り位置を記
憶して順次停止する。冑、５３は論理積ゲート、４５は
アドレスデコード回路であり、走査終了後ζ二０ Ｐ
Ｕ ２２は、メモリ回路４２及びカウンタ回路４６〜４
８の値を読み出し、近接したマークからの重なった信号
が存在すればこれらを分離する。
次にその処理について説明すると、今、計測したパルス
のうちの１個が第８図（ａ）のように１個のアライメン
トマークから得られるべ舞基準幅ｄよりも広い値Ｃであ
るとする。この場合ＣＩＰＵ２２はこれを２本のパルス
の重なりと判定し、カウンタ回路で計測したパレスの立
上９位置ｆ及び基準幅ｄを基に、２本のパルスの中心＠
ｆ＋ｄ／２、ｆ＋ｅ−ｄ／’ｌ を算出する。そして
この位置を（ｅ）に示すように１−りの中心位置と判定
し、マスク１とウェハー２との変位量を求め位置合せを
行なう。
のうちの１個が第８図（ａ）のように１個のアライメン
トマークから得られるべ舞基準幅ｄよりも広い値Ｃであ
るとする。この場合ＣＩＰＵ２２はこれを２本のパルス
の重なりと判定し、カウンタ回路で計測したパレスの立
上９位置ｆ及び基準幅ｄを基に、２本のパルスの中心＠
ｆ＋ｄ／２、ｆ＋ｅ−ｄ／’ｌ を算出する。そして
この位置を（ｅ）に示すように１−りの中心位置と判定
し、マスク１とウェハー２との変位量を求め位置合せを
行なう。
又、例えば第９図（ａ）及びΦ）に示すようなアライメ
ントマークＭ％Ｗを使用して（Ｃ）に示すように位置合
せを行なう場合に（ｄ）に・示すようにマスク１と’）
工／％ −２ノマークＭ％Ｗが全く重合した時でも、
信号が期待で１１これかも直ちに各マークＭ％Ｗの位置
（ｇ）を求める仁とが可能であシ、従来の限界を超えて
アライメント！−りＭ、Ｗを小さく造、る、即ちマーク
Ｍ、Ｗの線間の間隔を詰めることができる。１１、 以上の説明はマスク１とウェハー２のアライメントマー
クのＭ％Ｗの線の幅が同じ場合を想定しているが、マス
ク１とウェハー２でマークＭ％Ｗの線の幅が異なるとき
は、マスク１のセット時に手動でマスク１とウェハー２
とを整合状態に調整し、この時の各・パルス幅をｏｐｕ
２２が東り込むようにすれば、０ＰＵ２２により問題な
く処理できる。この場合はマスク１とウェハー２のマー
クＭ％Ｗかもの線の何れか広い方の信号幅を基準幅ｄと
して取プ込むことになる。上述の２つの実施例はマスク
１とウェハー２のアライメントマークＭ、Ｗからの６本
のパルスの間隔を測定し、マスク１とウェハー２の変位
量を求める方法に適用した場合であるが、本発明の方法
は基本的にそのアライメントマークＭ、Ｗのパターンの
本数、形状等に関係なく適用できるものである。アライ
メントマーク走査検出器としてテレビモニタを用いた場
合でも、本発明の方法はマスク１とウェハー２のマーク
Ｍ％Ｗが部分的４二重なってい゛ても２個の信号に分離
可能である。又これらの実施例は２つのマークＭ、Ｗが
近接した場合であるが、３つ以上のマークがそれぞれ近
接又は部分的に重合した場合でも同様の考えが適用でき
る。
ントマークＭ％Ｗを使用して（Ｃ）に示すように位置合
せを行なう場合に（ｄ）に・示すようにマスク１と’）
工／％ −２ノマークＭ％Ｗが全く重合した時でも、
信号が期待で１１これかも直ちに各マークＭ％Ｗの位置
（ｇ）を求める仁とが可能であシ、従来の限界を超えて
アライメント！−りＭ、Ｗを小さく造、る、即ちマーク
Ｍ、Ｗの線間の間隔を詰めることができる。１１、 以上の説明はマスク１とウェハー２のアライメントマー
クのＭ％Ｗの線の幅が同じ場合を想定しているが、マス
ク１とウェハー２でマークＭ％Ｗの線の幅が異なるとき
は、マスク１のセット時に手動でマスク１とウェハー２
とを整合状態に調整し、この時の各・パルス幅をｏｐｕ
２２が東り込むようにすれば、０ＰＵ２２により問題な
く処理できる。この場合はマスク１とウェハー２のマー
クＭ％Ｗかもの線の何れか広い方の信号幅を基準幅ｄと
して取プ込むことになる。上述の２つの実施例はマスク
１とウェハー２のアライメントマークＭ、Ｗからの６本
のパルスの間隔を測定し、マスク１とウェハー２の変位
量を求める方法に適用した場合であるが、本発明の方法
は基本的にそのアライメントマークＭ、Ｗのパターンの
本数、形状等に関係なく適用できるものである。アライ
メントマーク走査検出器としてテレビモニタを用いた場
合でも、本発明の方法はマスク１とウェハー２のマーク
Ｍ％Ｗが部分的４二重なってい゛ても２個の信号に分離
可能である。又これらの実施例は２つのマークＭ、Ｗが
近接した場合であるが、３つ以上のマークがそれぞれ近
接又は部分的に重合した場合でも同様の考えが適用でき
る。
以上説明したように本発明に係るアライメントマーり検
出方法は、アライメントマークからのパルス信号幅に着
目【２、成る基準のパルス幅よりも広いパルスについて
自、動的：＝２番目のパルスを発生畜せる手段を設ける
、又はパルス幅を測定し信号を分離して信号のあるべき
位置を予橢するという方式を採用している。従って近接
したマークからの重合し九信号に対しても、スレツシエ
ホールド電圧の切り上げや模索駆動等を行なわずに、更
にはマスクとウェハー用書二別々の検出光学系を設置す
るこ−となく、キのアライメントマーク位置を検出する
ことができるのである。
出方法は、アライメントマークからのパルス信号幅に着
目【２、成る基準のパルス幅よりも広いパルスについて
自、動的：＝２番目のパルスを発生畜せる手段を設ける
、又はパルス幅を測定し信号を分離して信号のあるべき
位置を予橢するという方式を採用している。従って近接
したマークからの重合し九信号に対しても、スレツシエ
ホールド電圧の切り上げや模索駆動等を行なわずに、更
にはマスクとウェハー用書二別々の検出光学系を設置す
るこ−となく、キのアライメントマーク位置を検出する
ことができるのである。
第１図は従来のアライメントマークの検出方法の説明図
、第２図は従来の検出装置の構成図、第３図はマークか
ら得られる波形の説明図、第４図はマーク同志が接近し
た状態の検出信号の説明図、第５図は本発明の方法を実
現する検出回路の実施例の構成図、第６図は検出回路の
作動状態の説明図、第７図は他の実施例の検出回路の構
成図、第８図は重なった信号を処理する場合の説明図、
第９図はマーク同志が完全１１重なった場合の処理説明
図である。 符号１はマスク、２はウエノ・−１４は偏向器、８は検
出器、１０はコンパレータ、１１．１２はモータ、２０
は分離回路、２１はパルス間隔測定回路、２２はＯＰＵ
、２３はステージ駆動回路、Ｍ、Ｗはアライメントマー
クである。 特許出願人 キャノン株式会社図面 第１図 １１３ｗＪ ｊＩ７ＦＩＡ １ｓ８ＦＩＡ Ｊ１９図 （０）／／＼＼ （ｂ）／ ＼ （９） ” ’ ” 手続補正書（自発） 昭和５７年ｌＯ月３０日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５６年特許願１＠１７２４５６号 ２、発明の名称 アライメントマーク検出方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都大田区下丸子三丁目３０番２号名称（１０
０）キャノン株式会社 代表者 賀来龍三部 ４、代理人 〒１２１東京都足立区梅島二丁目１７番３号梅島ハイタ
ウンＣ−１０４ 昭和 年 月 自発ψ ８、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄 ７、補正の内容 明細書第１頁の特許請求の範囲を次の文章に補正する。 ［１，マスク及びウェハー上のアライメントマーク寺走
査し、マスク及びウェハーの相対位置を検出する方法に
於いて、近接した皮と１部分的に重合したアライメント
マークからパルス信号を得て、個々のパルス幅を基準パ
ルス幅と比較し基準幅より大きい場合には別々のパルス
に分離して、マスクｙウェハーのそれぞれの７ライメン
トマ一クＬｍＪＦＪ−土ｄ特徴とするアライメントマー
ク検出方法。 ２、予めマスクとウェハーのアライメントマークからの
パルス幅を測定し、これを基準パルス幅とする特許請求
の範囲第１項記載のアライメントマーク検出方法、」
、第２図は従来の検出装置の構成図、第３図はマークか
ら得られる波形の説明図、第４図はマーク同志が接近し
た状態の検出信号の説明図、第５図は本発明の方法を実
現する検出回路の実施例の構成図、第６図は検出回路の
作動状態の説明図、第７図は他の実施例の検出回路の構
成図、第８図は重なった信号を処理する場合の説明図、
第９図はマーク同志が完全１１重なった場合の処理説明
図である。 符号１はマスク、２はウエノ・−１４は偏向器、８は検
出器、１０はコンパレータ、１１．１２はモータ、２０
は分離回路、２１はパルス間隔測定回路、２２はＯＰＵ
、２３はステージ駆動回路、Ｍ、Ｗはアライメントマー
クである。 特許出願人 キャノン株式会社図面 第１図 １１３ｗＪ ｊＩ７ＦＩＡ １ｓ８ＦＩＡ Ｊ１９図 （０）／／＼＼ （ｂ）／ ＼ （９） ” ’ ” 手続補正書（自発） 昭和５７年ｌＯ月３０日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５６年特許願１＠１７２４５６号 ２、発明の名称 アライメントマーク検出方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都大田区下丸子三丁目３０番２号名称（１０
０）キャノン株式会社 代表者 賀来龍三部 ４、代理人 〒１２１東京都足立区梅島二丁目１７番３号梅島ハイタ
ウンＣ−１０４ 昭和 年 月 自発ψ ８、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄 ７、補正の内容 明細書第１頁の特許請求の範囲を次の文章に補正する。 ［１，マスク及びウェハー上のアライメントマーク寺走
査し、マスク及びウェハーの相対位置を検出する方法に
於いて、近接した皮と１部分的に重合したアライメント
マークからパルス信号を得て、個々のパルス幅を基準パ
ルス幅と比較し基準幅より大きい場合には別々のパルス
に分離して、マスクｙウェハーのそれぞれの７ライメン
トマ一クＬｍＪＦＪ−土ｄ特徴とするアライメントマー
ク検出方法。 ２、予めマスクとウェハーのアライメントマークからの
パルス幅を測定し、これを基準パルス幅とする特許請求
の範囲第１項記載のアライメントマーク検出方法、」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 マスク及びウェハー上のアライメントマークを走
査し、１スク及びウェハーの相対位置を検出する方法に
於いて（近接し九或は部分的ζ二重合したアライメント
マークからパルス信号を得て。 個々のパルス幅を基準パルス幅と比較し基準幅より大き
い場合には別々のパルスに分離して、マスクとウェハー
のそれぞれのアライメントマークを特徴とするアライメ
ントマーク検出方法。 ２、予めマスクとウェハーのアライメントマークからの
パルス幅を測定し、これを基準パルス幅とする特許請求
の範囲第１項記載のアライメントマーク検出方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56172456A JPS5872945A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | アライメントマ−ク検出方法 |
| US06/435,959 US4504148A (en) | 1981-10-28 | 1982-10-22 | System for detecting a signal for aligning two bodies and signal _processing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56172456A JPS5872945A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | アライメントマ−ク検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5872945A true JPS5872945A (ja) | 1983-05-02 |
Family
ID=15942322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56172456A Pending JPS5872945A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | アライメントマ−ク検出方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4504148A (ja) |
| JP (1) | JPS5872945A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63271468A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Konica Corp | 負電荷潜像現像剤 |
| JPS63284564A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-11-21 | Konica Corp | 負電荷潜像現像剤 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4794648A (en) * | 1982-10-25 | 1988-12-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Mask aligner with a wafer position detecting device |
| JPS5994419A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-31 | Canon Inc | 分割焼付け装置におけるアライメント方法 |
| US4641257A (en) * | 1983-07-07 | 1987-02-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement method and apparatus for alignment |
| US4643579A (en) * | 1983-11-21 | 1987-02-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Aligning method |
| JPS6298725A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | Canon Inc | 信号検出装置 |
| US5477057A (en) * | 1994-08-17 | 1995-12-19 | Svg Lithography Systems, Inc. | Off axis alignment system for scanning photolithography |
| US5767523A (en) * | 1997-04-09 | 1998-06-16 | Svg Lithography Systems, Inc. | Multiple detector alignment system for photolithography |
| US6628406B1 (en) * | 2000-04-20 | 2003-09-30 | Justin L. Kreuzer | Self referencing mark independent alignment sensor |
| JP3873811B2 (ja) * | 2002-05-15 | 2007-01-31 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| US7511826B2 (en) * | 2006-02-27 | 2009-03-31 | Asml Holding N.V. | Symmetrical illumination forming system and method |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4021117A (en) * | 1975-08-07 | 1977-05-03 | Hildegard Gohde | Process for automatic counting and measurement of particles |
| JPS5952535B2 (ja) * | 1977-01-21 | 1984-12-20 | キヤノン株式会社 | 光学装置 |
-
1981
- 1981-10-28 JP JP56172456A patent/JPS5872945A/ja active Pending
-
1982
- 1982-10-22 US US06/435,959 patent/US4504148A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63271468A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Konica Corp | 負電荷潜像現像剤 |
| JPS63284564A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-11-21 | Konica Corp | 負電荷潜像現像剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4504148A (en) | 1985-03-12 |
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